JPH0254302B2 - - Google Patents
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- JPH0254302B2 JPH0254302B2 JP58084795A JP8479583A JPH0254302B2 JP H0254302 B2 JPH0254302 B2 JP H0254302B2 JP 58084795 A JP58084795 A JP 58084795A JP 8479583 A JP8479583 A JP 8479583A JP H0254302 B2 JPH0254302 B2 JP H0254302B2
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- JP
- Japan
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- thin film
- solution
- porous
- present
- metal
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は多孔性セラミツクス薄膜およびその製
造法に関する。
造法に関する。
多孔性セラミツクスは従来より断熱材の用途と
して多量に使用されており、最近では固定化酸素
吸着担体、触媒担体、隔膜材料などとしての巾広
い応用も手がけられている。
して多量に使用されており、最近では固定化酸素
吸着担体、触媒担体、隔膜材料などとしての巾広
い応用も手がけられている。
一方、セラミツクスそのものの電気的および化
学的特性を生かした機能性セラミツクス材料の開
発が盛んに進められており、とくにセンサーとし
ての応用が検討されている。
学的特性を生かした機能性セラミツクス材料の開
発が盛んに進められており、とくにセンサーとし
ての応用が検討されている。
センサーにおいては主としてセラミツクスの表
面に起る化学的および電子的な変化を電気的に取
り出すことによりその機能が発揮されており、し
たがつてセラミツクス表面の活性および表面吸着
特性が重要であり、表面を多孔質化する検討も進
められている。しかしながら従来の多孔質化方法
は粒子径の大きいものをすき間だらけに固めると
いつた方法であり、多孔質化の目的である表面積
を増やして特性を高めるという効果はそれほど期
待できない。
面に起る化学的および電子的な変化を電気的に取
り出すことによりその機能が発揮されており、し
たがつてセラミツクス表面の活性および表面吸着
特性が重要であり、表面を多孔質化する検討も進
められている。しかしながら従来の多孔質化方法
は粒子径の大きいものをすき間だらけに固めると
いつた方法であり、多孔質化の目的である表面積
を増やして特性を高めるという効果はそれほど期
待できない。
本発明は従来とまつたく異なる方法で高機能性
の多孔性セラミツクス薄膜を製造する方法を提供
することを目的とする。さらに詳しくは、従来の
多孔体や発泡体の製造法である固相反応法、溶融
発泡法とは異なり、有機金属化合物、好ましくは
金属アルコキシドおよびその加水分解物の熱分解
反応により無機化する課程で直接多孔性セラミツ
クス薄膜を製造する方法を提供することを目的と
する。本発明の方法によるときは、従来えられな
かつた種々の高機能性のセラミツクスの多孔性薄
膜をうることができる。
の多孔性セラミツクス薄膜を製造する方法を提供
することを目的とする。さらに詳しくは、従来の
多孔体や発泡体の製造法である固相反応法、溶融
発泡法とは異なり、有機金属化合物、好ましくは
金属アルコキシドおよびその加水分解物の熱分解
反応により無機化する課程で直接多孔性セラミツ
クス薄膜を製造する方法を提供することを目的と
する。本発明の方法によるときは、従来えられな
かつた種々の高機能性のセラミツクスの多孔性薄
膜をうることができる。
金属アルコキシドは、加水分解後または直接熱
分解することにより従来にない粒径の小さい均一
性の富んだセラミツクス原料がえられることで最
近注目されている。また、金属アルコキシド溶液
を基板に塗布して熱分解することにより、セラミ
ツクス薄膜がえられることも知られている。
分解することにより従来にない粒径の小さい均一
性の富んだセラミツクス原料がえられることで最
近注目されている。また、金属アルコキシド溶液
を基板に塗布して熱分解することにより、セラミ
ツクス薄膜がえられることも知られている。
本発明者らは金属アルコキシドなどの有機金属
化合物を用いるセラミツクス薄膜の製造法の検討
を進め、有機金属化合物溶液中に種々の有機物を
添加してその膜質を評価しているうちに、ある種
の組合せにするときに他にみられない特異性をも
つた多孔性セラミツク薄膜がえられることを見出
し、本発明に到達した。
化合物を用いるセラミツクス薄膜の製造法の検討
を進め、有機金属化合物溶液中に種々の有機物を
添加してその膜質を評価しているうちに、ある種
の組合せにするときに他にみられない特異性をも
つた多孔性セラミツク薄膜がえられることを見出
し、本発明に到達した。
すなわち本発明は、有機金属化合物と多官能性
有機化合物を含む溶液を基材に塗布後、熱分解す
ることを特徴とする多孔性セラミツクス薄膜の製
造法に関する。本発明の方法によるときは、従来
製造することができなかつた孔径10μｍ以下の多
孔性セラミツクス薄膜がえられる。
有機化合物を含む溶液を基材に塗布後、熱分解す
ることを特徴とする多孔性セラミツクス薄膜の製
造法に関する。本発明の方法によるときは、従来
製造することができなかつた孔径10μｍ以下の多
孔性セラミツクス薄膜がえられる。
本発明に用いる有機金属化合物としては各種の
有機金属錯体が使用できるが、とくに金属アルコ
キシドが好ましい。
有機金属錯体が使用できるが、とくに金属アルコ
キシドが好ましい。
金属アルコキシドとしては、たとえば一般式Ｍ
（OR）ａ（Ｘ）ｂで示される単一金属アルコキシ
ド、一般式Ｍ〔Ｎ（OR）ｃ〕ｄで示される複合金
属アルコキシドおよびそれらの縮合多量体があげ
られる。前記一般式において、ＭおよびＮは金属
元素、Ｒは炭素数１〜20個の同じかまたは異なる
アルキル基またはアリール基、Ｘは酸素原子、ハ
ロゲン原子、水酸基またはβ−ジケトンや有機カ
ルボンなどの金属とキレートを形成する有機化合
物の残基、ａ、ｃおよびｄはそれぞれ正の整数、
ｂは０または正の整数であつて、ａ、ｂ、ｃおよ
びｄはいずれもＭ、Ｎの金属の価数に関与する数
値を表わす。
（OR）ａ（Ｘ）ｂで示される単一金属アルコキシ
ド、一般式Ｍ〔Ｎ（OR）ｃ〕ｄで示される複合金
属アルコキシドおよびそれらの縮合多量体があげ
られる。前記一般式において、ＭおよびＮは金属
元素、Ｒは炭素数１〜20個の同じかまたは異なる
アルキル基またはアリール基、Ｘは酸素原子、ハ
ロゲン原子、水酸基またはβ−ジケトンや有機カ
ルボンなどの金属とキレートを形成する有機化合
物の残基、ａ、ｃおよびｄはそれぞれ正の整数、
ｂは０または正の整数であつて、ａ、ｂ、ｃおよ
びｄはいずれもＭ、Ｎの金属の価数に関与する数
値を表わす。
好ましい金属アルコキシドとしては添加される
多官能性有機化合物と架橋的な結合をもたせる意
味から、２価以上の金属の金属アルコキシドおよ
びその縮合多量体があげられる。かかる金属とし
ては、たとえば亜鉛、アルミニウム、アンチモ
ン、イツトリウム、インジウム、カドミウム、ガ
ドリニウム、ガリウム、カルシウム、クロム、シ
リコン、ゲルマニウム、コバルト、サマリウム、
ジルコニウム、錫、ストロンチウム、セシウム、
セリウム、セレン、タングステン、タンタル、チ
タン、鉄、銅、ニオブ、ニツケル、バナジウム、
バリウム、ビスマス、ホウ素、マグネシウム、マ
ンガン、モリブデン、ランタンなどがあげられ、
アルコキシ基としてはとくに炭素数１〜６個のア
ルコキシ基、たとえばメトキシド、エトキシド、
ｎ−プロポキシド、イソプロポキシド、ｎ−ブト
キシド、ターシヤリブトキシドなどが好ましい。
なおこれらの金属アルコキシドは、一部ハロゲン
原子、水酸基またはその他のアルコキシ基と別の
有機官能基を含む部分金属アルコキシドであつて
もよい。また２種以上の金属を含む多孔性セラミ
ツクス薄膜を製造するときは複合金属アルコキシ
ドを用いるか、ほぼ同程度の加水分解特性に調整
されている２種以上の金属アルコキシドの混合溶
液を用いるか、またはあらかじめ金属アルコキシ
ドと金属キレートおよび（または）金属カルボン
酸との混合溶液もしくは反応生成物を用いればよ
い。
多官能性有機化合物と架橋的な結合をもたせる意
味から、２価以上の金属の金属アルコキシドおよ
びその縮合多量体があげられる。かかる金属とし
ては、たとえば亜鉛、アルミニウム、アンチモ
ン、イツトリウム、インジウム、カドミウム、ガ
ドリニウム、ガリウム、カルシウム、クロム、シ
リコン、ゲルマニウム、コバルト、サマリウム、
ジルコニウム、錫、ストロンチウム、セシウム、
セリウム、セレン、タングステン、タンタル、チ
タン、鉄、銅、ニオブ、ニツケル、バナジウム、
バリウム、ビスマス、ホウ素、マグネシウム、マ
ンガン、モリブデン、ランタンなどがあげられ、
アルコキシ基としてはとくに炭素数１〜６個のア
ルコキシ基、たとえばメトキシド、エトキシド、
ｎ−プロポキシド、イソプロポキシド、ｎ−ブト
キシド、ターシヤリブトキシドなどが好ましい。
なおこれらの金属アルコキシドは、一部ハロゲン
原子、水酸基またはその他のアルコキシ基と別の
有機官能基を含む部分金属アルコキシドであつて
もよい。また２種以上の金属を含む多孔性セラミ
ツクス薄膜を製造するときは複合金属アルコキシ
ドを用いるか、ほぼ同程度の加水分解特性に調整
されている２種以上の金属アルコキシドの混合溶
液を用いるか、またはあらかじめ金属アルコキシ
ドと金属キレートおよび（または）金属カルボン
酸との混合溶液もしくは反応生成物を用いればよ
い。
本発明に用いる多官能性有機化合物としては、
たとえばハロゲン原子、アミノ基、イミド基、カ
ルボキシル基、カルボニル基、水酸基、エポキシ
基などの同種または異種の官能基を分子内に２個
以上含む化合物があげられ、それらのうち分子内
に水酸基を２個以上含む有機化合物がとくに好ま
しい。
たとえばハロゲン原子、アミノ基、イミド基、カ
ルボキシル基、カルボニル基、水酸基、エポキシ
基などの同種または異種の官能基を分子内に２個
以上含む化合物があげられ、それらのうち分子内
に水酸基を２個以上含む有機化合物がとくに好ま
しい。
分子内に水酸基を２個以上含む有機化合物とし
ては、とくにアルコール性水酸基を含むものが好
ましく、多価アルコール類、デンプン、セルロー
スなどがあげられる。具体例としては、たとえば
グリセリン、１，４−ブタンジオール、ペンタエ
リスリトール、デキストリン、アルギン酸、メチ
ルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシメチルデンプン、ヒドロキシエチルデ
ンプン、ポリビニルアルコールなどの１種または
２種以上の混合物があげられる。
ては、とくにアルコール性水酸基を含むものが好
ましく、多価アルコール類、デンプン、セルロー
スなどがあげられる。具体例としては、たとえば
グリセリン、１，４−ブタンジオール、ペンタエ
リスリトール、デキストリン、アルギン酸、メチ
ルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシメチルデンプン、ヒドロキシエチルデ
ンプン、ポリビニルアルコールなどの１種または
２種以上の混合物があげられる。
本発明に用いる溶液は有機金属化合物と多官能
性有機化合物をたとえば共通溶媒に溶解してえら
れる。共通溶媒としては、たとえば炭素数１〜20
個のアルコール類；ケトン類；エステル類；ベン
ゼン、トルエンなどの芳香族溶媒；ジメチルホル
ムアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどのチツ素含有有機溶媒の１種
または２種以上の混合溶媒があげられる。それら
の溶媒は用いる有機金属化合物と多官能性有機化
合物の種類や組合せによつて適宜選ばれる。
性有機化合物をたとえば共通溶媒に溶解してえら
れる。共通溶媒としては、たとえば炭素数１〜20
個のアルコール類；ケトン類；エステル類；ベン
ゼン、トルエンなどの芳香族溶媒；ジメチルホル
ムアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどのチツ素含有有機溶媒の１種
または２種以上の混合溶媒があげられる。それら
の溶媒は用いる有機金属化合物と多官能性有機化
合物の種類や組合せによつて適宜選ばれる。
さらに本発明において、本発明の目的を妨げな
い添加物、たとえば無機または有機金属塩、増粘
剤、安定剤などを添加してもよい。
い添加物、たとえば無機または有機金属塩、増粘
剤、安定剤などを添加してもよい。
本発明の方法の好ましい実施態様としては、た
とえば有機金属化合物と多官能性有機化合物を共
通溶媒に溶解させ、好ましくは熱処理により反応
せしめた溶液を基材上に塗布後、加熱して熱分解
させる方法があげられる。共通溶媒に溶解させた
のちの熱処理は、有機金属化合物と多官能性有機
化合物との反応を促進させるために行なうもので
あり、溶媒の沸点以下で還流させるのが好まし
い。
とえば有機金属化合物と多官能性有機化合物を共
通溶媒に溶解させ、好ましくは熱処理により反応
せしめた溶液を基材上に塗布後、加熱して熱分解
させる方法があげられる。共通溶媒に溶解させた
のちの熱処理は、有機金属化合物と多官能性有機
化合物との反応を促進させるために行なうもので
あり、溶媒の沸点以下で還流させるのが好まし
い。
基材上への溶液の塗布法としては、従来の金属
アルコキシドの溶液を用いる酸化物薄膜の製造法
と同じ方法が採用できる。それらの方法としては
たとえばスプレー法、デイピング法、スピンコー
ター法などがあげられる。
アルコキシドの溶液を用いる酸化物薄膜の製造法
と同じ方法が採用できる。それらの方法としては
たとえばスプレー法、デイピング法、スピンコー
ター法などがあげられる。
溶液中の有機金属化合物の量としては、金属成
分として0.5〜20％（重量％、以下同様）、とくに
３〜10％が好ましく、多官能性有機化合物の比率
はその種類や有機金属化合物の種類や量によつて
変わるが、通常有機金属化合物に対して0.5〜100
％、とくに５〜30％の範囲でよい結果がえられ
る。
分として0.5〜20％（重量％、以下同様）、とくに
３〜10％が好ましく、多官能性有機化合物の比率
はその種類や有機金属化合物の種類や量によつて
変わるが、通常有機金属化合物に対して0.5〜100
％、とくに５〜30％の範囲でよい結果がえられ
る。
熱分解は基材上に塗布された膜を乾燥後または
大気中の水分などで加水分解させたのち、200℃
以上に加熱することにより行なうのが好ましく、
必要ならさらに焼成してもよい。
大気中の水分などで加水分解させたのち、200℃
以上に加熱することにより行なうのが好ましく、
必要ならさらに焼成してもよい。
基材は熱分解および焼成温度に耐えうるもので
あればよく、たとえばポリイミド、ガラス、セラ
ミツクス、金属などがあげられる。
あればよく、たとえばポリイミド、ガラス、セラ
ミツクス、金属などがあげられる。
かかる本発明の方法により、従来製造すること
ができなかつた多孔性セラミツクス薄膜がえられ
る。その多孔性セラミツクス薄膜は基体上に支持
された孔径が10μｍ以下、好ましくは5μｍ以下の
孔を有するものである。
ができなかつた多孔性セラミツクス薄膜がえられ
る。その多孔性セラミツクス薄膜は基体上に支持
された孔径が10μｍ以下、好ましくは5μｍ以下の
孔を有するものである。
本発明の多孔化現象についての詳しい解明はな
されていないが、たとえば金属アルコキシドと分
子内にアルコール性水酸基を含む多官能性有機化
合物とを共存させると、一種のアルコキシ基の交
換反応が起り金属アルコキシドが多官能性有機化
合物と反応して架橋状態となり、ついで薄膜化し
て熱分解すると増粘して発泡しながら熱分解を起
すことによつて、無機多孔体薄膜が形成されるも
のと考えられる。
されていないが、たとえば金属アルコキシドと分
子内にアルコール性水酸基を含む多官能性有機化
合物とを共存させると、一種のアルコキシ基の交
換反応が起り金属アルコキシドが多官能性有機化
合物と反応して架橋状態となり、ついで薄膜化し
て熱分解すると増粘して発泡しながら熱分解を起
すことによつて、無機多孔体薄膜が形成されるも
のと考えられる。
本発明の多孔性セラミツクス薄膜の孔径は、主
として有機金属化合物の種類、添加される多官能
性有機化合物の種類、それらの配合比率、溶液化
したのちの熱処理条件、熱分解条件、焼成条件、
基板の種類などによつて支配されるが、10μｍ超
えるときは薄膜の強度が弱くなり、好ましくな
い。開孔率〔全表面積（孔部＋非孔部）に対する
孔部面積の％〕は10％以上が好ましく、強度面か
らは90％以下であるのが好ましい。
として有機金属化合物の種類、添加される多官能
性有機化合物の種類、それらの配合比率、溶液化
したのちの熱処理条件、熱分解条件、焼成条件、
基板の種類などによつて支配されるが、10μｍ超
えるときは薄膜の強度が弱くなり、好ましくな
い。開孔率〔全表面積（孔部＋非孔部）に対する
孔部面積の％〕は10％以上が好ましく、強度面か
らは90％以下であるのが好ましい。
本発明の多孔性セラミツクス薄膜の膜厚は、通
常50μｍ以下、好ましくは20μｍ以下である。50μ
ｍよりも厚くなると熱分解時に発生するガスが膜
内部にこもつたり、炭化成分が残留したりするた
め好ましくない。
常50μｍ以下、好ましくは20μｍ以下である。50μ
ｍよりも厚くなると熱分解時に発生するガスが膜
内部にこもつたり、炭化成分が残留したりするた
め好ましくない。
つぎに実施例をあげて本発明を説明するが、本
発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
実施例 １
テトラエチルシリケートの４量体（商品名エチ
ルシリケート40、コルコート化学社製）50ｇを
100ｇの無水イソプロピルアルコールに溶解させ
たのち、これに１％の塩酸水溶液を２％含むエチ
ルアルコール溶液を攪拌しながら20ｇ滴下したと
ころ、少量の発熱を伴つて均一な透明溶液となつ
た。さらにこの溶液中に３％ヒドロキシエチルセ
ルロースを含むエチルアルコール溶液を20ｇ加え
て攪拌しながら20分間還流を行ない、粘性溶液を
えた。
ルシリケート40、コルコート化学社製）50ｇを
100ｇの無水イソプロピルアルコールに溶解させ
たのち、これに１％の塩酸水溶液を２％含むエチ
ルアルコール溶液を攪拌しながら20ｇ滴下したと
ころ、少量の発熱を伴つて均一な透明溶液となつ
た。さらにこの溶液中に３％ヒドロキシエチルセ
ルロースを含むエチルアルコール溶液を20ｇ加え
て攪拌しながら20分間還流を行ない、粘性溶液を
えた。
えられた溶液を厚さ0.3mmのステンレス板上に
10cm／分の引上げ速度でデイツプコーテイングし
常温乾燥後、マツフル炉にて５℃／分の昇温速度
で500℃まで昇温し、１時間保つたのち放冷して
シリカ薄膜をえた。
10cm／分の引上げ速度でデイツプコーテイングし
常温乾燥後、マツフル炉にて５℃／分の昇温速度
で500℃まで昇温し、１時間保つたのち放冷して
シリカ薄膜をえた。
えられたステンレス基板上のシリカ薄膜は透明
性を有しており、走査型電子顕微鏡による観察の
結果、厚さ約0.4μｍで孔径約0.2〜0.5μの均一性の
ある多孔性薄膜であつた。第１図に多孔性のシリ
カ薄膜の表面の走査型電子顕微鏡写真（6000倍）
のスケツチ図を示す。
性を有しており、走査型電子顕微鏡による観察の
結果、厚さ約0.4μｍで孔径約0.2〜0.5μの均一性の
ある多孔性薄膜であつた。第１図に多孔性のシリ
カ薄膜の表面の走査型電子顕微鏡写真（6000倍）
のスケツチ図を示す。
実施例 ２
インジウムトリイソプロポキシド10ｇを100ｇ
の無水エチルアルコールに溶かし、さらに３％の
グリセリンを含むエチルアルコール溶液を10ｇ攪
拌しながら加え、均一溶液とした。
の無水エチルアルコールに溶かし、さらに３％の
グリセリンを含むエチルアルコール溶液を10ｇ攪
拌しながら加え、均一溶液とした。
この溶液を実施例１と同じ条件でステンレス板
上に塗布し、熱分解および焼成処理を行なつたと
ころ、膜厚が約2000Åで孔径が約0.3μの酸化イン
ジウムの多孔性薄膜がえられた。
上に塗布し、熱分解および焼成処理を行なつたと
ころ、膜厚が約2000Åで孔径が約0.3μの酸化イン
ジウムの多孔性薄膜がえられた。
実施例 ３
バリウムアセチルアセトネート8.4ｇおよびチ
タンテトライソプロポキシド7.2ｇを無水エチル
アルコール100ｇ中に加え、攪拌しながらさらに
パラホルムアルデヒド１ｇを加えたのち還流を15
分間行ない、均一溶液とした。この溶液中に３％
のグリセリンを含むエチルアルコール溶液を20ｇ
加えて60℃で10分間攪拌したところ、粘性をもつ
た赤褐色溶液がえられた。
タンテトライソプロポキシド7.2ｇを無水エチル
アルコール100ｇ中に加え、攪拌しながらさらに
パラホルムアルデヒド１ｇを加えたのち還流を15
分間行ない、均一溶液とした。この溶液中に３％
のグリセリンを含むエチルアルコール溶液を20ｇ
加えて60℃で10分間攪拌したところ、粘性をもつ
た赤褐色溶液がえられた。
えられた溶液を実施例１と同様な方法でステン
レス板上にデイツプコーテイングしたのち600℃
にて１時間焼成したところ、膜厚約2000Åで孔径
約0.2μのチタン酸バリウムの多孔性薄膜がえられ
た。
レス板上にデイツプコーテイングしたのち600℃
にて１時間焼成したところ、膜厚約2000Åで孔径
約0.2μのチタン酸バリウムの多孔性薄膜がえられ
た。
実施例 ４
３％ヒドロキシルエチルセルロースを含むエチ
ルアルコール溶液の添加量を35ｇにしたほかは実
施例１と同様にして溶液の調製、デイツプコーテ
イングおよび焼成を行なつたところ、孔径約１〜
3μの多孔性のシリカ薄膜がえられた。このシリ
カ薄膜の走査型電子顕微鏡写真（6000倍）のスケ
ツチ図を第２図に示す。
ルアルコール溶液の添加量を35ｇにしたほかは実
施例１と同様にして溶液の調製、デイツプコーテ
イングおよび焼成を行なつたところ、孔径約１〜
3μの多孔性のシリカ薄膜がえられた。このシリ
カ薄膜の走査型電子顕微鏡写真（6000倍）のスケ
ツチ図を第２図に示す。
第１〜２図はそれぞれ実施例１および４でえら
れた多孔性シリカ薄膜の表面の走査型電子顕微鏡
写真（6000倍）のスケツチ図である。
れた多孔性シリカ薄膜の表面の走査型電子顕微鏡
写真（6000倍）のスケツチ図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体に支持されてなる孔径が10μｍ以下の多
孔性セラミツクス薄膜。 ２ 有機金属化合物と多官能性有機化合物を含む
溶液を基材上に塗布後、熱分解することを特徴と
する多孔性セラミツクス薄膜の製造法。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
| JP58084795A JPS59213660A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | 多孔性セラミツクス薄膜およびその製造法 |
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|---|---|---|---|
| JP58084795A JPS59213660A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | 多孔性セラミツクス薄膜およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
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