JPH0362299B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ホログラフイ技術を用いた集積回路
の製造法に関する。

（従来の技術） 集積回路は、シリコンウエハを感光剤で塗布
し、マスクと呼ばれる回路パターンのネガテイブ
像を通してウエハにフラツシユを浴びせ、この像
を現像し、微視的な回路線を金属導体の薄い層で
被うという工程を繰り返して、層に形成される。
回路線の幅が広かつた15年前には、像は、ウエハ
上にマスクを置いて印刷された。しかし、集積回
路の線がより細くなることが要求されるにつれ、
より精巧な投映技術が使用されてきている。装置
は、マスクの像をウエハに焦点を合わせる鏡を使
用し、かつ、ウエハの直接の取扱いと接触の必要
をなくす。

投映システムは生産性が高いことがわかつたけ
れども、なお、集積回路と同じ大きさのマスクを
ウエハの上に使用している。線幅を減少するた
め、ステツパアラインメント装置が発展した。こ
の装置は、チツプの大きさの５〜10倍のマスクを
使用する。したがつて、マスクの性質は、投映ス
クリーンにおけるほど重要ではない。マスクの像
は、高価な高分解能レンズにより縮小され、シリ
コン上に結像する。しかし、チツプの全直径であ
る100〜125mmをおおうほど大きなレンズは存在し
ない。そこで、装置は、一度に１つのチツプだけ
ウエハを照射し、チツプからチツプへと移動して
いく。

ステツパシステムの長所は、マスク像の縮小の
際に、マスクの欠陥も縮小されることである。し
かし、集積回路の線の大きさを縮小するほど、重
大な問題が生じ、ほこり、微小なきず、指紋など
の小さなきずがチツプの欠陥を生じさせる。

したがつて、純粋に光学的なシステムにおける
重大な制限のために、研究者は、他の技術の発展
を試みている。

この他の技術は、それぞれ、固有の問題をかか
えている。たとえば、Ｘ線アライナは、通常の投
映ギヤのように作用するが、マスクを通るのは光
ではなくＸ線である。Ｘ線の波長は光の波長より
かなり小さいので、より微細な図形を区画でき
る。しかし、像を記録するために必要な化学薬品
は、現在は適当な価格で得られない。さらに、Ｘ
線を止めることが可能な特別なマスクが必要であ
るが、この特別なマスクは、もろく、かつ、高価
である。

すでに試みられた他の技術には、電子ビーム露
光システムを用いるものがある。しかし、この種
のシステムは、非常に生産性が悪い。なぜなら、
システムは各回路線を別々に重複する点の列とし
て「書く」ので、全パターンを瞬間的に書き込む
フラツシユを大面積に浴びせる従来法に比べて、
はるかに労力を要する。このように、電子ビーム
システムは、高性能のマスクを生産できる一方、
必要な製造技術は、若干の特別な分野を除くと、
実際に使用するには遅すぎる。

このように、Ｘ線システムと電子ビームシステ
ムは、光システムより特別な長所を有するが、他
方では、限界を有する。たとえば、Ｘ線システム
の一つの長所は、利用できる波長が短かいので高
分解能が達成できることであり、別の長所はソフ
トな欠陥に対して敏感でないことである。しか
し、他方では、新しいレジストシステムが必要で
あり、また、Ｘ線は、近接効果に敏感である。さ
らに、「ステツパ」工程は、効率や機械的位置決
めといつた現在のシステムのすべての問題を有す
る。Ｘ線マスクも、特別なマスク材料と金被覆が
必要なので、新しいマスク技術が必要である。

近年、研究者は、ホログラフイシステムを変形
して利用する可能性を再び検討している。通常の
光システムの問題は、１ミクロン（１×10^-6m）
より小さい幅の集積回路線の場合に、光の波長に
よつてシステムに課される基本的な物理的限界で
ある。以上に述べた問題のうちの若干の問題はホ
ログラフイ技術の使用により克服できることが提
言されているけれども、ホログラフイシステムを
実際に使用できるようにするには、まだ解決すべ
き問題がある。

（発明が解決しようとする問題点） １つの問題は、ホログラフイ印刷技術における
レーザの使用に関する。レーザは、一定の波長の
コヒーレントな光を発生する。一方、通常の光
は、通常は赤外から紫外までの波長範囲のランダ
ムな位相の光からなり、「インコヒーレント」で
ある。

集積回路構造がレーザビーム中に置かれると、
生じた像がスペツクルを有することが観測されて
いる。この問題は、ホログラフイ技術によつて作
られる回路像が許容できない欠陥を有する可能性
があることを意味する。

別の問題は、任意のホログラフイ技術に使用で
きる透明記録部材の材料の選択に関する。試験さ
れたホログラフイ媒体は、極細粒のハロゲン化銀
からなる。このような媒体は、残念ながら、粒構
造により光の散乱を生じ、この現象は、印刷され
た像の分解能の損失をほとんど確実に生じる。最
も好ましい記録媒体は、散乱と吸収が少なく、ま
た、粒がないものであろう。光ポリマ媒体は、写
真には感度はないけれども、散乱と吸収により生
じる困難が大きく避けられるであろう。位相ホロ
グラムの記録の処理に適したポリマ物質の多数の
例が、英国特許明細書第1471764号にロビラード
（J.J.A.Robillard）教授により開示されている。

もし以上の議論により適当な記録材料が選択で
きたとしても、ホログラフイの基本的な光の限界
により、印刷された像の分解能の絶対的な最大値
を達成できない。

ホログラム板の空気と乳剤との境界で全反射さ
れた参照光束を用いてホログラムを作る新技術
が、ステツトソン氏（K.A.Stetson）により、
「内側へ全反射された光を用いたホログラフイ」
という題のアプライドフイジツクスレター
（Applied Physics Letter）（1967年10月１日）
の論文に開示された。この種の記録は、対象物と
ホログラムの非常に密接な間隔を可能にする。し
たがつて、記録工程における分解能の限界を大き
く改善できる。添付した図面の第４図は、空気乳
剤境界で全反射される参照光束を確立するために
使用される機構を図式的に示す。ホログラムＨを
形成するための記録媒体は、集束された参照光束
を第１のガラス板を通して通過させるために、ガ
ラスの表面の間に油を用いて、プリズムＰの表面
に置かれる。ホログラフイで記録されるべき対象
物Ｏは、第２のガラス板の上に置かれ、スペーサ
Ｑにより第１のガラス板と隔てられる。図におい
て、Ｒは参照光束であり、Ｓは主光束である。こ
こに注意すべきことに、参照光束Ｒは、空気乳剤
境界から全反射されるような角度で、ホログラム
板を構成する第１ガラス板に入射する。主光束Ｓ
は、ホログラム板にほとんど垂直に入射し、プリ
ズムＰの小さい面を通つて出ていく。プリズムＰ
と、ホログラムＨがその上に形成されるベき第１
ガラス板との間の油の量は、この境界面を通つて
光を透過させる。参照光束Ｒは、プリズムＰの１
つの側面にほとんど垂直に入射し、反射の前と後
の両方での主光束Ｓとの干渉により、第１ガラス
板の上側の表面上の乳剤にホログラムＨを形成す
る。

注意すべきことに、以上の構成において、ホロ
グラムの記録は、「接触印刷」ではなく、実際に
は波面を再生する。主光束Ｓは、実際には、球状
収束光束であり、参照光束の共役を用いた再生に
おいて、主光束の共役は、原主光束の半径に等し
い距離で焦点に収束する。白色光の再生におい
て、色のスペクトルが、焦点で観測され、再生の
回析される性質を示す。

さらに注意すべきことに、ホログラム自身は、
再生よりも一桁小さいオーダーの分解能を示す。
再生は、ホログラムのようなネガテイブ像ではな
く、対象物のポジテイブ像である。すなわち、ホ
ログラム上の暗い領域は、再生では明るい領域に
なり、ホログラム上の明るい領域は、再生では暗
い領域になる。

ステツトソン氏（K.A.Stetson）によるアプラ
イドフイジツクスレター（Applied Physics
Letter）（1968年６月１日）の別の論文では、全
内部反射ホログラムにおける分解能と信号雑音比
の改善を論じている。全内部反射ホログラムは、
主光束とホログラム板の空気乳剤表面から全反射
された参照光束の一方又は双方で作られるホログ
ラムである。参照光束が全反射され主光束が垂直
に透過するとき、参照光束を妨げることなく、透
明な対象物をホログラムの非常に近くに位置する
ことが可能である。この論文で、ステツトソン氏
は、全内部反射ホログラムが高性能顕微鏡レンズ
に比較できる分解能で像を作ることができると結
論した。さらに、全内部反射ホログラムの像の劣
化の制限因子は、像に対する雑音となる写真乳剤
からの散乱光のコヒーレントなバツクグラウンド
である。

ホログラムをフオトエツチング技術と結合して
使用することによる半導体部品の製造法は、英国
特許明細書第1331076号に開示されている。この
発明は、使用したホログラム、または、ホログラ
ムから再生されたエツチングマスクの実像を、す
でに土台の上に位置されたエツチングパターンを
用いて調整する方法を特に記載する。この方法で
は、半導体材料の物体はフオトラツカーで被覆さ
れ、露光されて、各処理工程の前にエツチングパ
ターンを作る。各エツチングパターンは、それぞ
れのホログラムから投映される。第１のエツチン
グマスクの製造に用いたホログラムには、３つの
調整マークが中に記録されている。このホログラ
ムの投映は、物体に結像し、各ホログラムの逐次
の投映において再設定に利用される参照マークを
生じる。参照マークは、物体の表面に反射領域と
して残る。調整マークの実像は再生され、それぞ
れの参照マークと一致させられる。このような技
術は、遅く、単調であり、非常には正確でなく、
またやや高価である。

したがつて、本発明の目的は、上記従来技術の
欠点を克服し、安価で高分解能のウエハ印刷を可
能にするホログラフイ法を用いた集積回路製造方
法を提供することである。

（問題点を解決するための手段） 本発明に係るホログラフイ法を用いた集積回路
製造方法は、コーヒレントな光の入力光束とコー
ヒレントな光の第１の参照光束との干渉により感
光記録媒体上に集積回路のホログラフイ像を形成
するホログラフイ法を用いた集積回路製造方法に
おいて、 (a) 散乱が無視できるとともに高い分解能を有す
る収縮もしくはひずみをほとんど生じない第１
の感光媒体を用意する工程と、 (b) コーヒレントな光の少なくとも一つの光源か
ら入力光束および第１の参照光束を発生させ
て、上記入力光束を第１の感光記録媒体の上に
配置されるとともに集積回路の設計図を含むマ
スク窓を通過させ、上記第１の参照光束を記録
媒体にて全反射させる工程と、 (c) 入射光束と反射された第１の参照光束との両
方で干渉を発生させ、この干渉により上記第１
の感光記録媒体上に体積ホログラフイ像を形成
して記録する工程と、 (d) 上記マスク窓を取り除き、その位置に第２の
感光記録媒体を有するシリコン薄板を配置する
工程と、 (e) 上記第１の感光記録媒体の上に記録されたホ
ログラムの像を、このホログラムの像を形成す
る第１の参照光と実質的に逆の方向に向つて進
むコーヒレントな光の第２の参照光束で上記ホ
ログラムの像を照射することにより、上記第２
の感光記録媒体上に再生して記録する工程と、 (f) 上記集積回路の像を有する複数のシリコン薄
板を製造するために必要な回数だけ、各々が第
２の記録媒体を有する他のシリコン薄板につい
て上記工程(e)をさらに繰り返す工程と、 を含む。

第２の参照光束は、別の光源で発生してもよい
し、同じ光源を用いて向きを逆にしてもよい。同
じ参照光源を用いる場合は、両参照光束は同じレ
ーザ光源から得られる。

シリコン薄板にホログラムの像を形成するとき
に正しい焦点深度を確実に得るために、シリコン
薄板を露光中に縦に移動する工程をさらに設け
る。シリコン薄板のこの縦移動は、好ましくは、
電圧を加えると厚さが変る圧電スペーサにより達
成できる。

（作用） コヒーレントな光の光源から入つてくる参照光
束がホログラフイ層の表面で内部に反射され、集
積回路の設計図（対象物）を含むマスク窓を通つ
てくる光が入射する参照光束と内部に反射された
参照光束の双方と事実上干渉して透過ホログラム
を形成する。マスク窓の代りにシリコン薄板を置
いてこのホログラムが後に再生されたとき、マス
ク窓に位置する対象物の実像をシリコン薄板上に
作る。

（実施例） 以下、添付の図面を参照して実施例を用いて本
発明をより詳細に説明する。

第１図に示すように、この装置は、頂点ミラー
１０、拡大レンズ１２、ピンホールフイルタ１
３、集束レンズ１４、ガラス板１６、マスク１
８、スペーサ２０およびプリズム２２からなる。
ガラス板１６の上には、記録乳剤が被覆されてい
て、体積ホログラムの形成を可能にする。マスク
１８は、ガラス板１６の上に位置する。スペーサ
２０は、マスク１８をガラス板１６から隔てる。
体積ホログラムとは、表面レリーフホログラムと
異なり、ホログラムの材料の全体から像を形成す
る性質を示すホログラムである。プリズム２２の
屈折率は、ガラス板１６と同じである。マスク１
８は、対象物たとえば再生すべき集積回路の形状
（設計図）をデコードしたマスク窓１９を有する。
実際には、レーザ光源２４と２５は同じ光源であ
るが、簡単のため分けてある。しかし、もし周波
数が同じにしてあるならば、２つの別のレーザ光
源を用いることは全く可能である。

入力光束（上では主光束と呼んでいた）Ｓは、
レーザ光源２４により発生されたコヒーレントな
光の光束である。参照光束Ｒは、別の光源２５に
より発生され集束レンズ２７を通つた別のレーザ
光束である。光束の強度が断面で十分均一である
ように、アンチガウシアン素子がレーザ光源２
４，２５からの１次光束に結合される。参照光束
Ｒは、プリズム２２の短い面の一方Ｚに実質的に
垂直に投映される。参照光束Ｒは、ガラス板１６
とプリズム２２の最長面Ｘとの接合部を通る。参
照光束Ｒは、ガラス板１６の上側の面で内部へ反
射され、プリズム２２の他の短い面Ｙを実質的に
垂直に出ていく。参照光束Ｒが反射される角度θ
（ガラス板１６の上側の面の垂直線に関して）は、
全内部反射の臨界角θ_cより大きい。この臨界角θ_c
は、sin^-1（１／ｎ）で定義される。ここに、ｎは
プリズム２２の屈折率である。

入力光束すなわち主光束Ｓは、レーザ光源２４
からの発光の際に頂角ミラー１０で反射され、拡
大レンズ１２に縦軸に実質的に垂直に入る。拡大
レンズ１２の出口に位置するピンホールフイルタ
１３は、拡大されたレーザ光束がコヒーレントな
光の対称円錐として広がることを確実にする。次
に、コヒーレントな光の広がる光線は、集束レン
ズ１４と上記のアンチガウシアン素子とを通る。
こうして、光線は、そこから相互に平行に出て、
一様に分布する。次に、光線は、マスク窓１９を
通り、ガラス板１６の上の記録乳剤を通り、こう
して、入射された参照光束および反射された参照
光束と干渉して、マスク窓１９上の対象物の記録
乳剤中のホログラフ像を形成する。

以上で、マスク窓１９内の対象物のホログラフ
像がガラス板の記録乳剤に記録（コード化）され
ることが説明された。

記録乳剤は、ホログラム表面での光の全内部反
射を妨げるため最小のレベルを示すものでなけれ
ばならないことがわかる。たとえば、重クロム酸
ゼラチン技術の進歩によりこの媒体がほぼ適当で
ある。現在利用できるようになつた疎水性ポリマ
化合物を本発明法に用いることもできる。さら
に、これらの材料は、必要な分解能を与えるだけ
でなく、非常に少ない散乱を生じることが認めら
れる。これらの材料が収縮も膨張もせず、また、
ホログラフイ像の製造の間に非平面性を示さない
ことも重要である。

ホログラフイ像から複数のシリコン薄板を再生
するため、マスク窓１９が取り除かれ、シリコン
薄板がその場所に導入される。こうして、レーザ
光源２４と２５は再生に切り替えられ、ホログラ
ムからの像は、参照光束の方向が逆にされるなら
ば、シリコン薄板に実像として生成できる。この
ため、参照光束は、プリズム２２の面Ｙに入り、
ガラス板１６の上側の面で全体に内部に反射さ
れ、面Ｚで出ていく。第３図に示すように、参照
光束Ｒは、レーザ光源２５を再生操作のため90゜
動かすことによつて（別々のレーザ光源を用いる
場合）、または、一つのレーザ光源を用いる場合
にビーム分離機構を90゜動かすことによつて、位
置２５′から発する。

製造技術において、シリコン薄板は、スペーサ
上に自動的に位置決めされ、所定の露光時間の間
おかれ、次に、そこから格納位置へ移動される。

ホログラフイ像をシリコン薄板上に正確に結像
することを確実にするために、スペーサは、電圧
を加えることにより厚さが変わる圧電スペーサの
ような能動型の素子で置きかえることができる。
圧電スペーサは、手動で０〜150ボルトの間で変
化できる可変電圧源により駆動される。圧電素子
は、加えられる電圧が大きいほど、拡大する。こ
れにより、シリコン薄板の表面におけるある程度
の非平面性を生じる、焦点における可動性が生じ
る。

第２図に示すように、シリコン薄板３０を再生
産するための再生操作において、１つのレーザ光
源または一対の同じ周波数のレーザ光源を使用す
る代りに、水銀ランプ３２を用いてもよい。この
とき、スペクトルにおける１本の強い線を用い、
フイルタ３４を用いてその上下の他の全周波数を
除く。選ばれたスペクトル線は、記録媒体上にホ
ログラムを形成するときに、光源２４，２５とし
て使用されたアルゴンレーザ光源とほぼ同じ周波
数でなければならない。たとえば、水銀放電ラン
プの365nm線と対応するアルゴンレーザの
363.8nm線を使用できる。この紫外の線は、ホロ
グラフイ記録材料の感度にとつて利点となる。ま
た、光の波長の減少により分解能が改善され、レ
ジスト感度が改善される。さらに、適当なポリマ
材料に増感剤を使用する必要がない。

ホログラムの記録につづくシリコン薄板への像
の印刷において、印刷段階で圧電移動素子を用い
てシリコン薄板を単に縦方向に移動するだけで、
そのような正確さの像の焦点深度問題を克服でき
る。印刷とホログラム形成の幾何学に対しステツ
トソン氏により提案された構造を考えると、スペ
ーサを原像の生成の間にマスク窓とホログラムと
の間に置くことは理想からはずれていることがわ
かる。そこで、上に述べたように、電圧を加えて
厚さを変えることができる圧電スペーサのような
能動型の素子をスペーサの代りに用いることがで
きる。これにより、続く露光工程において縦に移
動できるようにシリコン薄板をホログラムの上の
位置に位置できる。記録の際に開口が非常に大き
い一方、焦点が像の正確さとともに光の波長のオ
ーダであるということを留意して、圧電素子の使
用により像の結像の問題を解決できる。第１図に
概略を示した構成において、光システムの重要な
特徴は、レーザ光源２５から入つてくる参照光束
がホログラフイ層の表面で内部に反射され、マス
ク窓１９を通つてくる光が入射する参照光束と内
部に反射された参照光束の双方と事実上干渉して
透過ホログラムを形成し、このホログラムが後に
再生されたとき、マスク窓に位置する対象物の実
像を作ることである。こうして、問題のホログラ
フイ像を形成するために役立たない本質的にすべ
ての光は、ホログラフイ材料の表面からの反射に
より単に減衰する。

上記のシステムの変形例では、第１図と第２図
に関連して説明したように、再生操作が露光操作
においてシリコン薄板上にホログラフイ像を作る
間、走査技術を用いて、シリコン薄板上に印刷さ
れた回路のホログラフイ像を順次形成できる。こ
れにより、シリコン薄板での露光の一様性の問題
を克服できる。また、ガラス板からシリコン薄板
を分離する際に連続的に調整でき、こうして、シ
リコン薄板の非平面性に対して許容される投映像
の焦点の円滑で連続的な調整が可能になる。自動
的な結像は、走査の間に、シリコン薄板の下側か
ら操作するゾーン板のような光モニタシステムを
用いて達成される。また、走査は、処理の間のシ
リコン薄板の縮小のために許容される像の大きさ
の局所的な調整が可能になる。また、共役参照光
束の形状の調整の別の方法が、処理の間の縮小の
問題を克服するために使用できる。この問題は、
第２図の実施例のフイルタ３４または後に説明す
る第３図の場合の位相共役ミラー４８をとりまく
磁気的素子を用いて達成できる。

第３図に示す装置は、１つのレーザ光源だけが
使用される別の構成を示す。レーザ光源２４は、
入力ビームＳと参照ビームＲとの双方を光束スプ
リツタ４０を用いて発生する。入力光束Ｓは、光
束スプリツタ４０を通り、第１図の実施例の場合
のように、頂点ミラー１０へ進む。参照光束Ｒ
は、光束スプリツタ４０の前面で反射され、可動
ミラー４２に進む。レーザ光源２４の分極のため
に、参照光束Ｒは、最大値から０まで連続的に変
わる透過を示す。ミラー４２は、実線で示す位置
から破線で示す位置まで、図示しない手段により
ピボツト点４４の回りで回転して移動できる。実
線で示される位置では、参照光束Ｒは拡大レンズ
４６に進み、次に、集束レンズ２７を通つて、プ
リズム２２の面Ｚに実質的に垂直に投映される。
破線で示された再生位置では、参照光束Ｒは、ミ
ラー４２，４８を経て拡大レンズ５０へ進み、プ
リズム２２の面Ｙに実質的に垂直に投映される。

（発明の効果） 集積回路のホログラフイ再生のための上記の構
成により、以下の重要な点と長所が実現できる。

(a) 十分サブミクロン範囲までの分解能を有する
非常に正確なホログラムを再生できる。

(b) 作られたホログラフイ像は、実質的にスペツ
クルがない。（従来は、スペツクルによりサブ
ミクロン範囲での集積回路のホログラフイ像の
再生ができなかつた。） (c) 参照光束の全内部反射における主光束と参照
光束との干渉の技術を用いることにより、他の
技術ではホログラフイ像の印刷において当感さ
せられた光を、文字通り投げすてることができ
る。

(d) 縦の方向にホログラフイで印刷されるべきシ
リコン薄板を移動して、ホログラフイ像の正確
な結像が確実に行える。

(e) 記録材料にホログラフイ像を一度形成する
と、ホログラムからシリコン薄板を実際に印刷
することは比較的容易な作業であり、必要な数
の生産品の生産が本技術による正確な再生によ
り確実に行える。

(f) 従来のコヒーレントでない光の結像を用いた
通常の方法では、かなり高価なレンズと厳しい
光についての制限があつた。本発明に係るホロ
グラフイ法では、この高価な物を使用しなくて
もよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ホログラム技術を用いた集積回路の
製造のための好ましい構成の図式的な配置の図で
ある。第２図は、再生操作において第２参照光束
を用いる別の構成の図式的な配置の一部の図であ
る。第３図は、一つだけのレーザ光源を用いる別
の構成の図式的な配置の一部の図である。第４図
は、主光束と内部で全反射される参照光束とによ
りホログラムを生じる機構の図式的な図である。 Ｓ……入力光束、Ｒ……参照光束、１６……ガ
ラス板、１９……マスク窓、２４……コヒーレン
トな光の光源、３０……シリコン薄板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ コーヒレントな光の入力光束Ｓとコーヒレン
   トな光の第１の参照光束Ｒとの干渉により感光記
   録媒体上に集積回路のホログラフイ像を形成する
   ホログラフイ法を用いた集積回路製造方法におい
   て、 (a) 散乱が無視できるとともに高い分解能を有す
   る収縮もしくはひずみをほとんど生じない第１
   の感光媒体を用意する工程と、 (b) コーヒレントな光の少なくとも一つの光源２
   ４から入力光束Ｓおよび第１の参照光束Ｒを発
   生させて、上記入力光束Ｓを第１の感光記録媒
   体の上に配置されるとともに集積回路の設計図
   を含むマスク窓１９を通過させ、上記第１の参
   照光束Ｒを記録媒体にて全反射させる工程と、 (c) 入射光束と反射された第１の参照光束との両
   方で干渉を発生させ、この干渉により上記第１
   の感光記録媒体上に体積ホログラフイ像を形成
   して記録する工程と、 (d) 上記マスク窓１９を取り除き、その位置に第
   ２の感光記録媒体を有するシリコン薄板３０を
   配置する工程と、 (e) 上記第１の感光記録媒体の上に記録されたホ
   ログラムの像を、このホログラムの像を形成す
   る第１の参照光と実質的に逆の方向に向つて進
   むコーヒレントな光の第２の参照光束で上記ホ
   ログラムの像を照射することにより、上記第２
   の感光記録媒体上に再生して記録する工程と、 (f) 上記集積回路の像を有する複数のシリコン薄
   板を製造するために必要な回数だけ、各々が第
   ２の記録媒体を有する他のシリコン薄板につい
   て上記工程(e)をさらに繰り返す工程と、 を含むホログラフイ法を用いた集積回路製造方
   法。 ２ 必要な焦点深度に達するために、露光の間に
   シリコン薄板３０を縦に移動する工程をさらに含
   むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   ホログラフイ法を用いた集積回路製造方法。