JPH025510A - ホログラフィの技術を使った集積回路の製造装置 - Google Patents
ホログラフィの技術を使った集積回路の製造装置Info
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- JPH025510A JPH025510A JP1026525A JP2652589A JPH025510A JP H025510 A JPH025510 A JP H025510A JP 1026525 A JP1026525 A JP 1026525A JP 2652589 A JP2652589 A JP 2652589A JP H025510 A JPH025510 A JP H025510A
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- Japan
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- image
- integrated circuit
- light source
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
- G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
- H10P76/20—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials
- H10P76/204—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials of organic photoresist masks
- H10P76/2041—Photolithographic processes
- H10P76/2042—Photolithographic processes using lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ホログラフィ技術を用いた集積回路の製造、
および日本特許出願番号165125/87号に関する
しのである。
および日本特許出願番号165125/87号に関する
しのである。
(発明の背景)
上述した番号の特許明細書に開示された方法では、集積
回路は以下の基本的なステップの手段によって製造され
ている。
回路は以下の基本的なステップの手段によって製造され
ている。
(a)散乱が無視でき、収縮又は歪なく高解像度を呈す
る第1記録媒体を設ける。
る第1記録媒体を設ける。
(b)集積回路のパターンを含むマスクを通過するコヒ
ーレントの入力ビームと、第1記録媒体が配置された表
面にて内部全反射されるコヒーレントな光のレファラン
スビームとの間の干渉によって第1記録媒体上の集積回
路の体積ホログラフィ像を形成する。
ーレントの入力ビームと、第1記録媒体が配置された表
面にて内部全反射されるコヒーレントな光のレファラン
スビームとの間の干渉によって第1記録媒体上の集積回
路の体積ホログラフィ像を形成する。
(c)集積回路のホログラフィ像を複製するために第2
記録媒体を有するシリコン薄片によってマスクを置き換
える。
記録媒体を有するシリコン薄片によってマスクを置き換
える。
(d)記録された体積ホログラフィ像を逆方向に進む第
2レフアランスビームにより再生し、ホログラムと第2
レフ7ランスビームとの間に生じた干渉がシリコン薄片
上に設けられた第2記録媒体上に形成されるマスクに含
まれる集積回路の像を生じさせる。
2レフアランスビームにより再生し、ホログラムと第2
レフ7ランスビームとの間に生じた干渉がシリコン薄片
上に設けられた第2記録媒体上に形成されるマスクに含
まれる集積回路の像を生じさせる。
(e)複数のシリコン薄片について、複数回再生作業を
繰り返す。
繰り返す。
種々の問題が、ホログラフィの技術を使う集積回路を製
造する上述した方法から生じている。これらの問題のう
ちの一つは、シリコン薄片上の集積回路の像を得るため
に再生作業に使われる第2レフ7ランスビームのビーム
径に関係している。
造する上述した方法から生じている。これらの問題のう
ちの一つは、シリコン薄片上の集積回路の像を得るため
に再生作業に使われる第2レフ7ランスビームのビーム
径に関係している。
印刷された回路技術が向上するにしたがって、その設計
は複雑化し、集積密度はより高くなることは理解できよ
う。それ故に、ビームの不均一さのためにシリコン薄片
上に集積回路の完全に正確なホログラフィ複製をするこ
とはより困難となる。
は複雑化し、集積密度はより高くなることは理解できよ
う。それ故に、ビームの不均一さのためにシリコン薄片
上に集積回路の完全に正確なホログラフィ複製をするこ
とはより困難となる。
さらにまた、ホログラフィの再生において引起される光
の干渉が極性に依存していること、そして極端に広角の
光線が軸平行光線と十分に干渉することは殆ど期待でき
ないことも認識されよう。
の干渉が極性に依存していること、そして極端に広角の
光線が軸平行光線と十分に干渉することは殆ど期待でき
ないことも認識されよう。
(発明の目的)
本発明の目的は限定的に制御されたビーム寸法を得るこ
とによって上述した不具合を部分的又は完全に克服する
ことにある。
とによって上述した不具合を部分的又は完全に克服する
ことにある。
(発明の概要)
本発明によれば、複製しようとする集積回路のパターン
を含んだ対象物のホログラフィ像が、対象物を通過する
人力ビームとガラス板上の記録媒体の上面にて内部全反
射させられたレファランスビームとの間の干渉によって
第1記録媒体上に形成され、干渉が入射及び反射ビーム
の双方で生じ、そして集積回路の像が同様な技術を用い
ている第1記録媒体上に形成されたホログラフィ像の再
生によりシリコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に
均一に形成され、さらに (a)限定された再生ビームを供給するための手段と (b)シリコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に集
積回路パターンの像を形成するために再生ビームを滑ら
かに又は不連続的に順次移動させるための手段とを含ん
でいる。
を含んだ対象物のホログラフィ像が、対象物を通過する
人力ビームとガラス板上の記録媒体の上面にて内部全反
射させられたレファランスビームとの間の干渉によって
第1記録媒体上に形成され、干渉が入射及び反射ビーム
の双方で生じ、そして集積回路の像が同様な技術を用い
ている第1記録媒体上に形成されたホログラフィ像の再
生によりシリコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に
均一に形成され、さらに (a)限定された再生ビームを供給するための手段と (b)シリコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に集
積回路パターンの像を形成するために再生ビームを滑ら
かに又は不連続的に順次移動させるための手段とを含ん
でいる。
限定された再生ビームを使用することによって、印刷さ
れた像の質を完全に乱す広角輻射を防ぐとという特別の
目的でもって、再生システムのa動量口数について制御
が行なわれる。
れた像の質を完全に乱す広角輻射を防ぐとという特別の
目的でもって、再生システムのa動量口数について制御
が行なわれる。
(実施例)
次に、本発明の一実施例を図面に従って説明する。
第1図を参照すると、シリコン薄片30上に設けられた
記録媒体上の集積回路の像を形成する再生作業において
、第2レフ1ランスビームが特許明細書第2.193,
344号(英国特許第87゜14761号)において言
及されているレーザ光源又は水銀ランプ32によって供
給されている。
記録媒体上の集積回路の像を形成する再生作業において
、第2レフ1ランスビームが特許明細書第2.193,
344号(英国特許第87゜14761号)において言
及されているレーザ光源又は水銀ランプ32によって供
給されている。
その光がプリズム22を通って、ガラス板1G、したが
って第1記録媒体内へ進むために、屈折率マツヂング用
液体27がガラス板1Gとプリズム22の表面Xとの間
に設けられる必要があり、プリズムの構造はその光が記
録媒体/空気の境界面で内部全反射するようになってい
る。円形開口部を有するダイヤフラムの形状のマスクが
、均一なスキャンをするために円形断面を有するバーの
形をi、 tニー、制御へれノ、−、寸法の再生ビーム
を作り出すために、上記光源の1ノンズ装置内に設けら
れている。
って第1記録媒体内へ進むために、屈折率マツヂング用
液体27がガラス板1Gとプリズム22の表面Xとの間
に設けられる必要があり、プリズムの構造はその光が記
録媒体/空気の境界面で内部全反射するようになってい
る。円形開口部を有するダイヤフラムの形状のマスクが
、均一なスキャンをするために円形断面を有するバーの
形をi、 tニー、制御へれノ、−、寸法の再生ビーム
を作り出すために、上記光源の1ノンズ装置内に設けら
れている。
この光源32は第1記録媒体上にホログラフィ像をスキ
ャンするために、連続的に移動させられる。
ャンするために、連続的に移動させられる。
このことは、テ1ノビジ搾ンのスキャン;こ対j2て同
様な方法で、即ち矢印PとQと記号Uと■の方向になさ
れ、その結果ガラス板からなる第1記録媒体上に記録さ
れたホログラフィ像からシリコン板上に設けられた第2
記録媒体上に集積回路の像が、レフ1ランス用の再生先
源32からの入射7反射ビーム間の干渉によって漸次形
成される。このようにして、最終的に均一なスキャンが
らたらされる。均一なホログラフィ像が被覆したシリコ
ンの全表面に得られる。さらに、ホログラムに到達;7
た再生ビームの強度が最大となる。
様な方法で、即ち矢印PとQと記号Uと■の方向になさ
れ、その結果ガラス板からなる第1記録媒体上に記録さ
れたホログラフィ像からシリコン板上に設けられた第2
記録媒体上に集積回路の像が、レフ1ランス用の再生先
源32からの入射7反射ビーム間の干渉によって漸次形
成される。このようにして、最終的に均一なスキャンが
らたらされる。均一なホログラフィ像が被覆したシリコ
ンの全表面に得られる。さらに、ホログラムに到達;7
た再生ビームの強度が最大となる。
レフ1ランス用再生光源の移動は電気モータによって矢
印PとQの方向に一対のレールに沿って移動可能なトロ
リー上にこの光源を装備することによって達成してもよ
い。この1ノールは矢印UとVの方向の移動のためにラ
ック(rack)、、hに装備され、このラックは電気
モータによって足並をそろえて駆動される。
印PとQの方向に一対のレールに沿って移動可能なトロ
リー上にこの光源を装備することによって達成してもよ
い。この1ノールは矢印UとVの方向の移動のためにラ
ック(rack)、、hに装備され、このラックは電気
モータによって足並をそろえて駆動される。
第2A図によると、第1図に示される装置は、再生ビー
ムを作り出し、それはスキャン中のどの瞬間でも、楕円
エリア50を照らしているうスキャン工程は記録媒体上
に記録されたホログラフィ像のエリアの第1:I−す5
2にてスタートシ、そしてライン54に沿って第2コー
ナ56に向かって進めばよい。それから、レフ1ランス
用再生ビームのレーザ光源は、直角に不連続的な量だけ
移動させられ、それからスキャンがライン58に沿った
逆方向に行なわれる。このようにして、ホログラフィの
像は一方のコーナ52から径方向に対向するコーナ60
にジグザグ状にスキャンされる。
ムを作り出し、それはスキャン中のどの瞬間でも、楕円
エリア50を照らしているうスキャン工程は記録媒体上
に記録されたホログラフィ像のエリアの第1:I−す5
2にてスタートシ、そしてライン54に沿って第2コー
ナ56に向かって進めばよい。それから、レフ1ランス
用再生ビームのレーザ光源は、直角に不連続的な量だけ
移動させられ、それからスキャンがライン58に沿った
逆方向に行なわれる。このようにして、ホログラフィの
像は一方のコーナ52から径方向に対向するコーナ60
にジグザグ状にスキャンされる。
テレビジョンスクリーンがスキャンされる方法で別のス
キャンが行なわれてもよい。この方法に関するただ一つ
の問題は、光源の慣性のために各ラインの始めに戻るの
に有限の時間がかかるフライバック(fly back
)である。
キャンが行なわれてもよい。この方法に関するただ一つ
の問題は、光源の慣性のために各ラインの始めに戻るの
に有限の時間がかかるフライバック(fly back
)である。
ざらに、別のスキャン法は第2C図に示され、一連のス
キャンは、各スキャンでスキャンされるエリアにオーバ
ーラツプがある点を除き第2A図に示されるらのと同一
である。この場合、工程は一方のコーナ72にて始まり
、水平線74に沿って第2のコーナ76に進む。その後
、1ノーザ光源は水平線78に沿って逆方向にスキャン
するノ:−めにスキャンライン74の幅の半分よりも小
さい爪だけ移動する。このように1.てホログラフィの
像はコーナ70から径方向に対向するコーナ80に、各
ラインを先のラインとオーバーラツプさせながらジグザ
グ状にスキャンされる。
キャンは、各スキャンでスキャンされるエリアにオーバ
ーラツプがある点を除き第2A図に示されるらのと同一
である。この場合、工程は一方のコーナ72にて始まり
、水平線74に沿って第2のコーナ76に進む。その後
、1ノーザ光源は水平線78に沿って逆方向にスキャン
するノ:−めにスキャンライン74の幅の半分よりも小
さい爪だけ移動する。このように1.てホログラフィの
像はコーナ70から径方向に対向するコーナ80に、各
ラインを先のラインとオーバーラツプさせながらジグザ
グ状にスキャンされる。
第2B図を参照すると、ホログラフィ像により占有され
たエリアの一方の側64を横切って延びる延長されたバ
ー62の形をした再生ビームを供給できるであろう。こ
のことは、対向する側66へのただ一回のスキャンが必
要であるという利点がある。1.かじながら、それはも
し1ノフアランス用の再生ビームの均一性がバー62の
全長にわたって達成され、そしてもしシリコンウェハー
がこのエリア上で平らである場合にだけ実用的であると
いうことである。
たエリアの一方の側64を横切って延びる延長されたバ
ー62の形をした再生ビームを供給できるであろう。こ
のことは、対向する側66へのただ一回のスキャンが必
要であるという利点がある。1.かじながら、それはも
し1ノフアランス用の再生ビームの均一性がバー62の
全長にわたって達成され、そしてもしシリコンウェハー
がこのエリア上で平らである場合にだけ実用的であると
いうことである。
上述した装置は、集積回路の像を形成するためにシリコ
ン板上に設けられた第2記録媒体上にホログラム像を複
製するための再生作業にのみ関連しているが、スキャン
技術は適切に適合させることにより第1g1li録媒体
上のホログラフィ像を形成するために使ってもよい。し
かしながら、この場合に新たな問題があり、それは人力
レーザとレファランス用レーザとがスキャン動作全体に
わたって正確に同期させられていなければならないこと
で、それでなければホログラフィ像のような集積回路の
正確な複製を得ることは困難であろう。このスキャン技
術は、上述したのと同様であってよく、入力とレファラ
ンス用ビームの延長されたバーのただ一回のスキャンは
同期及び正確な複製の見地より明白な利点を備えている
。
ン板上に設けられた第2記録媒体上にホログラム像を複
製するための再生作業にのみ関連しているが、スキャン
技術は適切に適合させることにより第1g1li録媒体
上のホログラフィ像を形成するために使ってもよい。し
かしながら、この場合に新たな問題があり、それは人力
レーザとレファランス用レーザとがスキャン動作全体に
わたって正確に同期させられていなければならないこと
で、それでなければホログラフィ像のような集積回路の
正確な複製を得ることは困難であろう。このスキャン技
術は、上述したのと同様であってよく、入力とレファラ
ンス用ビームの延長されたバーのただ一回のスキャンは
同期及び正確な複製の見地より明白な利点を備えている
。
(発明の効果)
集積回路の像が上述したスキャン技術によって再生動作
においてシリコン板上に設けられた第2記録媒体上に形
成される上述した装置は、(a)ビームの不均一性がス
キャン中ビームのオーバーラツプによって克服されるこ
と、(b)ホログラムに到達する再生ビームの強度が最
大になること、 (C)収差が実質的に減ぜられること、(d)レファラ
ンス用の再生レーザ光源の開口数が制御可能であること
、 等の利点を有している。
においてシリコン板上に設けられた第2記録媒体上に形
成される上述した装置は、(a)ビームの不均一性がス
キャン中ビームのオーバーラツプによって克服されるこ
と、(b)ホログラムに到達する再生ビームの強度が最
大になること、 (C)収差が実質的に減ぜられること、(d)レファラ
ンス用の再生レーザ光源の開口数が制御可能であること
、 等の利点を有している。
この最後の2つの利点は、第1記録媒体の上部表面に達
し、ここから反射される光線゛の束の縮小した寸法の結
果もたらされたものである。
し、ここから反射される光線゛の束の縮小した寸法の結
果もたらされたものである。
第1図はスキャン技術を使ってシリコン板上に設けられ
た記録媒体上にホログラフィ像を記録するための再生を
示す装置の概略図、第2A図、第2B図および第2C図
は別の使用し得るスキャン方法を示す図である。 特許出願人 ホルトロニツク・テクノロジイズ・リミテ
ッド 代理人 弁理士 青 山 葆 ほか1名lフク/ FIG2(’。 手糸売補正書 (自発) 特許庁長官殿 ゝ1!成1年:3月23[1 発明の名称 ホログラフィの技術を使−・ノー集積回路の製造装置補
正なする者 事件との関係
た記録媒体上にホログラフィ像を記録するための再生を
示す装置の概略図、第2A図、第2B図および第2C図
は別の使用し得るスキャン方法を示す図である。 特許出願人 ホルトロニツク・テクノロジイズ・リミテ
ッド 代理人 弁理士 青 山 葆 ほか1名lフク/ FIG2(’。 手糸売補正書 (自発) 特許庁長官殿 ゝ1!成1年:3月23[1 発明の名称 ホログラフィの技術を使−・ノー集積回路の製造装置補
正なする者 事件との関係
Claims (8)
- (1)複製しようとする集積回路のパターンを含んだ対
象物のホログラフィ像が、対象物を通過する入力ビーム
とガラス板上の記録媒体の上面にて内部全反射させられ
たレファランスビームとの間の干渉によって第1記録媒
体上に形成され、干渉が入射及び反射ビームの双方で生
じ、そして集積回路の像が同様な技術を用いている第1
記録媒体上に形成されたホログラフィ像の再生によりシ
リコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に均一に形成
され、さらに (a)限定された再生ビームを供給するための手段と (b)シリコン薄片上に設けられた第2記録媒体上に集
積回路パターンの像を形成するために再生ビームを滑ら
かに又は不連続的に順次移動させるための手段とを含む
ことを特徴とするホログラフィの技術を使った集積回路
の製造装置。 - (2)上記限定された再生ビームを供給する手段が、レ
ーザ光源又は水銀ランプを備え、断面円形のバー形状の
再生ビームを作り出すための上記光源又はランプのレン
ズ装置にマスクが設けられていることを特徴とする請求
項(1)に記載の装置。 - (3)上記再生ビームを移動させる手段が、一対のガイ
ドレール上に装備され、一方の端から他方の端へ連続的
、又は不連続的に駆動されるトロリー手段を備え、この
ガイドレールが直交方向に段階的に移動するためのラッ
ク手段上に装備されていることを特徴とする請求項(1
)又は(2)に記載の装置。 - (4)上記ガラス板と第1記録媒体が装備されているプ
リズムの表面との間に屈折率マッチング用液体が設けら
れていることを特徴とする請求項(1)から(3)のい
ずれかに記載の装置。 - (5)第1記録媒体を横切る上記再生ビームの移動が、
スキャンが一方のコーナから径方向に対向するコーナに
ジグザグ形に行なわれるように互い違いの方向のライン
に沿っていることを特徴とする請求項(1)から(4)
のいずれかに記載の装置。 - (6)上記ジグザグ状のラインが互いにオーバーラップ
していることを特徴とする請求項(5)に記載の装置。 - (7)限定されたビームを供給するための上記手段がレ
ーザ光源又は水銀ランプを備え、スキャンされる第1記
録媒体の幅に等しい長さの縦方向のバーの形をした再生
ビームを作り出すために上記光源又はランプのレンズ装
置内にマスクが設けられていることを特徴とする請求項
(1)に記載の装置。 - (8)実質的に添付図面を参照して以下に記載され、そ
して添付図面に示されているように構成されたホログラ
フィ技術を用いた集積回路の製造のための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888802333A GB8802333D0 (en) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | Improvements in manufacture of integrated circuits using holographic techniques |
| GB8802333 | 1988-02-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH025510A true JPH025510A (ja) | 1990-01-10 |
| JP2723587B2 JP2723587B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=10630954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1026525A Expired - Fee Related JP2723587B2 (ja) | 1988-02-03 | 1989-02-03 | ホログラフィの技術を使った集積回路の製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4966428A (ja) |
| JP (1) | JP2723587B2 (ja) |
| GB (2) | GB8802333D0 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR100313355B1 (ko) * | 1993-05-24 | 2002-04-06 | 알리 레자 노바리 | 인쇄된패턴의배율을변경시키는방법및장치 |
| JPWO2003010803A1 (ja) * | 2001-07-26 | 2004-11-18 | セイコーエプソン株式会社 | 露光装置、露光方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 |
| US7046408B2 (en) | 2003-09-22 | 2006-05-16 | Seiko Epson Corporation | Method of hologram exposure, mask for hologram exposure, semiconductor device, and electronic equipment |
Families Citing this family (16)
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|---|---|---|---|---|
| DE3734438A1 (de) * | 1987-10-12 | 1989-04-27 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur herstellung eines reflexionshologramms |
| US5322747A (en) * | 1989-03-22 | 1994-06-21 | Hugle William B | Method of manufacturing an optical disc |
| GB8908871D0 (en) * | 1989-04-19 | 1989-06-07 | Hugle William B | Manufacture of flat panel displays |
| GB8922341D0 (en) * | 1989-10-04 | 1989-11-22 | Holtronic Technologies Ltd | Apparatus for and method of optical inspection in a total internal reflection holographic imaging system |
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