JPH0254663B2 - - Google Patents
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- JPH0254663B2 JPH0254663B2 JP56117577A JP11757781A JPH0254663B2 JP H0254663 B2 JPH0254663 B2 JP H0254663B2 JP 56117577 A JP56117577 A JP 56117577A JP 11757781 A JP11757781 A JP 11757781A JP H0254663 B2 JPH0254663 B2 JP H0254663B2
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- Japan
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- semiconductor device
- charge
- gate electrode
- electrode
- region
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/891—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of only components covered by H10D44/00, e.g. integration of charge-coupled devices [CCD] or charge injection devices [CID
- H10D84/895—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of only components covered by H10D44/00, e.g. integration of charge-coupled devices [CCD] or charge injection devices [CID comprising bucket-brigade charge-coupled devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D44/00—Charge transfer devices
- H10D44/40—Charge-coupled devices [CCD]
- H10D44/45—Charge-coupled devices [CCD] having field effect produced by insulated gate electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、信号を表わす量の電荷Qsを第1の
容量Csから第2の容量Cdまで有限の時間Tを有
する所定の時間間隔内に転送するスイツチ素子を
有する半導体基板を備えた半導体装置に関するも
のである。
容量Csから第2の容量Cdまで有限の時間Tを有
する所定の時間間隔内に転送するスイツチ素子を
有する半導体基板を備えた半導体装置に関するも
のである。
この種半導体装置は、感光層に記録すべき光景
を比較的長い信号線を介して読出し部材まで転送
する電荷パケツトのパターンに変換する撮像カメ
ラに専用のものではないが、特に多用されてい
る。かるる撮像カメラは、就中、本願人の出願に
係る特開昭52−97624号公報に記載されており、
この従来装置においては、感光性ターゲツトが、
一方においては記録すべき光景に接することがで
き、他方においては列方向に延在した多数の信号
ストリツプ電極を備えている。それらの信号スト
リツプ電極は、電界効果トランジスタよりなるス
イツチ素子を介し、電荷転送レジスタ、例えば、
いわゆるBBDラインもしくはCCDラインの形態
の水平方向読出しレジスタに結合している。
を比較的長い信号線を介して読出し部材まで転送
する電荷パケツトのパターンに変換する撮像カメ
ラに専用のものではないが、特に多用されてい
る。かるる撮像カメラは、就中、本願人の出願に
係る特開昭52−97624号公報に記載されており、
この従来装置においては、感光性ターゲツトが、
一方においては記録すべき光景に接することがで
き、他方においては列方向に延在した多数の信号
ストリツプ電極を備えている。それらの信号スト
リツプ電極は、電界効果トランジスタよりなるス
イツチ素子を介し、電荷転送レジスタ、例えば、
いわゆるBBDラインもしくはCCDラインの形態
の水平方向読出しレジスタに結合している。
その読出しレジスタ内の信号ストリツプ電極か
らの信号電荷Qsの転送は、有限の時間間隔T内
に、好ましくは、水平走査帰線期間内に行なうこ
とができ、この時間間隔Tに対する特定の値は10
マイクロ秒である。
らの信号電荷Qsの転送は、有限の時間間隔T内
に、好ましくは、水平走査帰線期間内に行なうこ
とができ、この時間間隔Tに対する特定の値は10
マイクロ秒である。
通常起り得る電流値に対して、通常の電界効果
トランジスタは、Iをそのトランジスタに流れる
電流とし、VGSをそのゲート電極とソース領域と
の間の電圧として、一般に、ほぼ指数関数的なI
−VGS特性を呈する。したがつて、そのトランジ
スタが閾値電圧Vth=0を有する場合には、ゲー
ト・ソース間電圧VGSが小さくなるほど、その電
流が指数関数的に零に近づく。その結果として、
電荷パケツトQsの転送は、その転送中にソース
領域の電圧、したがつて、ゲート・ソース間電圧
VGSも変化するので、次第に緩慢になる。しかし
て、電荷の転送に用い得る時間間隔が有限である
ので、信号ストリツプ電極にはつねに電荷が残つ
ていることになる。信号ストリツプ電極上のこの
残存電荷、したがつて、電位は、信号の量に依存
するのであるから、画像一杯に一定の露出を行な
うと、信号ストリツプ電極が電位U゜sに達して、
その電位U゜sに重畳して印加した各信号電荷パケ
ツトQ゜sが所定の時間間隔T内にて充分に転送さ
れるようになる。また、画像に、例えば低輝度領
域と高輝度領域との間におけるような急激な段階
があると、信号ストリツプ電極は、数ラインの走
査期間の後にはじめて、その新たな平衡状態に達
する。しかして、そのライン走査期間の数は、一
般に、信号の値に依存するが、特に、信号の値が
小さくなるに従つて大きくなり、特殊な例におい
ては25程度の大きさに達することができる。その
結果として、記録画像において輝度が変化してい
る走査ラインの間で、例えばテレビジヨン画面
に、特に、比較的低輝度で表示した場合に、精細
度の欠除が誘発される。
トランジスタは、Iをそのトランジスタに流れる
電流とし、VGSをそのゲート電極とソース領域と
の間の電圧として、一般に、ほぼ指数関数的なI
−VGS特性を呈する。したがつて、そのトランジ
スタが閾値電圧Vth=0を有する場合には、ゲー
ト・ソース間電圧VGSが小さくなるほど、その電
流が指数関数的に零に近づく。その結果として、
電荷パケツトQsの転送は、その転送中にソース
領域の電圧、したがつて、ゲート・ソース間電圧
VGSも変化するので、次第に緩慢になる。しかし
て、電荷の転送に用い得る時間間隔が有限である
ので、信号ストリツプ電極にはつねに電荷が残つ
ていることになる。信号ストリツプ電極上のこの
残存電荷、したがつて、電位は、信号の量に依存
するのであるから、画像一杯に一定の露出を行な
うと、信号ストリツプ電極が電位U゜sに達して、
その電位U゜sに重畳して印加した各信号電荷パケ
ツトQ゜sが所定の時間間隔T内にて充分に転送さ
れるようになる。また、画像に、例えば低輝度領
域と高輝度領域との間におけるような急激な段階
があると、信号ストリツプ電極は、数ラインの走
査期間の後にはじめて、その新たな平衡状態に達
する。しかして、そのライン走査期間の数は、一
般に、信号の値に依存するが、特に、信号の値が
小さくなるに従つて大きくなり、特殊な例におい
ては25程度の大きさに達することができる。その
結果として、記録画像において輝度が変化してい
る走査ラインの間で、例えばテレビジヨン画面
に、特に、比較的低輝度で表示した場合に、精細
度の欠除が誘発される。
しかして、信号ストリツプ電極の平衡電圧U゜s
が、信号電荷Qs、したがつて、光強度に依存す
るという事実からして、上述したところから判る
ように、隣接した信号ストリツプ電極間における
浮遊容量を介したクロストークの結果として、水
平方向の精細度の欠除が生じ得ることになる。
が、信号電荷Qs、したがつて、光強度に依存す
るという事実からして、上述したところから判る
ように、隣接した信号ストリツプ電極間における
浮遊容量を介したクロストークの結果として、水
平方向の精細度の欠除が生じ得ることになる。
同様の問題は、上述したところ以外の感光性タ
ーゲツトを指数関数的I−VGS特性に従い、それ
に伴つて不完全な電荷転送を行なつた場合にも、
例えば、感光セルに光ダイオードと電界効果トラ
ンジスタを備えてその感光セルの選択および読出
しを行なうようにした撮像装置において生ずるの
と同様に生じ得るものであり、この種の撮像装置
においては、上述したと同様に、不完全で信号に
依存する信号電荷の結果として生ずる精細度欠除
の問題が生じ易い。
ーゲツトを指数関数的I−VGS特性に従い、それ
に伴つて不完全な電荷転送を行なつた場合にも、
例えば、感光セルに光ダイオードと電界効果トラ
ンジスタを備えてその感光セルの選択および読出
しを行なうようにした撮像装置において生ずるの
と同様に生じ得るものであり、この種の撮像装置
においては、上述したと同様に、不完全で信号に
依存する信号電荷の結果として生ずる精細度欠除
の問題が生じ易い。
かかる問題が生じ易く、本発明による改良の対
象とした従来のこの種撮像装置の構成を第8図に
示して説明するが、この従来の構成については前
述した特開昭52−97624号公報に詳述してある。
象とした従来のこの種撮像装置の構成を第8図に
示して説明するが、この従来の構成については前
述した特開昭52−97624号公報に詳述してある。
しかして、第8図示の従来の撮像装置には、感
光性ターゲツト5に感光性要素4111,4112,
4113,4122,4133等からなる2次元パター
ンを設けてあり、そのターゲツト5は、そのター
ゲツト5の背面を電子ビーム6により走査し得る
ようにするとともに、その前面にて入射光L1,
L2,L3等を受け入れ得るようにして撮像管内に
組込んである。
光性ターゲツト5に感光性要素4111,4112,
4113,4122,4133等からなる2次元パター
ンを設けてあり、そのターゲツト5は、そのター
ゲツト5の背面を電子ビーム6により走査し得る
ようにするとともに、その前面にて入射光L1,
L2,L3等を受け入れ得るようにして撮像管内に
組込んである。
かかるターゲツト5の前面側には、信号電極ス
トリツプ41,42,43を設けてあり、図にはこ
の3本のストリツプしか示してないが、実際の具
体例では数百本とする。各列毎に感光性要素41
11,4112,4122等にそれぞれ結合したそれら
の信号電極ストリツプ41,42,43は、各スイ
ツチ素子171′,172′,173′をそれぞれ介して
シフトレジスタ19′に接続してあり、そのシフ
トレジスタ19′は、図示の例ではバケツトブリ
ゲードすなわちいわゆるBBDからなつているが、
例えば、いわゆるCCDによつて構成することが
できる。このバケツトブリケードレジスタの出力
段は、電界効果トランジスタ62および出力端子
20を有するソースホロワからなつている。
トリツプ41,42,43を設けてあり、図にはこ
の3本のストリツプしか示してないが、実際の具
体例では数百本とする。各列毎に感光性要素41
11,4112,4122等にそれぞれ結合したそれら
の信号電極ストリツプ41,42,43は、各スイ
ツチ素子171′,172′,173′をそれぞれ介して
シフトレジスタ19′に接続してあり、そのシフ
トレジスタ19′は、図示の例ではバケツトブリ
ゲードすなわちいわゆるBBDからなつているが、
例えば、いわゆるCCDによつて構成することが
できる。このバケツトブリケードレジスタの出力
段は、電界効果トランジスタ62および出力端子
20を有するソースホロワからなつている。
上述のシフトレジスタ19′をなす各トランジ
スタ50,52,54,56,58および60
は、電界効果トランジスタ62とともに、例え
ば、n−チヤネル型の電界効果トランジスタであ
るとする。
スタ50,52,54,56,58および60
は、電界効果トランジスタ62とともに、例え
ば、n−チヤネル型の電界効果トランジスタであ
るとする。
しかして、バケツトブリゲード・レジスタ1
9′を構成する各電界効果トランジスタは、ソー
ス電極とドレイン電極とを順次に接続するととも
に、各ゲート電極をクロツク信号線S5およびS6に
接続してあり、それらのクロツク信号線を介して
クロツク電圧源21′に接続されている。このシ
フトレジスタ19′は、さらに、多数の並列入力
線181,182,183等を備えており、それら
の並列入力線は、各スイツチ素子171′,172′,
173′等をそれぞれ介して、各信号電極ストリツ
プ41,42,43等にそれぞれ接続し得るように
なつている。
9′を構成する各電界効果トランジスタは、ソー
ス電極とドレイン電極とを順次に接続するととも
に、各ゲート電極をクロツク信号線S5およびS6に
接続してあり、それらのクロツク信号線を介して
クロツク電圧源21′に接続されている。このシ
フトレジスタ19′は、さらに、多数の並列入力
線181,182,183等を備えており、それら
の並列入力線は、各スイツチ素子171′,172′,
173′等をそれぞれ介して、各信号電極ストリツ
プ41,42,43等にそれぞれ接続し得るように
なつている。
しかして、感光性ターゲツト5に発生した画像
情報は、信号電極ストリツプ群4およびスイツチ
素子群17′を介してバケツトブリゲード・レジ
スタ19′の各コンデンサ53,57,60に転
送される。
情報は、信号電極ストリツプ群4およびスイツチ
素子群17′を介してバケツトブリゲード・レジ
スタ19′の各コンデンサ53,57,60に転
送される。
つぎに、第2図に、上述の撮像装置の各部信号
S1乃至S12および画像信号PSの電圧振幅波形を時
間tの関数として示す。
S1乃至S12および画像信号PSの電圧振幅波形を時
間tの関数として示す。
前述した撮像装置におけるターゲツト5の背面
側は、電子ビーム6の走査により電圧Uc、例え
ば−5Vに充電される。第2図における記号Aは、
電子ビーム6によるターゲツト5の走査を制御す
る制御信号を表わし、また、記号THは、水平走
査周期を表わし、水平走査帰線期間TBおよび水
平走査期間TSからなつている。さらに、各信号
電極ストリツプ41,42,43等は、水平走査周
期THの始端においては、基準電位、例えば0V
になつているものとする。
側は、電子ビーム6の走査により電圧Uc、例え
ば−5Vに充電される。第2図における記号Aは、
電子ビーム6によるターゲツト5の走査を制御す
る制御信号を表わし、また、記号THは、水平走
査周期を表わし、水平走査帰線期間TBおよび水
平走査期間TSからなつている。さらに、各信号
電極ストリツプ41,42,43等は、水平走査周
期THの始端においては、基準電位、例えば0V
になつているものとする。
入射光の蓄積期間においては、入射光が感光性
ターゲツト5に入射するので、各コンデンサ41
11,4112,4122等は、模式的に図示した各漏
洩抵抗4211,4212等をそれぞれ介して放電さ
れ、それら漏洩抵抗の値は、各入射光強度L1,
L2,L3等によつてそれぞれ決まる。また、各時
点t1,t2,t3における電子ビーム6の走査により、
各信号電極ストリツプ41,42,43には基準電
位に対する電位降下U1,U2,U3がそれぞれ生
じ、それらの電位降下は、各浮遊容量401,4
02,403における信号電荷の降下Q1,Q2,Q3
にそれぞれ対応している。ついで、時点t4におい
ては、水平走査帰線期間TBが始まり、時点t7に
て終わる。この水平走査帰線期間TBにおいて
は、時点t5から時点t6に亘る時間幅のパルスが信
号S5に生じ、それと同時に、信号S4に模式的に示
すパルスにより、通常の電界効果トランジスタよ
りなるスイツチ素子群17′が閉路するので、各
コンデンサ401,402,403中の信号電荷を
バケツトブリゲード・レジスタ19′に転送する
ことができる。
ターゲツト5に入射するので、各コンデンサ41
11,4112,4122等は、模式的に図示した各漏
洩抵抗4211,4212等をそれぞれ介して放電さ
れ、それら漏洩抵抗の値は、各入射光強度L1,
L2,L3等によつてそれぞれ決まる。また、各時
点t1,t2,t3における電子ビーム6の走査により、
各信号電極ストリツプ41,42,43には基準電
位に対する電位降下U1,U2,U3がそれぞれ生
じ、それらの電位降下は、各浮遊容量401,4
02,403における信号電荷の降下Q1,Q2,Q3
にそれぞれ対応している。ついで、時点t4におい
ては、水平走査帰線期間TBが始まり、時点t7に
て終わる。この水平走査帰線期間TBにおいて
は、時点t5から時点t6に亘る時間幅のパルスが信
号S5に生じ、それと同時に、信号S4に模式的に示
すパルスにより、通常の電界効果トランジスタよ
りなるスイツチ素子群17′が閉路するので、各
コンデンサ401,402,403中の信号電荷を
バケツトブリゲード・レジスタ19′に転送する
ことができる。
一方、シフトレジスタ19′においては、時点
t4から時点t5までの期間に各コンデンサ51,5
3,55,57,59および60がそれぞれ3V
まで充電され、かかる充電は、信号S5およびS6に
おける−3Vの電圧の存在並びに信号S7乃至S12に
おける接地電位0Vの存在に引続いて行なわれる。
t4から時点t5までの期間に各コンデンサ51,5
3,55,57,59および60がそれぞれ3V
まで充電され、かかる充電は、信号S5およびS6に
おける−3Vの電圧の存在並びに信号S7乃至S12に
おける接地電位0Vの存在に引続いて行なわれる。
上述した従来周知の撮像装置においては、各信
号電極ストリツプ41,42,43が、各コンデン
サ401,402,403からシフトレジスタ1
9′への信号電荷の転送によつて基準電圧にもた
らされ、その基準電圧は、スイツチ素子をなす電
界効果トランジスタの閾値電圧によつて与えられ
る。しかして、従来使用していた通常の電界効果
トランジスタ、例えば幅μA領域のMOS型トラン
ジスタは、第3図の曲線Aにて示すように、多か
れ少なかれ、指数関数的な変化を呈する電流電圧
特性を示す。すなわち、図示の特性曲線において
は、横軸にとつたn−チヤネルMOS型トランジ
スタに対する閾値電圧を差引いたゲート電圧に対
して縦軸に電流値をプロツトしてあり、信号Vg
はソース領域に対するゲート電極の電圧を表わし
ている。しかして、電荷転送の期間中において
は、各電界効果トランジスタのソース電極の電位
が変化して、ゲート電圧と閾値電圧との差Vg−
Vthが零に近づく。このことは、電流も零に近づ
くことを意味し、また、各電界効果トランジスタ
が再びカツトオフになつたときに、電荷はその全
部が転送し終えてはいないことを意味する。した
がつて、信号電極ストリツプの基準電位は、その
ときには、最早、電界効果トランジスタの閾値電
圧には等しくなくなり、大なり小なり信号電荷の
量に依存することになる。そのうえ、各信号電極
ストリツプ41,42,43の相互間における浮遊
容量の作用により、各信号電極ストリツプにおけ
る基準電圧の変化が隣接ストリツプの影響も受け
ることになる。
号電極ストリツプ41,42,43が、各コンデン
サ401,402,403からシフトレジスタ1
9′への信号電荷の転送によつて基準電圧にもた
らされ、その基準電圧は、スイツチ素子をなす電
界効果トランジスタの閾値電圧によつて与えられ
る。しかして、従来使用していた通常の電界効果
トランジスタ、例えば幅μA領域のMOS型トラン
ジスタは、第3図の曲線Aにて示すように、多か
れ少なかれ、指数関数的な変化を呈する電流電圧
特性を示す。すなわち、図示の特性曲線において
は、横軸にとつたn−チヤネルMOS型トランジ
スタに対する閾値電圧を差引いたゲート電圧に対
して縦軸に電流値をプロツトしてあり、信号Vg
はソース領域に対するゲート電極の電圧を表わし
ている。しかして、電荷転送の期間中において
は、各電界効果トランジスタのソース電極の電位
が変化して、ゲート電圧と閾値電圧との差Vg−
Vthが零に近づく。このことは、電流も零に近づ
くことを意味し、また、各電界効果トランジスタ
が再びカツトオフになつたときに、電荷はその全
部が転送し終えてはいないことを意味する。した
がつて、信号電極ストリツプの基準電位は、その
ときには、最早、電界効果トランジスタの閾値電
圧には等しくなくなり、大なり小なり信号電荷の
量に依存することになる。そのうえ、各信号電極
ストリツプ41,42,43の相互間における浮遊
容量の作用により、各信号電極ストリツプにおけ
る基準電圧の変化が隣接ストリツプの影響も受け
ることになる。
本発明の目的は、上述した従来のこの種の半導
体装置の問題を解決し、信号電荷Qsをあらかじ
め定めた時間間隔T内に完全に転送することがで
き、したがつて、信号電荷Qs転送後における第
1のコンデンサの電位が原則とし信号には全く無
関係となるように改良した半導体装置を提供する
ことにある。
体装置の問題を解決し、信号電荷Qsをあらかじ
め定めた時間間隔T内に完全に転送することがで
き、したがつて、信号電荷Qs転送後における第
1のコンデンサの電位が原則とし信号には全く無
関係となるように改良した半導体装置を提供する
ことにある。
本発明は、就中、つぎのような事実の認識に基
づいてなしたものである。すなわち、信号電荷
Qsの急速かつ完全な転送は、例えば、電界効果
トランジスタの場合であれば、そのトランジスタ
に一定の電流i0を流しておき、その一定電流i0に
重畳して信号電流をそのトランジスタに流すよう
にし、しかも、関連した微係数dI/dVGSが、小信号 に対する入力インピーダンスによつて決めた場合
にも、なお、適切な値となるようにして、その一
定電流i0の値を選定することによつて達成し得る
という事実に基づくものである なお、光吸収の結果として生ずる信号電荷の発
生により撮像センサに生ずる信号電荷Qsの形成
の態様そのものは本発明の関知するところではな
く、したがつて、本発明は、信号電荷を第1のコ
ンデンサから第2のコンデンサまで比較的短かい
時間間隔にて転送しなければならないようになつ
ている他の種類の装置によるカメラにも同様に適
用して同様の効果を得ることができる。すなわ
ち、上述した問題は、絶縁性電界効果トランジス
タ以外のスイツチ素子を用いた場合にも同様に生
じ得るのであるから、本発明は、かかる電界効果
トランジスタを用いた場合にのみ限定すべきもの
ではない。
づいてなしたものである。すなわち、信号電荷
Qsの急速かつ完全な転送は、例えば、電界効果
トランジスタの場合であれば、そのトランジスタ
に一定の電流i0を流しておき、その一定電流i0に
重畳して信号電流をそのトランジスタに流すよう
にし、しかも、関連した微係数dI/dVGSが、小信号 に対する入力インピーダンスによつて決めた場合
にも、なお、適切な値となるようにして、その一
定電流i0の値を選定することによつて達成し得る
という事実に基づくものである なお、光吸収の結果として生ずる信号電荷の発
生により撮像センサに生ずる信号電荷Qsの形成
の態様そのものは本発明の関知するところではな
く、したがつて、本発明は、信号電荷を第1のコ
ンデンサから第2のコンデンサまで比較的短かい
時間間隔にて転送しなければならないようになつ
ている他の種類の装置によるカメラにも同様に適
用して同様の効果を得ることができる。すなわ
ち、上述した問題は、絶縁性電界効果トランジス
タ以外のスイツチ素子を用いた場合にも同様に生
じ得るのであるから、本発明は、かかる電界効果
トランジスタを用いた場合にのみ限定すべきもの
ではない。
本発明によれば、冒頭に述べた種類の半導体装
置において、所定の時間間隔内に一定量の電荷
Qtが周波数n/Tにて周期的に前記第1の容量
Csに帰還転送されるのを助ける手段G1,G2,G3
を前記スイツチ素子として設け、前記有限の時間
T(=t6−t5)より短い周期tにて、前記第1の
容量Csから順次の帰還転送の間の期間に前記第2
の容量Cdまで転送する電荷がその期間毎に平衡
状態に達して前記第1の容量Csに帰還転送される
電荷に等しくなるとともに、前記第1の容量Csの
電位が前記電荷Qsにほぼ無関係となるようにn
およびQtの値を選定することを特徴とする。
置において、所定の時間間隔内に一定量の電荷
Qtが周波数n/Tにて周期的に前記第1の容量
Csに帰還転送されるのを助ける手段G1,G2,G3
を前記スイツチ素子として設け、前記有限の時間
T(=t6−t5)より短い周期tにて、前記第1の
容量Csから順次の帰還転送の間の期間に前記第2
の容量Cdまで転送する電荷がその期間毎に平衡
状態に達して前記第1の容量Csに帰還転送される
電荷に等しくなるとともに、前記第1の容量Csの
電位が前記電荷Qsにほぼ無関係となるようにn
およびQtの値を選定することを特徴とする。
しかして、信号電荷Qsの転送に際しては、ス
イツチ素子に流れる電流が、零にならず、適切な
値i0に調整し得るのであるから、その電流i0のみ
に依存して電荷Qsには依存しない平衡状態を達
成することができ、さらに、信号電荷Qs自体を
電流i0に用いることができるのであるから、別の
電流源を設ける必要はない。
イツチ素子に流れる電流が、零にならず、適切な
値i0に調整し得るのであるから、その電流i0のみ
に依存して電荷Qsには依存しない平衡状態を達
成することができ、さらに、信号電荷Qs自体を
電流i0に用いることができるのであるから、別の
電流源を設ける必要はない。
本発明の重要な実施例においては、電荷の形態
の情態の発生および蓄積の少なくとも一方を行な
い得る要素を多数設けるとともに、前記第1の容
量Csに前記要素を選択的に結合させる選択手段を
設けたことを特徴とする。
の情態の発生および蓄積の少なくとも一方を行な
い得る要素を多数設けるとともに、前記第1の容
量Csに前記要素を選択的に結合させる選択手段を
設けたことを特徴とする。
本発明は、原則としては、指数関数的な−
特性、少なくとも、これに類似の特性を有する他
の回路装置、例えばダイオードにまで拡張して適
用し得るものではあるが、本発明の重要な好適実
施例においては、前記スイツチ素子を電界効果素
子により構成し、前記半導体基板の表面に接する
とともに前記第1および前記第2の容量にそれぞ
れ結合した前記電界効果素子のソース領域および
ドレイン領域をなす2個の表面領域を設けて、そ
れら2個の表面領域を前記ソース領域から前記ド
レイン領域に向う電流の通路に沿つて順次に位置
する少なくとも2個のゲート電極G1,G2を前記
手段として設けたチヤネル領域によつて互いに分
離し、前記ゲート電極のうち、第1のゲート電極
G1に前記チヤネル領域を介する電流の通路を制
御させるとともに、当該第1のゲート電極G1に
引続く第2のゲート電極G2に前記チヤネル領域
の下側部分にポテンシアル井戸を誘起させて、適
切な電圧の印加により前記ソース領域に帰還転送
し得る前記電荷Qtを蓄積させるようにしたこと
を特徴としており、後述する図面の説明から明ら
かなように、帰還転送の機構は、いわゆるCTD
技術にほぼ類似した簡単な態様にて実現すること
ができる。
特性、少なくとも、これに類似の特性を有する他
の回路装置、例えばダイオードにまで拡張して適
用し得るものではあるが、本発明の重要な好適実
施例においては、前記スイツチ素子を電界効果素
子により構成し、前記半導体基板の表面に接する
とともに前記第1および前記第2の容量にそれぞ
れ結合した前記電界効果素子のソース領域および
ドレイン領域をなす2個の表面領域を設けて、そ
れら2個の表面領域を前記ソース領域から前記ド
レイン領域に向う電流の通路に沿つて順次に位置
する少なくとも2個のゲート電極G1,G2を前記
手段として設けたチヤネル領域によつて互いに分
離し、前記ゲート電極のうち、第1のゲート電極
G1に前記チヤネル領域を介する電流の通路を制
御させるとともに、当該第1のゲート電極G1に
引続く第2のゲート電極G2に前記チヤネル領域
の下側部分にポテンシアル井戸を誘起させて、適
切な電圧の印加により前記ソース領域に帰還転送
し得る前記電荷Qtを蓄積させるようにしたこと
を特徴としており、後述する図面の説明から明ら
かなように、帰還転送の機構は、いわゆるCTD
技術にほぼ類似した簡単な態様にて実現すること
ができる。
第2の容量Cdに結合した電界効果素子のドレ
イン領域は、その下にて帰還転送すべき電荷パケ
ツトが形成される第2のゲート電極のすぐ後に位
置させることができるが、通常の電界効果トラン
ジスタの利得係数は、無限大ではなく、10乃至
100の程度の値であるが故に生じ易い、第2のゲ
ート電極の下にある小容量のポテンシアル井戸が
空になることがソース領域に及ぼす反作用をかな
り低減し得るという利点を有する本発明の好適な
実施例においては、第2のゲート電極の下に位置
する前記ポテンシアル井戸を、前記ソース領域に
前記電荷Qtを帰還転送した後であつて前記ソー
ス領域から前記ドレイン領域まで新たな電荷を転
送する前に、再び電荷により満たし得るようにす
るのを助ける電極手段を設けたことを特徴として
いる。
イン領域は、その下にて帰還転送すべき電荷パケ
ツトが形成される第2のゲート電極のすぐ後に位
置させることができるが、通常の電界効果トラン
ジスタの利得係数は、無限大ではなく、10乃至
100の程度の値であるが故に生じ易い、第2のゲ
ート電極の下にある小容量のポテンシアル井戸が
空になることがソース領域に及ぼす反作用をかな
り低減し得るという利点を有する本発明の好適な
実施例においては、第2のゲート電極の下に位置
する前記ポテンシアル井戸を、前記ソース領域に
前記電荷Qtを帰還転送した後であつて前記ソー
ス領域から前記ドレイン領域まで新たな電荷を転
送する前に、再び電荷により満たし得るようにす
るのを助ける電極手段を設けたことを特徴として
いる。
上述したような半導体装置は、原則として、有
限量の電荷Qsを第1の容量Csから第2の容量Cd
まで限られた時間間隔T内に転送すべき場合には
すべて適用して効果を挙げることができるが、本
発明半導体装置の格別の効果が得られる重要な適
用分野は撮像カメラの分野である。したがつて、
感光性セルを行列に配列したモザイクよりなる情
報蓄積要素に組合わせてストリツプ状の導体を設
けて撮像装置の一部とするとともに、そのストリ
ツプ状の導体を前記第1の容量Csの電極としたこ
とを特徴としており、帰還転送の周波数および帰
還転送した電荷パケツト量Qtなる各パラメータ
は、信号を水平走査帰線期間内に転送し得るよう
にして選定するのが好適である。
限量の電荷Qsを第1の容量Csから第2の容量Cd
まで限られた時間間隔T内に転送すべき場合には
すべて適用して効果を挙げることができるが、本
発明半導体装置の格別の効果が得られる重要な適
用分野は撮像カメラの分野である。したがつて、
感光性セルを行列に配列したモザイクよりなる情
報蓄積要素に組合わせてストリツプ状の導体を設
けて撮像装置の一部とするとともに、そのストリ
ツプ状の導体を前記第1の容量Csの電極としたこ
とを特徴としており、帰還転送の周波数および帰
還転送した電荷パケツト量Qtなる各パラメータ
は、信号を水平走査帰線期間内に転送し得るよう
にして選定するのが好適である。
なお、本発明は、光学像を電気信号に変換する
カメラにも関するものであり、本発明によるこの
種のカメラは、上述したような半導体スイツチ素
子を用いたことを特徴とししている。
カメラにも関するものであり、本発明によるこの
種のカメラは、上述したような半導体スイツチ素
子を用いたことを特徴とししている。
以下に図面を参照して実施例につき本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
本発明は、前述した従来装置の欠点あるいはそ
の他の起り得る欠点の少なくとも大部分を避ける
ために、従来の通常の電界効果トランジスタの代
わりに、第4図にその横断面を示し、本発明によ
る改良個所を破線で囲んで示す他は第8図示とほ
ぼ同じ回路構成を示す第1図に3ゲート電極を有
する電界効果素子としてそれぞれ示したような本
発明による半導体装置をスイツチ素子群17′と
して用いたものである。
の他の起り得る欠点の少なくとも大部分を避ける
ために、従来の通常の電界効果トランジスタの代
わりに、第4図にその横断面を示し、本発明によ
る改良個所を破線で囲んで示す他は第8図示とほ
ぼ同じ回路構成を示す第1図に3ゲート電極を有
する電界効果素子としてそれぞれ示したような本
発明による半導体装置をスイツチ素子群17′と
して用いたものである。
しかして、スイツチ群を構成するトランジスタ
群17′のゲート電極に供給される信号S4中の上
述したパルスおよび時点t5とt6との間において信
号S5に現れるパルスは、いずれも、+0Vの電圧を
有しており、各トランジスタ17′のゲート電極
に加わる0.7Vの電圧により、それらのトランジ
スタのドレイン電極に加わる充分に高い電圧に対
して、そのソース電極に現れる電圧、すなわち、
それらのソース電極に接続された各信号電極スト
リツプ41,42,43に現れる電圧、さらに換言
すれば、各コンデンサ401,402,403に現
れる電圧は、接地電位までは上昇し得るが、接地
電位を超えることはない。また、トランジスタ群
17′の電極に加わる0.7Vの電圧は、実際には、
トランジスタ群17′のゲート電極とソース電極
との間に現れるべき閾値電圧であるので、それら
のトランジスタ群17′を導通状態にして保持す
ることになる。一方、信号S5における−3Vから
+0.7Vまでの電圧ステツプに伴つて時点t5にて生
ずる尖鋭なパルスは、コンデンサ53,57およ
び60をそれぞれ介して、トランジスタ171′,
172′のドレイン電極に互いに等しい3.7Vの電圧
ステツプを与えることになる。したがつて、ゲー
ト電極に加わる0.7Vの電圧とともに、信号S8,
S10およびS12に現れる電圧によつて、各信号電極
ストリツプ41,42,43の浮遊容量401,40
2,403が、第2図の信号波形S1,S2およびS3に
ついて時点t5に示すように、各コンデンサ53,
57および60からの信号S8,S10およびS12によ
つて接地電位まで充電される。また、それらの浮
遊容量401,402,403における電圧降下U1,
U2,U3に対応する充電状態は、各コンデンサ5
3,57および60からの電荷によつて再度補充
され、それらの電圧降下U1,U2,U3にそれぞれ
対応した電圧降下U1′,U2′,U3′となる。
群17′のゲート電極に供給される信号S4中の上
述したパルスおよび時点t5とt6との間において信
号S5に現れるパルスは、いずれも、+0Vの電圧を
有しており、各トランジスタ17′のゲート電極
に加わる0.7Vの電圧により、それらのトランジ
スタのドレイン電極に加わる充分に高い電圧に対
して、そのソース電極に現れる電圧、すなわち、
それらのソース電極に接続された各信号電極スト
リツプ41,42,43に現れる電圧、さらに換言
すれば、各コンデンサ401,402,403に現
れる電圧は、接地電位までは上昇し得るが、接地
電位を超えることはない。また、トランジスタ群
17′の電極に加わる0.7Vの電圧は、実際には、
トランジスタ群17′のゲート電極とソース電極
との間に現れるべき閾値電圧であるので、それら
のトランジスタ群17′を導通状態にして保持す
ることになる。一方、信号S5における−3Vから
+0.7Vまでの電圧ステツプに伴つて時点t5にて生
ずる尖鋭なパルスは、コンデンサ53,57およ
び60をそれぞれ介して、トランジスタ171′,
172′のドレイン電極に互いに等しい3.7Vの電圧
ステツプを与えることになる。したがつて、ゲー
ト電極に加わる0.7Vの電圧とともに、信号S8,
S10およびS12に現れる電圧によつて、各信号電極
ストリツプ41,42,43の浮遊容量401,40
2,403が、第2図の信号波形S1,S2およびS3に
ついて時点t5に示すように、各コンデンサ53,
57および60からの信号S8,S10およびS12によ
つて接地電位まで充電される。また、それらの浮
遊容量401,402,403における電圧降下U1,
U2,U3に対応する充電状態は、各コンデンサ5
3,57および60からの電荷によつて再度補充
され、それらの電圧降下U1,U2,U3にそれぞれ
対応した電圧降下U1′,U2′,U3′となる。
つぎに、時点t6において信号S4およびS5に生ず
る電圧ステツプにより、各スイツチ素子171′,
172′,173′が遮断され、信号S8,S10および
S12には互いに等しい大きい電圧ステツプがそれ
ぞれ生ずる。
る電圧ステツプにより、各スイツチ素子171′,
172′,173′が遮断され、信号S8,S10および
S12には互いに等しい大きい電圧ステツプがそれ
ぞれ生ずる。
つぎに、時点t7においては、水平走査時間TS
が始まり、一方においては電子ビーム6′による
感光ターゲツト層5′の水平走査が開始され、他
方においては、信号S5およびSS6に現れた各パル
スの影響をうけて各コンデンサ51,53,5
5,57,59および60相互間における信号電
荷U1′,U2′,U3′の転送が開始される。かくして、
各信号電荷U1′,U2′,U3′は、それ自体は周知の
態様によりシフトレジスタ19′中を転送されて、
出力端子PSから取出される。
が始まり、一方においては電子ビーム6′による
感光ターゲツト層5′の水平走査が開始され、他
方においては、信号S5およびSS6に現れた各パル
スの影響をうけて各コンデンサ51,53,5
5,57,59および60相互間における信号電
荷U1′,U2′,U3′の転送が開始される。かくして、
各信号電荷U1′,U2′,U3′は、それ自体は周知の
態様によりシフトレジスタ19′中を転送されて、
出力端子PSから取出される。
しかして、ここで注意すべきは、本発明による
スイツチ素子は、撮像カメラに適用すれば特に好
適ではあるが、撮像カメラに専用のものではない
ことであり、同様に電荷の急速転送を必要とする
他の装置に適用しても同様の作用効果が得られる
ことである。
スイツチ素子は、撮像カメラに適用すれば特に好
適ではあるが、撮像カメラに専用のものではない
ことであり、同様に電荷の急速転送を必要とする
他の装置に適用しても同様の作用効果が得られる
ことである。
つぎに、本発明半導体装置の構成例の横断面を
第4図に示す。図示の構成による半導体装置は、
一般に、撮像カメラの例においては水平走査帰線
期間とする短かい時間間隔内にて、容量Csからの
信号電荷を容量Cdに転送し得るようにしたスイ
ツチ素子を備えた半導体基板1を有しており、必
ずしも半導体基板1上の集積する必要のないそれ
らの容量CsおよびCdを、第4図においては破線
にて示してある。
第4図に示す。図示の構成による半導体装置は、
一般に、撮像カメラの例においては水平走査帰線
期間とする短かい時間間隔内にて、容量Csからの
信号電荷を容量Cdに転送し得るようにしたスイ
ツチ素子を備えた半導体基板1を有しており、必
ずしも半導体基板1上の集積する必要のないそれ
らの容量CsおよびCdを、第4図においては破線
にて示してある。
しかして、上述したスイツチ素子は、それらの
容量CsおよびCdにそれぞれ接続されているか、
あるいは、接続し得る2個の端子2および3を備
えており、それら2個の端子は、それぞれ、3個
の絶縁制御電極G1,G2,G3を備えた電界効果素
子のソース電極およびドレイン電極をなしてい
る。本発明半導体装置の特別の構成例において
は、シリコンよりなるP型の半導体基板を備えて
いるが、n型の半導体基板からも出発し得ること
は明らかであり、また、本発明は、いずれの場合
においてもシリコンの使用に限定されるものでは
なく、他の半導体材料を使用しても同様の作用効
果を得ることができる。
容量CsおよびCdにそれぞれ接続されているか、
あるいは、接続し得る2個の端子2および3を備
えており、それら2個の端子は、それぞれ、3個
の絶縁制御電極G1,G2,G3を備えた電界効果素
子のソース電極およびドレイン電極をなしてい
る。本発明半導体装置の特別の構成例において
は、シリコンよりなるP型の半導体基板を備えて
いるが、n型の半導体基板からも出発し得ること
は明らかであり、また、本発明は、いずれの場合
においてもシリコンの使用に限定されるものでは
なく、他の半導体材料を使用しても同様の作用効
果を得ることができる。
しかして、通常の集積化MOST回路装置に一
般の0.3乃至5オーム・cmの比抵抗を有するシリ
コン基板1は、その表面4にn型の表面領域5お
よび6を設けてそれぞれソース領域およびドレイ
ン領域を形成してある。
般の0.3乃至5オーム・cmの比抵抗を有するシリ
コン基板1は、その表面4にn型の表面領域5お
よび6を設けてそれぞれソース領域およびドレイ
ン領域を形成してある。
さらに、2個の端子2および3を、それぞれソ
ースおよびドレインの電極7および8を介して、
上述のソース領域およびドレイン領域にそれぞれ
接続してあり、それらの電極7および8は、例え
ばアルミニウムにより形成してそれぞれソース領
域およびドレイン領域をなす帯域5および6に接
続してある。
ースおよびドレインの電極7および8を介して、
上述のソース領域およびドレイン領域にそれぞれ
接続してあり、それらの電極7および8は、例え
ばアルミニウムにより形成してそれぞれソース領
域およびドレイン領域をなす帯域5および6に接
続してある。
また、半導体基板1の表面4は絶縁層9により
覆つてあり、その絶縁層9は、慣用の酸化シリコ
ン層として設け得るも、窒化シリコンあるいは酸
化アルミニウムのような他の誘電体材料によつて
構成することもできる。しかして、少なくとも、
これらの帯域5と6とによつて区切られた領域に
おいては、絶縁層9が約700Å乃至1000Åの厚み
を有しており、電界形成用酸化物層の機能を有す
る第4図示の活性領域以外においては、この酸化
物絶縁層9は、通常の電界効果トランジスタを構
成する半導体装置におけると全く同様に、上述し
た値より格段に大きい厚みを程することができ
る。
覆つてあり、その絶縁層9は、慣用の酸化シリコ
ン層として設け得るも、窒化シリコンあるいは酸
化アルミニウムのような他の誘電体材料によつて
構成することもできる。しかして、少なくとも、
これらの帯域5と6とによつて区切られた領域に
おいては、絶縁層9が約700Å乃至1000Åの厚み
を有しており、電界形成用酸化物層の機能を有す
る第4図示の活性領域以外においては、この酸化
物絶縁層9は、通常の電界効果トランジスタを構
成する半導体装置におけると全く同様に、上述し
た値より格段に大きい厚みを程することができ
る。
しかして、かかる絶縁層9上には、ソース領域
5とドレイン領域6との間に第1のゲート電極
G1を設けてあり、この第1のゲート電極G1の機
能は通常の電界効果トランジスタにおけるゲート
電極の機能と同等であつて、この第1のゲート電
極G1によりスイツチ素子を任意に開閉すること
ができる。
5とドレイン領域6との間に第1のゲート電極
G1を設けてあり、この第1のゲート電極G1の機
能は通常の電界効果トランジスタにおけるゲート
電極の機能と同等であつて、この第1のゲート電
極G1によりスイツチ素子を任意に開閉すること
ができる。
つぎに、第2のゲート電極G2は、互いに接続
した2部分G2aおよびG2bからなつており、電極
部分G2aの下には、第2のゲート電極G2に電圧を
印加したときに、その電極部分G2aの下に位置す
るポテンシアル井戸を伴つた非対称の電位配分を
生じさせて、そのポテンシアル井戸に帰還転送す
べき電荷Qtを蓄積するとともに、電極部分G2bの
下に電位障壁を形成するように作用する手段10
を設けてある。
した2部分G2aおよびG2bからなつており、電極
部分G2aの下には、第2のゲート電極G2に電圧を
印加したときに、その電極部分G2aの下に位置す
るポテンシアル井戸を伴つた非対称の電位配分を
生じさせて、そのポテンシアル井戸に帰還転送す
べき電荷Qtを蓄積するとともに、電極部分G2bの
下に電位障壁を形成するように作用する手段10
を設けてある。
しかして、第2のゲート電極G2の下に形成さ
れる非対称の電位配分は、それ自体は通常の電荷
結合素子の技術により周知の種々の態様、例え
ば、電極部分G2aとG2bとの下における酸化物絶
縁層の厚みを異ならせるなどして、得ることがで
きる。第4図示の構成例においては、電極部分
G2aの下にn型の帯域10を設けることによつて
得られた、電極部分G2aとG2bとの下における半
導体基板1のドープの程度の相違によつてかかる
電位配分の非対称性を得ている。しかして、帯域
10のドープ濃度は、イオンの注入によつて適切
に選定することができ、その結果として、所望の
深さ、したがつて、所望の量、例えば1012乃至
1014アトム/cm2の電荷Qtを有するポテンシアル井
戸を形成することができる。
れる非対称の電位配分は、それ自体は通常の電荷
結合素子の技術により周知の種々の態様、例え
ば、電極部分G2aとG2bとの下における酸化物絶
縁層の厚みを異ならせるなどして、得ることがで
きる。第4図示の構成例においては、電極部分
G2aの下にn型の帯域10を設けることによつて
得られた、電極部分G2aとG2bとの下における半
導体基板1のドープの程度の相違によつてかかる
電位配分の非対称性を得ている。しかして、帯域
10のドープ濃度は、イオンの注入によつて適切
に選定することができ、その結果として、所望の
深さ、したがつて、所望の量、例えば1012乃至
1014アトム/cm2の電荷Qtを有するポテンシアル井
戸を形成することができる。
また、第2のゲート電極G2とドレイン領域6
との間に備えるそれら余分の手段としては、第3
の絶縁ゲート電極G3を設ける。図示の構成例に
おいては、この第3のゲート電極G3を第2のゲ
ート電極G2に対応させ、第2のゲート電極G2と
同様に、互いに接続された2電極部分G3aおよび
G3bを設けてあり、電極部分G3aの下には、帯域
10と同程度のドープ濃度を有するn型領域11
を設けてある。また、電極部分G3aおよび帯域1
1の横方向の寸法は、第2のゲート電極における
構成要素G2a、10の横方向寸法に対して少なく
とも等しいか大きく選定するのが好適であり、そ
の結果として、電極部分G3aに適切な電圧を加え
たときに、その電極部分G3aの下に、電荷Qtを供
給するための溜まりとして用い得る満たされたポ
テンシアル井戸が形成される。
との間に備えるそれら余分の手段としては、第3
の絶縁ゲート電極G3を設ける。図示の構成例に
おいては、この第3のゲート電極G3を第2のゲ
ート電極G2に対応させ、第2のゲート電極G2と
同様に、互いに接続された2電極部分G3aおよび
G3bを設けてあり、電極部分G3aの下には、帯域
10と同程度のドープ濃度を有するn型領域11
を設けてある。また、電極部分G3aおよび帯域1
1の横方向の寸法は、第2のゲート電極における
構成要素G2a、10の横方向寸法に対して少なく
とも等しいか大きく選定するのが好適であり、そ
の結果として、電極部分G3aに適切な電圧を加え
たときに、その電極部分G3aの下に、電荷Qtを供
給するための溜まりとして用い得る満たされたポ
テンシアル井戸が形成される。
本発明によるスイツチ素子には、時点t5から時
点t6に到る電荷転送期間T秒内に納まる時間周期
t秒にて単位時間(秒)当り第1の容量Csから転
送される電荷が同じ単位時間にその容量Csに帰還
転送される電荷の量に等しくなる平衡状態に達す
るような周波数n/Tにて周期的に一定量の電荷
Qtが第1の容量Csに帰還転送されるようにする
ための各手段G2a,G2b,10を設けてある。し
かして、かかる平衡状態においては、第1の容量
Csをなすコンデンサの電位は、最早や、初期の信
号電荷Qsの量には依存せず、主として上述のパ
ラメータnおよびQtに依存するようになる。
点t6に到る電荷転送期間T秒内に納まる時間周期
t秒にて単位時間(秒)当り第1の容量Csから転
送される電荷が同じ単位時間にその容量Csに帰還
転送される電荷の量に等しくなる平衡状態に達す
るような周波数n/Tにて周期的に一定量の電荷
Qtが第1の容量Csに帰還転送されるようにする
ための各手段G2a,G2b,10を設けてある。し
かして、かかる平衡状態においては、第1の容量
Csをなすコンデンサの電位は、最早や、初期の信
号電荷Qsの量には依存せず、主として上述のパ
ラメータnおよびQtに依存するようになる。
なお、多くの適用例においては前述した各帰還
転送手段G2a,22b,10のみで足りるのである
から、余分の手段G3を設ける必要がない。
転送手段G2a,22b,10のみで足りるのである
から、余分の手段G3を設ける必要がない。
しかして、第1図に示したように、各ゲート電
極G1,G2およびG3は、各信号線S41,S42および
S43をそれぞれ介してクロツク電圧源21に接続
してあり、第5図には、第2図における信号S4の
代わりに各信号S41,S42およびS43を示してある。
極G1,G2およびG3は、各信号線S41,S42および
S43をそれぞれ介してクロツク電圧源21に接続
してあり、第5図には、第2図における信号S4の
代わりに各信号S41,S42およびS43を示してある。
第5図においては、第2図におけると同様に、
水平走査帰線期間TB内に位置して、信号電荷が
各信号電極ストリツプ41,42,43からバケツ
トブリゲード・レジスタ19′に転送される時間
間隔を決める各時点t5およびt6を示してあり、本
発明による撮像装置における第2図示の信号S4
を、第5図においては、第1のゲート電極G1に
供給する信号S41に替えてある。しかして、この
信号S41の変化の態様から明らかなように、電荷
の転送は連続的には行なわれず、以下に説明する
ように間欠的に行なわれる。
水平走査帰線期間TB内に位置して、信号電荷が
各信号電極ストリツプ41,42,43からバケツ
トブリゲード・レジスタ19′に転送される時間
間隔を決める各時点t5およびt6を示してあり、本
発明による撮像装置における第2図示の信号S4
を、第5図においては、第1のゲート電極G1に
供給する信号S41に替えてある。しかして、この
信号S41の変化の態様から明らかなように、電荷
の転送は連続的には行なわれず、以下に説明する
ように間欠的に行なわれる。
しかして、第5図においても、、時点t5にては
信号S42およびS43は正になつているが、各信号
S41,S42およびS43の電圧値は、半導体基板1中
にて第6図の信号波形aに示すような電位配分が
得られるようにして当業者が単純に選定すること
ができる。なお、第6図において、信号sおよび
dは、それぞれ、第4図示の構成におけるソース
領域5およびドレイン領域6に対応するものであ
り、また、第6図に記号G1,G2およびG3にて示
した各領域は、各ゲート電極G1,G2およびG3の
下にそれぞれ位置する半導体基板1の各部分に対
応するるものである。さらに、第6図示の各領域
G2およびG3において陰影を施した部分は、それ
ぞれ、第4図示の構成におけるn型ドープ領域1
0および11に対応するものであり、ドープによ
り得られた各ポテンシアル井戸に蓄積されている
電荷パケツトをそれぞれ表わしている。
信号S42およびS43は正になつているが、各信号
S41,S42およびS43の電圧値は、半導体基板1中
にて第6図の信号波形aに示すような電位配分が
得られるようにして当業者が単純に選定すること
ができる。なお、第6図において、信号sおよび
dは、それぞれ、第4図示の構成におけるソース
領域5およびドレイン領域6に対応するものであ
り、また、第6図に記号G1,G2およびG3にて示
した各領域は、各ゲート電極G1,G2およびG3の
下にそれぞれ位置する半導体基板1の各部分に対
応するるものである。さらに、第6図示の各領域
G2およびG3において陰影を施した部分は、それ
ぞれ、第4図示の構成におけるn型ドープ領域1
0および11に対応するものであり、ドープによ
り得られた各ポテンシアル井戸に蓄積されている
電荷パケツトをそれぞれ表わしている。
さて、第6図の信号波形aに示したようにソー
ス領域sからドレイン領域dに向けて電位が順次
に低下した電位配分の状態になる水平走査帰線期
間TBの始端においては、電子の形態をなす信号
電荷Qsが、矢印にて模式的に図示するように、
ソース領域sからドレイン領域dに向け流れて信
号電荷Qsの転送が行なわれる。かかる信号電荷
転送の期間においては、信号電荷Qsの転送に伴
つてソース領域sの電位レベルが低下するので、
信号電荷Qsの転送が次第に緩慢になる。かかる
信号電荷転送緩慢化の現象およびそれに伴う諸問
題の発生を防止するためには、第6図の信号波形
b,cに順次に示すように、第2、第3のゲート
電極G2,G3の下に蓄積される電荷パケツトの全
電荷Qtがソース領域sに順次に帰還転送されて
ソース領域sの電位が回復するまで、信号電荷
Qsの転送を中断するとともに、第2、第3のゲ
ート電極G2,G3の電位を、信号S42,S43により、
それぞれ一旦上昇させた後に低下させる。なお、
信号電荷Qsの最大値は、周知のとおり、第1の
ゲート電極G1の下に信号S41により生ずる電位障
壁によつて決まるが、煩雑を避けて図示しない。
ス領域sからドレイン領域dに向けて電位が順次
に低下した電位配分の状態になる水平走査帰線期
間TBの始端においては、電子の形態をなす信号
電荷Qsが、矢印にて模式的に図示するように、
ソース領域sからドレイン領域dに向け流れて信
号電荷Qsの転送が行なわれる。かかる信号電荷
転送の期間においては、信号電荷Qsの転送に伴
つてソース領域sの電位レベルが低下するので、
信号電荷Qsの転送が次第に緩慢になる。かかる
信号電荷転送緩慢化の現象およびそれに伴う諸問
題の発生を防止するためには、第6図の信号波形
b,cに順次に示すように、第2、第3のゲート
電極G2,G3の下に蓄積される電荷パケツトの全
電荷Qtがソース領域sに順次に帰還転送されて
ソース領域sの電位が回復するまで、信号電荷
Qsの転送を中断するとともに、第2、第3のゲ
ート電極G2,G3の電位を、信号S42,S43により、
それぞれ一旦上昇させた後に低下させる。なお、
信号電荷Qsの最大値は、周知のとおり、第1の
ゲート電極G1の下に信号S41により生ずる電位障
壁によつて決まるが、煩雑を避けて図示しない。
しかして、次の水平走査帰線期間TBの始端近
傍の時点t5においては、第6図の波形aに示すよ
うに、領域sから領域dに向う電荷の転送が連続
して行なわれ、かかる状態においては、第2のゲ
ート電極G2の下に位置する空のポテンシアル井
戸が、再び、電荷によつて満たされるので、その
ポテンシアル井戸の電位が再び変化する。しかし
て、ソース領域として作用する帯域5、ゲート電
極として作用する第1のゲート電極G1およびド
レイン領域として作用するポテンシアル井戸によ
つて形成されるトランジスタの利得係数(Vds/Vgs) i=cは無限大ではないのであるから、かかる電
圧変化は領域sに反作用を及ぼすことになり、そ
の利得係数を特定の値10とし、領域sと第2のゲ
ート電極G2の下のポテンシアル井戸との間にお
けるキヤパシタンスの比を約100とすると、その
約100の値の1/10に第2のゲート電極G2の下にお
ける比較的大きい電圧変化の値を掛算したもの
が、上述したトランジスタの入力側に反作用を及
ぼすことになる。かかる反作用および領域dから
領域sに及ぼす反作用の少なくとも大部分を防止
するためには、第3のゲート電極領域G3を第2
のゲート電極領域G2とドレイン領域dとの間に
設けることになる。しかして、時点t5において
は、第5図示のような正の電圧信号S43が第3の
ゲート電極に加わるので、第3のゲート電極G3
の下では、第6図の波形aに示すような電位配分
が得られ、第3のゲート電極G3の下における電
位が、第2のゲート電極G2の下における電位よ
りわずかに低くなり、かかる第3のゲート電極
G3の下に位置するn型ドープ帯域11の区域に
おいては、電荷によつて満たされたポテンシアル
井戸が形成される。第6図の波形aには、かかる
電荷パケツトを陰影を施して示してある。
傍の時点t5においては、第6図の波形aに示すよ
うに、領域sから領域dに向う電荷の転送が連続
して行なわれ、かかる状態においては、第2のゲ
ート電極G2の下に位置する空のポテンシアル井
戸が、再び、電荷によつて満たされるので、その
ポテンシアル井戸の電位が再び変化する。しかし
て、ソース領域として作用する帯域5、ゲート電
極として作用する第1のゲート電極G1およびド
レイン領域として作用するポテンシアル井戸によ
つて形成されるトランジスタの利得係数(Vds/Vgs) i=cは無限大ではないのであるから、かかる電
圧変化は領域sに反作用を及ぼすことになり、そ
の利得係数を特定の値10とし、領域sと第2のゲ
ート電極G2の下のポテンシアル井戸との間にお
けるキヤパシタンスの比を約100とすると、その
約100の値の1/10に第2のゲート電極G2の下にお
ける比較的大きい電圧変化の値を掛算したもの
が、上述したトランジスタの入力側に反作用を及
ぼすことになる。かかる反作用および領域dから
領域sに及ぼす反作用の少なくとも大部分を防止
するためには、第3のゲート電極領域G3を第2
のゲート電極領域G2とドレイン領域dとの間に
設けることになる。しかして、時点t5において
は、第5図示のような正の電圧信号S43が第3の
ゲート電極に加わるので、第3のゲート電極G3
の下では、第6図の波形aに示すような電位配分
が得られ、第3のゲート電極G3の下における電
位が、第2のゲート電極G2の下における電位よ
りわずかに低くなり、かかる第3のゲート電極
G3の下に位置するn型ドープ帯域11の区域に
おいては、電荷によつて満たされたポテンシアル
井戸が形成される。第6図の波形aには、かかる
電荷パケツトを陰影を施して示してある。
つぎに、水平走査帰線期間TBにおける第1の
中間時点t8においては、第6図の波形bに示すよ
うに、第2のゲート電極G2の下における蓄積電
荷Qtの帰還転送が矢印にて模式的に示すように
行なわれた後においては、領域sから領域dに向
う信号電荷Qsの転送は再開されず、まず、第2
のゲート電極G2には正の電圧が印加され、一方、
第3のゲート電極G3に加わる電圧信号S43は低下
する。ついで、水平走査帰線期間TBにおける第
2の中間時点t9においては、第6図の波形cに示
すような電位配分の状態になり、かかる状態にお
いては、矢印にて模式的に図示するように、第3
のゲート電極G3の下に位置した電荷パケツトが
第2のゲート電極G2の下に位置するポテンシア
ル井戸に流れ込んで、そのポテンシアル井戸を満
たすことになる。
中間時点t8においては、第6図の波形bに示すよ
うに、第2のゲート電極G2の下における蓄積電
荷Qtの帰還転送が矢印にて模式的に示すように
行なわれた後においては、領域sから領域dに向
う信号電荷Qsの転送は再開されず、まず、第2
のゲート電極G2には正の電圧が印加され、一方、
第3のゲート電極G3に加わる電圧信号S43は低下
する。ついで、水平走査帰線期間TBにおける第
2の中間時点t9においては、第6図の波形cに示
すような電位配分の状態になり、かかる状態にお
いては、矢印にて模式的に図示するように、第3
のゲート電極G3の下に位置した電荷パケツトが
第2のゲート電極G2の下に位置するポテンシア
ル井戸に流れ込んで、そのポテンシアル井戸を満
たすことになる。
さらに水平走査帰線期間TBにおける第3の中
間時点t10においては、第6図の波形aに示した
ように、各信号S41,S42およびS43が時点t5におけ
ると同等の状態に回復するので、再び、領域sか
ら領域dに向う電荷の転送が、始端近傍の時点t5
におけると同様な態様にて行なわれる。なお、か
かる電荷転送の期間中においては、第2のゲート
電極G2の下における電位が、少なくとも、領域
sに対する帰還結合がほぼ避けられる程度に変化
することはなく、したがつて、第3のゲート電極
G3から領域sに及ぶ帰還結合があり得るとして
も、その影響は一段低いものとなるので無視する
ことができる。
間時点t10においては、第6図の波形aに示した
ように、各信号S41,S42およびS43が時点t5におけ
ると同等の状態に回復するので、再び、領域sか
ら領域dに向う電荷の転送が、始端近傍の時点t5
におけると同様な態様にて行なわれる。なお、か
かる電荷転送の期間中においては、第2のゲート
電極G2の下における電位が、少なくとも、領域
sに対する帰還結合がほぼ避けられる程度に変化
することはなく、したがつて、第3のゲート電極
G3から領域sに及ぶ帰還結合があり得るとして
も、その影響は一段低いものとなるので無視する
ことができる。
つぎに、各信号電極ストリツプ41,42,43
からシフトレジスタ19′に向う信号電荷Qの転
送は、前述した態様にて連続して行なわれるとと
もに、電荷の帰還転送によつて周期的に中断され
る。
からシフトレジスタ19′に向う信号電荷Qの転
送は、前述した態様にて連続して行なわれるとと
もに、電荷の帰還転送によつて周期的に中断され
る。
しかして、領域sからの転送電荷量と領域sへ
の帰還電荷量とが釣合う平衡状態においては、帰
還転送される電荷の量が順次の帰還転送の間の期
間に領域sから領域dに向けて流れる電荷の量と
等しくなるのであるから、帰還転送の繰返し周波
数を適切に選定すれば、第3図示の電流電圧特性
における電流IO、電圧VOの平衡状態を得て、スイ
ツチ素子のインピーダンスを充分に低くし、ライ
ン走査抑制時間内にて、電荷量には無関係に、任
意の信号電荷を転送し得るようにすることができ
る。しかして、かかる帰還転送の繰返し周波数
は、実際の状態に則したそれぞれ特定の条件のも
とに、当業者が容易に選定し得るものであり、第
1の容量Csを約1pFとし、帰還転送する電荷量を
常時10fcとした具体例においては、帰還転送の繰
返し周波数1MHzのとき、すなわち、第5図にお
ける時点t5とt6との間の期間に、約10回、領域s
に対する電荷の帰還転送が行なわれるようにした
ときに、極めて満足すべき結果が得られた。しか
して、時点t5からt6までの周期内に領域sから領
域dに向けて全信号電荷パケツトを転送し得るの
であるから、垂直方向の輝度変化を有する画像を
優れた精細度をもつて電気信号に変換し得るとと
もに、水平方向の精細度についてもかなりの改善
が得られ、各信号電極ストリツプ41,42,43
を、その都度、容易に設定し得る出力電圧VOに
調整することができるので、各信号電極ストリツ
プ相互間における寄生的なクロストーク効果がほ
とんど生じないようにすることができた。
の帰還電荷量とが釣合う平衡状態においては、帰
還転送される電荷の量が順次の帰還転送の間の期
間に領域sから領域dに向けて流れる電荷の量と
等しくなるのであるから、帰還転送の繰返し周波
数を適切に選定すれば、第3図示の電流電圧特性
における電流IO、電圧VOの平衡状態を得て、スイ
ツチ素子のインピーダンスを充分に低くし、ライ
ン走査抑制時間内にて、電荷量には無関係に、任
意の信号電荷を転送し得るようにすることができ
る。しかして、かかる帰還転送の繰返し周波数
は、実際の状態に則したそれぞれ特定の条件のも
とに、当業者が容易に選定し得るものであり、第
1の容量Csを約1pFとし、帰還転送する電荷量を
常時10fcとした具体例においては、帰還転送の繰
返し周波数1MHzのとき、すなわち、第5図にお
ける時点t5とt6との間の期間に、約10回、領域s
に対する電荷の帰還転送が行なわれるようにした
ときに、極めて満足すべき結果が得られた。しか
して、時点t5からt6までの周期内に領域sから領
域dに向けて全信号電荷パケツトを転送し得るの
であるから、垂直方向の輝度変化を有する画像を
優れた精細度をもつて電気信号に変換し得るとと
もに、水平方向の精細度についてもかなりの改善
が得られ、各信号電極ストリツプ41,42,43
を、その都度、容易に設定し得る出力電圧VOに
調整することができるので、各信号電極ストリツ
プ相互間における寄生的なクロストーク効果がほ
とんど生じないようにすることができた。
そのうえ、上述した撮像管の例における本発明
によるスイツチ素子は、他の種類の撮像カメラ、
例えば、第7図に模式的に示すような構成の撮像
装置にも使用することができる。図示の撮像装置
には、それぞれダイオードDおよび電界効果トラ
ンジスタTよりなる感光性要素70を行および列
に配置した周知のマトリツクスを設けてあり、ト
ランジスタTにおける一方の主たる電極領域をダ
イオードDに接続するとともに、他方の主たる電
極領域を読出し信号線71にそれぞれ接続してあ
り、さらに、各トランジスタTのゲート電極は、
シフトレジスタ73により駆動する各選択信号線
72にそれぞれ接続してある。かかる構成におい
て、各選択信号線72のうちの1本が選択される
と、該当する行のダイオードDに蓄積されていた
信号電荷が組合わせたトランジスタTを介して読
出し信号線71に転送される。しかして、各列の
読出し信号線71から総合の読出し信号線74に
信号電荷を転送するためには、それらの読出し信
号線間にスイツチ素子75を設けてあり、このス
イツチ素子75は、その構成および作用に関して
は、前述の構成例における各スイツチ素子17
1′,172′,173′に相当するものであつて、クロ
ツク電圧源76に接続してあり、そのクロツク電
圧源76は、スイツチ素子群75のゲート電極に
第5図に示した種類の電圧を供給している。
によるスイツチ素子は、他の種類の撮像カメラ、
例えば、第7図に模式的に示すような構成の撮像
装置にも使用することができる。図示の撮像装置
には、それぞれダイオードDおよび電界効果トラ
ンジスタTよりなる感光性要素70を行および列
に配置した周知のマトリツクスを設けてあり、ト
ランジスタTにおける一方の主たる電極領域をダ
イオードDに接続するとともに、他方の主たる電
極領域を読出し信号線71にそれぞれ接続してあ
り、さらに、各トランジスタTのゲート電極は、
シフトレジスタ73により駆動する各選択信号線
72にそれぞれ接続してある。かかる構成におい
て、各選択信号線72のうちの1本が選択される
と、該当する行のダイオードDに蓄積されていた
信号電荷が組合わせたトランジスタTを介して読
出し信号線71に転送される。しかして、各列の
読出し信号線71から総合の読出し信号線74に
信号電荷を転送するためには、それらの読出し信
号線間にスイツチ素子75を設けてあり、このス
イツチ素子75は、その構成および作用に関して
は、前述の構成例における各スイツチ素子17
1′,172′,173′に相当するものであつて、クロ
ツク電圧源76に接続してあり、そのクロツク電
圧源76は、スイツチ素子群75のゲート電極に
第5図に示した種類の電圧を供給している。
なお、各スイツチ素子75は、前述の構成例に
おけると同様に、CCDシフトレジスタに並列に
接続することもでき、その場合には、各信号電荷
を各列の読出し信号線に同時に転送することがで
きる。しかしながら、図示の構成例においては、
各スイツチ素子群75が総合の読出し信号線74
に共通に接続してあるので、順次に駆動する必要
がある。
おけると同様に、CCDシフトレジスタに並列に
接続することもでき、その場合には、各信号電荷
を各列の読出し信号線に同時に転送することがで
きる。しかしながら、図示の構成例においては、
各スイツチ素子群75が総合の読出し信号線74
に共通に接続してあるので、順次に駆動する必要
がある。
以上の説明から明らかなように、本発明は、上
述した各実施例に限定されるものではなく、本発
明の範囲を逸脱しない限り、幾多の変更を施して
実施することができる。例えば、シリコンの代わ
りに、他の半導体装置材料、例えば、ゲルマニウ
ムや他のA−B族元素化合物、例えばGaAs
を用いることができる。また、注入帯域10およ
び11の代わりに、いわゆるCTD技術によつて
既知の他の手段を用いて、所望の深さのポテンシ
アル井戸を得ることもでき、その他の手段として
は、例えば、第2のゲート電極G2における各電
極部分G2aとG2bとの間および第3のゲート電極
G3における各電極部分G3aとG3bとの間で、酸化
物絶縁層9の厚みを異ならせ、あるいは、印加電
圧値を異ならせるなどすることができ、さらに、
それらの各電極部分間において別個のクロツク電
圧を印加するようにすることもできる。
述した各実施例に限定されるものではなく、本発
明の範囲を逸脱しない限り、幾多の変更を施して
実施することができる。例えば、シリコンの代わ
りに、他の半導体装置材料、例えば、ゲルマニウ
ムや他のA−B族元素化合物、例えばGaAs
を用いることができる。また、注入帯域10およ
び11の代わりに、いわゆるCTD技術によつて
既知の他の手段を用いて、所望の深さのポテンシ
アル井戸を得ることもでき、その他の手段として
は、例えば、第2のゲート電極G2における各電
極部分G2aとG2bとの間および第3のゲート電極
G3における各電極部分G3aとG3bとの間で、酸化
物絶縁層9の厚みを異ならせ、あるいは、印加電
圧値を異ならせるなどすることができ、さらに、
それらの各電極部分間において別個のクロツク電
圧を印加するようにすることもできる。
また、上述の各構成例においては、各スイツチ
素子の表面チヤネルを設けたが、その代わりに、
埋込みチヤネルを用いた構造にすることもでき
る。
素子の表面チヤネルを設けたが、その代わりに、
埋込みチヤネルを用いた構造にすることもでき
る。
第1図は本発明により付加するスイツチ素子群
を破線で囲んで示した撮像装置の構成例を示す回
路図、第2図は同じくその回路装置の動作中にお
ける各部電圧信号波形を示す波形図、第3図は
MOSトランジスタの電圧電流特性を示す特性曲
線図、第4図は本発明による半導体装置の構成例
を示す断面図、第5図は第1図示の回路装置の動
作中における各部電圧信号波形の他の例を示す波
形図、第6図は第4図示の半導体装置の動作中に
おける電位配分を示す線図、第7図は本発明によ
る撮像装置の他の構成例を示す回路図、第8図は
撮像装置の従来構成を示す回路図である。 1……半導体基板、2,3……端子、41,4
2,43……信号電極ストリツプ、5,6……表面
領域、5,5′……感光性ターゲツト、6,6′…
…電子ビーム、7……ソース電極、8……ドレイ
ン電極、9……絶縁層、10,11……n型領
域、11′……電圧源、161,162,163……
接点、171′,172′,173′,75……スイツチ
素子、181,182,183……入力信号線、1
9′,73……シフトレジスタ、20……出力端
子、21′,76……クロツク電圧源、401,4
02,403……浮遊容量、4111,4112,41
13,4122,4132,41n,70……感光性要
素、4211,4212,4222,4232,42n……
漏洩抵抗、50,52,54,56,58,62
……電界効果トランジスタ、51,53,55,
57,59,60……コンデンサ、63……抵
抗、71,74……読出し信号線、72……選択
信号線、Cs,Cd……容量、D……ダイオード、
G1,G2,G2a,G2b,G3,G3a,G3b……ゲート電
極、L1,L2,L3……入射光。
を破線で囲んで示した撮像装置の構成例を示す回
路図、第2図は同じくその回路装置の動作中にお
ける各部電圧信号波形を示す波形図、第3図は
MOSトランジスタの電圧電流特性を示す特性曲
線図、第4図は本発明による半導体装置の構成例
を示す断面図、第5図は第1図示の回路装置の動
作中における各部電圧信号波形の他の例を示す波
形図、第6図は第4図示の半導体装置の動作中に
おける電位配分を示す線図、第7図は本発明によ
る撮像装置の他の構成例を示す回路図、第8図は
撮像装置の従来構成を示す回路図である。 1……半導体基板、2,3……端子、41,4
2,43……信号電極ストリツプ、5,6……表面
領域、5,5′……感光性ターゲツト、6,6′…
…電子ビーム、7……ソース電極、8……ドレイ
ン電極、9……絶縁層、10,11……n型領
域、11′……電圧源、161,162,163……
接点、171′,172′,173′,75……スイツチ
素子、181,182,183……入力信号線、1
9′,73……シフトレジスタ、20……出力端
子、21′,76……クロツク電圧源、401,4
02,403……浮遊容量、4111,4112,41
13,4122,4132,41n,70……感光性要
素、4211,4212,4222,4232,42n……
漏洩抵抗、50,52,54,56,58,62
……電界効果トランジスタ、51,53,55,
57,59,60……コンデンサ、63……抵
抗、71,74……読出し信号線、72……選択
信号線、Cs,Cd……容量、D……ダイオード、
G1,G2,G2a,G2b,G3,G3a,G3b……ゲート電
極、L1,L2,L3……入射光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 信号を表わす量の電荷Qsを第1の容量Csか
ら第2の容量Cdまで有限の時間T(=t6−t5)を
有する所定の時間間隔内に転送するスイツチ素子
を有する半導体基板を備えた半導体装置におい
て、前記所定の時間間隔内に一定量の電荷Qtが
周波数n/Tにて周期的に前記第1の容量Csに帰
還転送されるのを助ける手段G1,G2,G3を前記
スイツチ素子として設け、前記有限の時間T(=
t6−t5)より短い周期tにて、前記第1の容量Cs
から順次の帰還転送の間の期間に前記第2の容量
Cdまで転送する電荷がその期間毎に平衡状態に
達して前記第1の容量Csに帰還転送される電荷に
等しくなるとともに、前記第1の容量Csの電位が
前記電荷Qsにほぼ無関係となるようにnおよび
Qtの値を選定することを特徴とする半導体装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の半導体装置にお
いて、前記電荷Qtが前記電荷Qsの最大値の多く
とも0.1となることを特徴とする半導体装置。 3 特許請求の範囲第1項または第2項記載の半
導体装置において、電荷の形態の情報の発生およ
び蓄積の少なくとも一方を行ない得る要素を多数
設けるとともに、前記第1の容量Csに前記要素を
選択的に結合させる選択手段を設けたことを特徴
とする半導体装置。 4 特許請求の範囲第1項、第2項または第3項
に記載の半導体装置において、前記スイツチ素子
を電界効果素子により構成し、前記半導体基板の
表面に接するとともに前記第1および前記第2の
容量にそれぞれ結合した前記電界効果素子のソー
ス領域およびドレイン領域をなす2個の表面領域
を設けて、それら2個の表面領域を前記ソース領
域から前記ドレイン領域に向う電流の通路に沿つ
て順次に位置する少なくとも2個のゲート電極
G1,G2を前記手段として設けたチヤネル領域に
よつて互いに分離し、前記ゲート電極のうち、第
1のゲート電極G1に前記チヤネル領域を介する
電流の通路を制御させるとともに、当該第1のゲ
ート電極G1に引続く第2のゲート電極G2に前記
チヤネル領域の下側部分にポテンシアル井戸を誘
起させて、適切な電圧の印加により前記ソース領
域に帰還転送し得る前記電荷Qtを蓄積させるよ
うにしたことを特徴とする半導体装置。 5 特許請求の範囲第4項記載の半導体装置にお
いて、前記第2のゲート電極G2に電圧を印加し
たときに、前記ソース領域の側に位置した前記第
2のゲート電極G2の下側近傍にポテンシアル井
戸を有する非対称の電位配分が前記半導体基板の
前記第2のゲート電極G2の下に位置する部分に
得られるようにした領域手段を設けたことを特徴
とする半導体装置。 6 特許請求の範囲第5項記載の半導体装置にお
いて、前記ポテンシアル井戸の区域に位置すると
ともに、前記半導体基板の隣接した表面部分とは
ドープ濃度の異なる領域を前記領域手段として設
けたことを特徴とする半導体装置。 7 特許請求の範囲第6項記載の半導体装置にお
いて、前記第2のゲート電極の下に位置する前記
ポテンシアル井戸の区域に設けた前記領域手段を
不純物を注入した帯域により形成したことを特徴
とする半導体装置。 8 特許請求の範囲第4項乃至第7項のいずれか
に記載の半導体装置において、前記第2のゲート
電極の下に位置する前記ポテンシアル井戸を、前
記ソース領域に前記電荷Qtを帰還転送した後で
あつて前記ソース領域から前記ドレイン領域まで
新たな電荷を転送する前に、再び電荷により満た
し得るようにするのを助ける電極手段を設けたこ
とを特徴とする半導体装置。 9 特許請求の範囲第8項記載の半導体装置にお
いて、前記第2のゲート電極の下に位置する前記
ポテンシアル井戸を満たす前記電極手段として、
前記第2のゲート電極と前記ドレイン領域との間
に位置して少なくとも前記量Qtの電荷を蓄積し
得る第2のポテンシアル井戸を前記半導体基板の
下側の部分に誘起させ得る第3のゲート電極G3
を設けたことを特徴とする半導体装置。 10 特許請求の範囲第9項記載の半導体装置に
おいて、前記半導体基板の前記第3のゲート電極
G3の下に位置する部分に、前記第3のゲート電
極G3に電圧を印加したときに、前記ソース領域
の側に位置する前記第3のゲート電極G3の下側
近傍にポテンシアル井戸を伴つた非対称の電位配
分が形成されるようにした他の領域手段を設けた
ことを特徴とする半導体装置。 11 特許請求の範囲第10項記載の半導体装置
において、前記ポテンシアル井戸の区域に位置す
るとともに、前記半導体基板の隣接した表面部分
とはドープ濃度の異なる領域を前記他の領域手段
として設けたことを特徴とする半導体装置。 12 特許請求の範囲第3項記載の半導体装置に
おいて、感光性セルを行列に配列したモザイクよ
りなる情報蓄積要素に組合わせてストリツプ状の
導体を設けて撮像装置の一部とするとともに、そ
のストリツプ状の導体を前記第1の容量Csの電極
としたことを特徴とする半導体装置。 13 特許請求の範囲第12項記載の半導体装置
において、前記撮像装置に前記スイツチ素子を備
えるとともに、前記ストリツプ状導体を前記モザ
イクの列の方向に延在させて当該スイツチ素子に
それぞれ個別に接続したことを特徴とする半導体
装置。 14 特許請求の範囲第13項記載の半導体装置
において、前記スイツチ素子の一方の電極をそれ
ぞれ容量Csを形成する前記ストリツプ状導体に接
続するとともに、当該スイツチ素子の他方の電極
を電荷転送レジスタのそれぞれ容量Cdを形成す
る入力端子に接続し、前記信号電荷Qsを、前記
スイツチ素子を介し、各信号線毎に前記電荷転送
レジスタ内にて並列に転送し得るようにするとと
もに、当該電荷転送レジスタを介し、出力端子に
転送して直列に取出し得るようにしたことを特徴
とする半導体装置。 15 特許請求の範囲第12項乃至第14項のい
ずれかに記載の半導体装置において、前記周期t
が水平走査帰線期間を超えないように前記パラメ
ータnおよびQtを選定したことを特徴とする半
導体装置。
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| NL8004328A NL8004328A (nl) | 1980-07-29 | 1980-07-29 | Schakelinrichting voor het ontladen van een capaciteit. |
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|---|---|
| JPS5753980A JPS5753980A (ja) | 1982-03-31 |
| JPH0254663B2 true JPH0254663B2 (ja) | 1990-11-22 |
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|---|---|---|---|
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- 1981-07-27 JP JP56117577A patent/JPH0254663B2/ja not_active Expired - Lifetime
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