JPH0255390B2 - - Google Patents
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- JPH0255390B2 JPH0255390B2 JP60197196A JP19719685A JPH0255390B2 JP H0255390 B2 JPH0255390 B2 JP H0255390B2 JP 60197196 A JP60197196 A JP 60197196A JP 19719685 A JP19719685 A JP 19719685A JP H0255390 B2 JPH0255390 B2 JP H0255390B2
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- Japan
- Prior art keywords
- weight
- titanium carbide
- oxide
- parts
- aluminum
- Prior art date
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度記録に適した薄膜磁気ヘツド
スライダ用材料に関する。 〔従来の技術〕 従来、コンピユータ用のデイスクヘツドスライ
ダは、フエライトのブロツク材料を加工して製造
されていた。しかし、フエライト材では高周波透
磁率が低いため、高速データ転送や薄膜による磁
気回路形成時に磁気ヘツドとしての記録或いは再
生出力が低くなる。ところが、最近ではデイスク
ヘツドのインダクタンスを小さくして、より高周
波領域で動作させるようにし、また、ギヤツ幅を
小さくして高速転送と記録密度の向上を図る傾向
にある。現在、記録密度の高密度化に対応し、薄
膜磁気ヘツド化が進められている。薄膜磁気ヘツ
ド用基板に要求される特性をまとめてみると、下
記の項目が挙げられる。 (1) 結晶粒子が微細均一で緻密であり、気孔が存
在しないこと。 (2) 記録媒体とのなじみ、潤滑性、耐摩耗性に優
れていること。 (3) 機械加工性がよいこと。すなわち、快削性が
あり、かつ精密加工性に優れていること。 (4) 表面にコーテイングされる材質とのなじみが
よいこと。 この傾向に沿うものとして、酸化アルミニウム
と炭化チタンを主成分としたもの（特開昭60−
66403号）や、炭化チタンに対して窒化チタンを
一部固溶させた複合材料などが開発されている。 また、上記成分の他に材料の焼結性をよくする
ために、酸化アルミニウムに対して粒成長抑制剤
又は焼結促進剤として効果的なMgO，CaO，
NiOなどが添加されている。 このような薄膜磁気ヘツド用素材にあつては、
超精密鏡面仕上げをしてから使用されるため、そ
の基板を超精密鏡面仕上げした時に基板表面に微
細な気孔さえも存在しないこと、及びその基板の
精密機械加工性が容易なことが特に要求されてい
る。 そこで、超精密鏡面仕上げされた基板に微細な
気孔が存在しないようにするには、そのセラミツ
クス混合粉末を殆ど理論密度となるまで焼結形成
し、しかもセラミツクス結晶粒子内の結合が強く
微細な組織を作ることが必要である。反面、その
ような緻密性及び組織をもつセラミツクス焼結体
は、機械加工性が非常に劣るものとなる。 この問題を解消するものとして、酸化アルミニ
ウムと炭化チタンを主成分とする系に快削性付与
材を添加した材料が開発されている（特開昭57−
135772号）。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、この複合セラミツクスは酸化ア
ルミニウムと炭化チタンとから成り立つているた
め、硬くて脆いという欠点があり、精密加工時に
チツピングを生じやすく、また、フエライト系材
料に較べ、機械的加工性（快削性）に劣るという
問題があつた。 本発明は、上記実情に対処すべくなされたもの
であり、酸化アルミニウム−炭化チタン複合材を
薄膜磁気ヘツドスライダに加工する際に、加工に
よるチツピングを生じることなく、精密に、より
早く加工できるように、酸化アルミニウム−炭化
チタン複合材の性質を改良することを目的とす
る。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、その目的にこたえるべく、酸化アル
ミニウム−炭化チタン系における炭化チタンの含
有量を45〜75重量％に特定することにより、精密
加工時における耐チツピング性の改善を図つたも
のである。更にこの酸化アルミニウム−炭化チタ
ン系の基本組成に、快削付与剤として0.5〜５重
量％のMg，Ca，Ｂ，Ni，Cr及びZrの酸化物の
うち１種又は２種以上、焼結性を改善するために
Y2O3換算で0.05〜２重量部のアルミニウム−イ
ツトリウムの複合酸化物を必要に応じて添加した
ものである。また、酸化アルミニウム−炭化チタ
ン系の炭化チタンにおける酸素固溶量が、TiO2
又はチタンの炭酸化物に換算して15重量％以下に
抑えると、セラミツクスの破壊靭性が向上する。
更に、炭化チタンの２〜20重量％を周期律表
ａ，ａ及びａ族金属の炭化物（炭化チタンを
除く）、窒化物、硼化物及びこれらの複合化合物
のうち１種又は２種以上で置換すると、微細な結
晶粒子の生成等が図られるものである。このよう
にして得られたセラミツクス材料は、5.5MPam
以上の破壊靭性値をもつている。 すなわち、本発明複合セラミツクスにあつて
は、酸化アルミニウムと炭化チタンとの間の結合
力を強化することにより、セラミツクス材料を磁
気ヘツドスライダに加工する際にチツピングの発
生を防止するものである。この酸化アルミニウム
−炭化チタンを基本組成とし、その基本組成のセ
ラミツクス材料の諸性質を任意添加成分で適宜改
善するものである。 ここで、本発明の成分及びその組成範囲に関し
て詳しく説明する。 この発明において、炭化チタンは酸化アルミニ
ウムとともに本系材料の主成分であり、45重量％
未満では精密加工を行なう時にチツピングを生じ
易い傾向にあり、また、破壊靭性値も小さくな
る。 一方、75重量％を超えると、焼結温度が高くな
り、酸化アルミニウムの結晶粒子径が大きくな
り、破壊靭性も小さく、機械加工時にチツピング
を生じ易く、磁気ヘツド用材料として不適なた
め、炭化チタンの範囲はチタン化合物の最終焼結
体中に含有する酸素固容量は、酸化チタンに換算
して15重量％を超えると破壊靭性を低下させると
ともに、精密機械加工時にチツピングを生じる傾
向にあり好ましくない。しかしながら、チタン化
合物に存在する酸素は、酸化アルミニウムと炭化
チタン成分の結合強度を高め強靭な焼結体を得る
上で重要なものである。酸化アルミニウムは炭化
チタンとともに本系材料の主成分であり、炭化チ
タンの含有範囲が限定されることにより、55〜25
重量％となる。機械加工法は、好ましくは快削付
与剤としてMg，Ca，Ｂ，Ni，Cr，Zrの各種酸
化物を１種又は２種以上の添加を行なうことでそ
の効果をみることができその最適量は0.5〜５重
量部である。すなわち、0.5重量部未満では酸化
アルミニウムの粒成長抑制御としての効果がみら
れ緻密な焼結体を得ることはできるが、機械加工
性の向上はみられない。また、５重量部を越える
と、焼結体の結晶粒子間の結合強度が弱くなり好
ましくない。 酸化ジルコニウムについては、粒度0.3μｍ以下
の未安定ZrO2またはY2O3，MgO，CaO，CeOの
少なくとも１種で部分安定されたZrO2あるいは
安定化ZrO2を用いてもよい。これらのZrO2は粒
成長抑制効果と靭性向上効果による超精密加工性
に効果を与えるとともに、記録媒体とのなじみ、
潤滑性、耐摩耗性にも優れたものとなるが、５重
量部以上の添加は加工性に著しく悪い影響を与え
る。 アルミニウム−イツトリウム複合酸化物は、
Y2O3換算で0.05重量部未満では酸化アルミニウ
ムと他の配合主成分との相互焼結性を助成する作
用がなく、また２重量部を越えると焼結体に気孔
を生じ、焼結体の破壊靭性が下がり機械加工時に
チツピングを生じ易くなる。従つて、0.05重量部
から２重量部の範囲で焼結促進剤としての効果が
みられる。またアルミニウム−イツトリウム複合
酸化物粉未としては、たとえば複合酸化物の１つ
として、次式に示すガーネツトの形で使用するこ
ともできる。 Y3（AlY）2（AlO4）3 ……(1) （YAl）3Al2（AlO4）3 ……(2) 同様に、Y3Al2（AlO4）3の組成のガーネツトや
YxAl(1-x)O3（ここでｘ＜１）で表される組成でも
使用可能である。 炭化チタンの一部を周期率表ａ，ａ及び
ａ族金属の炭化物（炭化チタンを除く）、窒化物、
硼化物及びそれぞれの複合化化物で置換すること
も可能である。その場合、酸化アルミニウム−炭
化チタン複合材料の特徴を残し、更に結晶粒子の
微細化等を行なうには炭化チタンの２〜20重量％
を置換して、初めてその効果がみられる。すなわ
ち、２重量部未満の置換ではその効果はなく、20
重量部を越えると焼結性が悪くなり、無理して得
られた焼結体の破壊靭性は小さく、精密加工性に
劣る。そこで、周期率表ａ，ａ，ａ族金属
の炭化物（炭化チタンを除く）、窒化物、硼化物
及びそれぞれの複合化合物の第３成分を炭化チタ
ンの一部に置換する場合、炭化チタンの２〜20重
量％の範囲でAl2O3−TiC系の特性を残し、なお
かつ第３成分の特徴を生かすことができる。な
お、製造工程途中より混入する金属あるいは酸化
物系不純物の量は0.5重量部を超えて存在すると、
必然的に磁性を有する不純物も増加することにな
り、薄膜磁気ヘツド用スライダ材料として使用す
る場合好ましくない。 またこれらの材料は、上記原料混合粉未を調整
した後、焼結工程を経て製造される。焼結は、好
ましくはホツトプレス法や熱間静水圧焼結法など
の熱間加圧焼結法により行われる。ホツトプレス
法による場合は加圧力50〜350Kg・ｆ／cm2、焼成
温度1550〜1800℃、一方、熱間静水圧焼結法では
加圧力500Kg・ｆ／cm2以上、温度1450〜1600℃の
条件下で好結果を得ることができる。 このようにして得られる焼結体は、理論密度99
％以上と極めて緻密で殆ど気孔がなく、粒径も微
細であり、破壊靭性も5.5AMam1/2以上で機械的
加工性に優れる。また加工によるピツチングも発
生せず精密加工に際して卓抜した加工性を具備す
る。 なお、ホツトプレス法または熱間静水圧焼結法
により焼結した材料を、非酸化性雰囲気で加圧力
０〜10Kg／cm2、温度1000℃から焼結温度より100
℃高い温度範囲で熱処理することにより歪を除去
することができる。したがつて、熱処理した材料
は精密加工時に歪による微細チツピングが発生せ
ず、かつコーテイング膜の密着性が良く非常に優
れた材料が得られる。 〔実施例〕 本発明磁気ヘツド基板用材料の製造方法及びそ
の精密加工性能につき実施例により説明する。 −実験１− 下記(1)〜（21）の各成分構成に調整された原料
粉未〔α−Al2O3：平均粒子径0.3μｍ、純度99.9
％、チタン化合物（TiC，TiO2）：平均粒子0.5μ
ｍ，TiC・TiO2固溶体、MgO，ZrO2，Al2O3・
Y2O3固溶体の焼結促進材及び快削性付与剤、周
期率表ａ，Va，ａ族金属の炭化物、窒化物、
硼化物：平均粒子径0.8μｍ，）〕を50×50mm角、高
さ60mmの黒鉛型内に充填して、高周波コイル内に
挿入し、それぞれの最適焼結温度（1550〜1800
℃）で200Kg／cm2の圧力を加え60分間保持した。
次いで圧力を除去し、放冷することにより50×50
×5.5mmの目的とする焼結体を得た。各々の焼結
体をダイヤモンド砥石切断研削して試験片を作成
し、各種試験に供した。 破壊靭性の測定は、ビツカース圧痕の対角線の
延長上より発生するクラツク長さから求めるI.F.
法（Indentation Fracture Method）によつた。
試験片は、表面をダイヤモンドホイールで表面研
削後、機械研磨により鏡面に仕上げた。試験荷重
は全て10Kgｆとし、負荷時間は20秒とした。 精密加工性とは、デイスクヘツドスライダのト
ラツク幅に合わせて加工する際にエツジ部の欠け
が発生し、使用上好ましくないものを×印、欠け
発生が殆どなく使用上問題のないものを△印、特
に良好なものを○印で示す。 快削性とは、同じ断面積を切断するのに要する
時間が短いものを○印で、切断時間が長くて生産
性上好ましくないものを×印で示す。 破壊靭性は、5.5MPam1/2以上を○で示し、そ
れ以下を×で示す。 相対密度に関しては、上記条件範囲で焼結させ
たものでスライダとして必要な耐摩耗性を有する
程度にまで焼結できないものを×印、使用できる
ものを△印、特に優れているものを○印で示す。
これらの結果を、第１表に示す。
スライダ用材料に関する。 〔従来の技術〕 従来、コンピユータ用のデイスクヘツドスライ
ダは、フエライトのブロツク材料を加工して製造
されていた。しかし、フエライト材では高周波透
磁率が低いため、高速データ転送や薄膜による磁
気回路形成時に磁気ヘツドとしての記録或いは再
生出力が低くなる。ところが、最近ではデイスク
ヘツドのインダクタンスを小さくして、より高周
波領域で動作させるようにし、また、ギヤツ幅を
小さくして高速転送と記録密度の向上を図る傾向
にある。現在、記録密度の高密度化に対応し、薄
膜磁気ヘツド化が進められている。薄膜磁気ヘツ
ド用基板に要求される特性をまとめてみると、下
記の項目が挙げられる。 (1) 結晶粒子が微細均一で緻密であり、気孔が存
在しないこと。 (2) 記録媒体とのなじみ、潤滑性、耐摩耗性に優
れていること。 (3) 機械加工性がよいこと。すなわち、快削性が
あり、かつ精密加工性に優れていること。 (4) 表面にコーテイングされる材質とのなじみが
よいこと。 この傾向に沿うものとして、酸化アルミニウム
と炭化チタンを主成分としたもの（特開昭60−
66403号）や、炭化チタンに対して窒化チタンを
一部固溶させた複合材料などが開発されている。 また、上記成分の他に材料の焼結性をよくする
ために、酸化アルミニウムに対して粒成長抑制剤
又は焼結促進剤として効果的なMgO，CaO，
NiOなどが添加されている。 このような薄膜磁気ヘツド用素材にあつては、
超精密鏡面仕上げをしてから使用されるため、そ
の基板を超精密鏡面仕上げした時に基板表面に微
細な気孔さえも存在しないこと、及びその基板の
精密機械加工性が容易なことが特に要求されてい
る。 そこで、超精密鏡面仕上げされた基板に微細な
気孔が存在しないようにするには、そのセラミツ
クス混合粉末を殆ど理論密度となるまで焼結形成
し、しかもセラミツクス結晶粒子内の結合が強く
微細な組織を作ることが必要である。反面、その
ような緻密性及び組織をもつセラミツクス焼結体
は、機械加工性が非常に劣るものとなる。 この問題を解消するものとして、酸化アルミニ
ウムと炭化チタンを主成分とする系に快削性付与
材を添加した材料が開発されている（特開昭57−
135772号）。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、この複合セラミツクスは酸化ア
ルミニウムと炭化チタンとから成り立つているた
め、硬くて脆いという欠点があり、精密加工時に
チツピングを生じやすく、また、フエライト系材
料に較べ、機械的加工性（快削性）に劣るという
問題があつた。 本発明は、上記実情に対処すべくなされたもの
であり、酸化アルミニウム−炭化チタン複合材を
薄膜磁気ヘツドスライダに加工する際に、加工に
よるチツピングを生じることなく、精密に、より
早く加工できるように、酸化アルミニウム−炭化
チタン複合材の性質を改良することを目的とす
る。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、その目的にこたえるべく、酸化アル
ミニウム−炭化チタン系における炭化チタンの含
有量を45〜75重量％に特定することにより、精密
加工時における耐チツピング性の改善を図つたも
のである。更にこの酸化アルミニウム−炭化チタ
ン系の基本組成に、快削付与剤として0.5〜５重
量％のMg，Ca，Ｂ，Ni，Cr及びZrの酸化物の
うち１種又は２種以上、焼結性を改善するために
Y2O3換算で0.05〜２重量部のアルミニウム−イ
ツトリウムの複合酸化物を必要に応じて添加した
ものである。また、酸化アルミニウム−炭化チタ
ン系の炭化チタンにおける酸素固溶量が、TiO2
又はチタンの炭酸化物に換算して15重量％以下に
抑えると、セラミツクスの破壊靭性が向上する。
更に、炭化チタンの２〜20重量％を周期律表
ａ，ａ及びａ族金属の炭化物（炭化チタンを
除く）、窒化物、硼化物及びこれらの複合化合物
のうち１種又は２種以上で置換すると、微細な結
晶粒子の生成等が図られるものである。このよう
にして得られたセラミツクス材料は、5.5MPam
以上の破壊靭性値をもつている。 すなわち、本発明複合セラミツクスにあつて
は、酸化アルミニウムと炭化チタンとの間の結合
力を強化することにより、セラミツクス材料を磁
気ヘツドスライダに加工する際にチツピングの発
生を防止するものである。この酸化アルミニウム
−炭化チタンを基本組成とし、その基本組成のセ
ラミツクス材料の諸性質を任意添加成分で適宜改
善するものである。 ここで、本発明の成分及びその組成範囲に関し
て詳しく説明する。 この発明において、炭化チタンは酸化アルミニ
ウムとともに本系材料の主成分であり、45重量％
未満では精密加工を行なう時にチツピングを生じ
易い傾向にあり、また、破壊靭性値も小さくな
る。 一方、75重量％を超えると、焼結温度が高くな
り、酸化アルミニウムの結晶粒子径が大きくな
り、破壊靭性も小さく、機械加工時にチツピング
を生じ易く、磁気ヘツド用材料として不適なた
め、炭化チタンの範囲はチタン化合物の最終焼結
体中に含有する酸素固容量は、酸化チタンに換算
して15重量％を超えると破壊靭性を低下させると
ともに、精密機械加工時にチツピングを生じる傾
向にあり好ましくない。しかしながら、チタン化
合物に存在する酸素は、酸化アルミニウムと炭化
チタン成分の結合強度を高め強靭な焼結体を得る
上で重要なものである。酸化アルミニウムは炭化
チタンとともに本系材料の主成分であり、炭化チ
タンの含有範囲が限定されることにより、55〜25
重量％となる。機械加工法は、好ましくは快削付
与剤としてMg，Ca，Ｂ，Ni，Cr，Zrの各種酸
化物を１種又は２種以上の添加を行なうことでそ
の効果をみることができその最適量は0.5〜５重
量部である。すなわち、0.5重量部未満では酸化
アルミニウムの粒成長抑制御としての効果がみら
れ緻密な焼結体を得ることはできるが、機械加工
性の向上はみられない。また、５重量部を越える
と、焼結体の結晶粒子間の結合強度が弱くなり好
ましくない。 酸化ジルコニウムについては、粒度0.3μｍ以下
の未安定ZrO2またはY2O3，MgO，CaO，CeOの
少なくとも１種で部分安定されたZrO2あるいは
安定化ZrO2を用いてもよい。これらのZrO2は粒
成長抑制効果と靭性向上効果による超精密加工性
に効果を与えるとともに、記録媒体とのなじみ、
潤滑性、耐摩耗性にも優れたものとなるが、５重
量部以上の添加は加工性に著しく悪い影響を与え
る。 アルミニウム−イツトリウム複合酸化物は、
Y2O3換算で0.05重量部未満では酸化アルミニウ
ムと他の配合主成分との相互焼結性を助成する作
用がなく、また２重量部を越えると焼結体に気孔
を生じ、焼結体の破壊靭性が下がり機械加工時に
チツピングを生じ易くなる。従つて、0.05重量部
から２重量部の範囲で焼結促進剤としての効果が
みられる。またアルミニウム−イツトリウム複合
酸化物粉未としては、たとえば複合酸化物の１つ
として、次式に示すガーネツトの形で使用するこ
ともできる。 Y3（AlY）2（AlO4）3 ……(1) （YAl）3Al2（AlO4）3 ……(2) 同様に、Y3Al2（AlO4）3の組成のガーネツトや
YxAl(1-x)O3（ここでｘ＜１）で表される組成でも
使用可能である。 炭化チタンの一部を周期率表ａ，ａ及び
ａ族金属の炭化物（炭化チタンを除く）、窒化物、
硼化物及びそれぞれの複合化化物で置換すること
も可能である。その場合、酸化アルミニウム−炭
化チタン複合材料の特徴を残し、更に結晶粒子の
微細化等を行なうには炭化チタンの２〜20重量％
を置換して、初めてその効果がみられる。すなわ
ち、２重量部未満の置換ではその効果はなく、20
重量部を越えると焼結性が悪くなり、無理して得
られた焼結体の破壊靭性は小さく、精密加工性に
劣る。そこで、周期率表ａ，ａ，ａ族金属
の炭化物（炭化チタンを除く）、窒化物、硼化物
及びそれぞれの複合化合物の第３成分を炭化チタ
ンの一部に置換する場合、炭化チタンの２〜20重
量％の範囲でAl2O3−TiC系の特性を残し、なお
かつ第３成分の特徴を生かすことができる。な
お、製造工程途中より混入する金属あるいは酸化
物系不純物の量は0.5重量部を超えて存在すると、
必然的に磁性を有する不純物も増加することにな
り、薄膜磁気ヘツド用スライダ材料として使用す
る場合好ましくない。 またこれらの材料は、上記原料混合粉未を調整
した後、焼結工程を経て製造される。焼結は、好
ましくはホツトプレス法や熱間静水圧焼結法など
の熱間加圧焼結法により行われる。ホツトプレス
法による場合は加圧力50〜350Kg・ｆ／cm2、焼成
温度1550〜1800℃、一方、熱間静水圧焼結法では
加圧力500Kg・ｆ／cm2以上、温度1450〜1600℃の
条件下で好結果を得ることができる。 このようにして得られる焼結体は、理論密度99
％以上と極めて緻密で殆ど気孔がなく、粒径も微
細であり、破壊靭性も5.5AMam1/2以上で機械的
加工性に優れる。また加工によるピツチングも発
生せず精密加工に際して卓抜した加工性を具備す
る。 なお、ホツトプレス法または熱間静水圧焼結法
により焼結した材料を、非酸化性雰囲気で加圧力
０〜10Kg／cm2、温度1000℃から焼結温度より100
℃高い温度範囲で熱処理することにより歪を除去
することができる。したがつて、熱処理した材料
は精密加工時に歪による微細チツピングが発生せ
ず、かつコーテイング膜の密着性が良く非常に優
れた材料が得られる。 〔実施例〕 本発明磁気ヘツド基板用材料の製造方法及びそ
の精密加工性能につき実施例により説明する。 −実験１− 下記(1)〜（21）の各成分構成に調整された原料
粉未〔α−Al2O3：平均粒子径0.3μｍ、純度99.9
％、チタン化合物（TiC，TiO2）：平均粒子0.5μ
ｍ，TiC・TiO2固溶体、MgO，ZrO2，Al2O3・
Y2O3固溶体の焼結促進材及び快削性付与剤、周
期率表ａ，Va，ａ族金属の炭化物、窒化物、
硼化物：平均粒子径0.8μｍ，）〕を50×50mm角、高
さ60mmの黒鉛型内に充填して、高周波コイル内に
挿入し、それぞれの最適焼結温度（1550〜1800
℃）で200Kg／cm2の圧力を加え60分間保持した。
次いで圧力を除去し、放冷することにより50×50
×5.5mmの目的とする焼結体を得た。各々の焼結
体をダイヤモンド砥石切断研削して試験片を作成
し、各種試験に供した。 破壊靭性の測定は、ビツカース圧痕の対角線の
延長上より発生するクラツク長さから求めるI.F.
法（Indentation Fracture Method）によつた。
試験片は、表面をダイヤモンドホイールで表面研
削後、機械研磨により鏡面に仕上げた。試験荷重
は全て10Kgｆとし、負荷時間は20秒とした。 精密加工性とは、デイスクヘツドスライダのト
ラツク幅に合わせて加工する際にエツジ部の欠け
が発生し、使用上好ましくないものを×印、欠け
発生が殆どなく使用上問題のないものを△印、特
に良好なものを○印で示す。 快削性とは、同じ断面積を切断するのに要する
時間が短いものを○印で、切断時間が長くて生産
性上好ましくないものを×印で示す。 破壊靭性は、5.5MPam1/2以上を○で示し、そ
れ以下を×で示す。 相対密度に関しては、上記条件範囲で焼結させ
たものでスライダとして必要な耐摩耗性を有する
程度にまで焼結できないものを×印、使用できる
ものを△印、特に優れているものを○印で示す。
これらの結果を、第１表に示す。
【表】
【表】
−実験２−
第２表に快削性付与剤であるMgO，Cr2O3，
NiO、ZrO2等の効果を調査した結果を示す。な
お、試験片は実験１と同一方法で作成した。ま
た、加工性テストは第１図の方法により行つた。
NiO、ZrO2等の効果を調査した結果を示す。な
お、試験片は実験１と同一方法で作成した。ま
た、加工性テストは第１図の方法により行つた。
【表】
【表】
【表】
−実験３−
第３表にホツトプレス温度を一定にし焼結した
とき、焼結体に存在する気孔との関係を示す。 −実験４− 実験１に用いた調整された原料粉未をホツトプ
レス法により焼結した後、除圧し、ホツトプレス
焼結温度より50℃高い温度で熱処理を行つた。同
様に実験１に用いた調整された原料粉未をホツト
プレス法により相対密度95％まで焼結を行い、次
に熱間静水圧HIP焼結法でホツトプレス温度より
100℃低い温度で焼結を行つた。次に、非酸化性
雰囲気で1300℃の熱処理を行つた。 次に、これらの材料の精密加工性及びコーテイ
ング膜の密着性につて評価を行つた。精密加工性
の評価は、材料をダイヤモンド切断砥石で切断し
角部の微細チツピングを観察することにより、行
つた。チツピングの発生したものは×印、チツピ
ングを発生しないものは○印、特に優れているも
のを◎印で示す。またAl2O3、センダスコーテイ
ングを行い、コーテイング膜密着性に優れている
ものを○印、密着性の余り良くないものを△印で
示す。
とき、焼結体に存在する気孔との関係を示す。 −実験４− 実験１に用いた調整された原料粉未をホツトプ
レス法により焼結した後、除圧し、ホツトプレス
焼結温度より50℃高い温度で熱処理を行つた。同
様に実験１に用いた調整された原料粉未をホツト
プレス法により相対密度95％まで焼結を行い、次
に熱間静水圧HIP焼結法でホツトプレス温度より
100℃低い温度で焼結を行つた。次に、非酸化性
雰囲気で1300℃の熱処理を行つた。 次に、これらの材料の精密加工性及びコーテイ
ング膜の密着性につて評価を行つた。精密加工性
の評価は、材料をダイヤモンド切断砥石で切断し
角部の微細チツピングを観察することにより、行
つた。チツピングの発生したものは×印、チツピ
ングを発生しないものは○印、特に優れているも
のを◎印で示す。またAl2O3、センダスコーテイ
ングを行い、コーテイング膜密着性に優れている
ものを○印、密着性の余り良くないものを△印で
示す。
【表】
【表】
本発明の酸化アルミニウム−炭化チタン複合材
料は、従来の酸化アルミニウム−炭化チタン複合
材料と比べ破壊靭性が大きいため、磁気ヘツドス
ライダーに加工する際、チツピングを生じること
もなく、能率の良い加工ができ、磁気ヘツドスラ
イダー用材料として卓越した精密加工性と機械加
工性に優れた性能を有する。
料は、従来の酸化アルミニウム−炭化チタン複合
材料と比べ破壊靭性が大きいため、磁気ヘツドス
ライダーに加工する際、チツピングを生じること
もなく、能率の良い加工ができ、磁気ヘツドスラ
イダー用材料として卓越した精密加工性と機械加
工性に優れた性能を有する。
第１図は磁気ヘツド基板用材料の加工の難易を
テストする装置で、試料を装着したGC板の一端
に1.2Kgの荷重をかけ、試料とGC板を切断し、切
断に要する時間を計測することで加工性を判断す
る装置である。 １：ダイヤモンド切断ホイール（＃325メタル
ボンド φ150mm）、２：磁気ヘツド基板用材料
（サイズ50×50×2.6t mm）、３：GC板、４：荷
重1.2Kg。
テストする装置で、試料を装着したGC板の一端
に1.2Kgの荷重をかけ、試料とGC板を切断し、切
断に要する時間を計測することで加工性を判断す
る装置である。 １：ダイヤモンド切断ホイール（＃325メタル
ボンド φ150mm）、２：磁気ヘツド基板用材料
（サイズ50×50×2.6t mm）、３：GC板、４：荷
重1.2Kg。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 炭化チタン45〜75重量％を含有し、同炭化チ
タンの中の15重量％以下をチタンの酸化物又は炭
酸化物で置換してなり、且つ残部が酸化アルミニ
ウムからなる基本組成100重量部に対し、快削性
付与材としてマグネシウム、カルシウム、硼素、
ニツケル、クロム、ジルコニウムの酸化物の群か
ら選択した１種又は２種以上を0.5〜５重量部、
焼結促進材としての酸化イツトリウム換算量で
0.05〜2.0重量部のアルミニウム−イツトリウム
複合酸化物を配合せしめてなる磁気ヘツド基板用
材料。 ２ 特許請求の範囲第１項の記載において、炭化
チタンの一部を炭化チタンを除く周期律表ａ，
ａ，ａ族金属の炭化物、窒化物、硼加物及び
それぞれの複合化合物の１種又は２種以上で置換
してなる磁気ヘツド基板用材料。 ３ 炭化チタン45〜75重量％を含有し、残部が酸
化アルミニウムからなり、且つ同酸化アルミニウ
ムの２重量％以下をアルミニウム−チタン複合酸
化物で置換してなる基本組成100重量部に対し、
快削性付与材としてマグネシウム、カルシウム、
硼素、ニツケル、クロム、ジルコニウムの酸化物
の群から選択した１種又は２種以上を0.5〜５重
量部、焼結促進材としての酸化イツトリウム換算
量で0.05〜2.0重量部のアルミニウム−イツトリ
ウム複合酸化物を配合せしめてなる磁気ヘツド基
板用材料。 ４ 特許請求の範囲第３項の記載において、炭化
チタンの一部を炭化チタンを除く周期律表ａ，
ａ，ａ族金属の炭化物、窒化物、硼加物及び
それぞれの複合化合物の１種又は２種以上で置換
してなる磁気ヘツド基板用材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197196A JPS6259566A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 磁気ヘツド基板用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197196A JPS6259566A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 磁気ヘツド基板用材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259566A JPS6259566A (ja) | 1987-03-16 |
| JPH0255390B2 true JPH0255390B2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=16370406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60197196A Granted JPS6259566A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 磁気ヘツド基板用材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259566A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2523957B2 (ja) * | 1990-07-27 | 1996-08-14 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク装置及び磁気ヘッドスライダ |
| JP2585341Y2 (ja) * | 1992-01-29 | 1998-11-18 | 池田物産株式会社 | 内装材 |
| JP5228850B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2013-07-03 | Ｔｄｋ株式会社 | 焼結体 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56140066A (en) * | 1980-03-29 | 1981-11-02 | Nippon Tungsten | Ceramic sintered body and manufacture |
| JPS56140067A (en) * | 1980-03-29 | 1981-11-02 | Nippon Tungsten | Ceramic sintered body and manufacture |
| JPS5782172A (en) * | 1980-11-12 | 1982-05-22 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Substrate ceramic for thin film magnetic head |
-
1985
- 1985-09-06 JP JP60197196A patent/JPS6259566A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6259566A (ja) | 1987-03-16 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
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