JPH025597A - 遮蔽用薄膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、−船釣に電子装置及び電源から生じる電磁放
射を遮蔽する装置に関する。更に詳しくは、本発明は、
陰極線管、電源及びその他の電子装置システムによって
放出される望ましくない放射線を吸収する遮蔽薄膜に関
する。

（従来技術） 最近、電磁放射線及び大きな静電界に対する過度の暴露
が人間の健康に良くない関係を有している可能性がある
ことに関する関心が高まっている。

ビデオ・ディスプレー端末及び電源を継続的かつ頻繁に
使用して、このような装置によって発生される放射物及
び電界の影響を研究する広範な調査が行われた。１９８
６年５月にスエーデンのストックホルムで行われた［デ
イスプレー装置を使用する作業」に関する国際会議にお
いて、ビデオ・ディスプレー端末から発生する非電離放
射線の放射物に過度に暴露されることと健康に対する悪
影響との相関関係を示す証拠が提供された。更に、幾つ
かの研究は、居住地域に位置している電線から発生する
低周波放出物がその地域に住んでいる人々に健康上の悪
影響を及ぼしていることを示している。

健康に関連するだけでなく、このような放射物は周囲の
電子装置に対するノイズとして現れ、これによって周辺
の装置の性能を劣化させる。更に、種々のコンピュータ
から放出される放射線を検出する装置を簡単に製作する
ことが可能であり、従って処理されているデータの性質
をその放射線の分析から解明することが可能であること
が示されている。従って、データの安全性、特に大使館
、銀行等の場合のデータの安全性が、大きな関心事とな
っている。従って、電磁放射及びＲＦＩ放射を有効に吸
収することができ、かつ静電気の集積を効果的に吸収す
ることができる装置に対する必要性が存在する。

このような関心に答えて、電磁放射線を吸収するために
、多くの装置が開発されている。例えば、日本特許出願
番号第５５−９１８７０号において、電磁波吸収装置が
開示され、この装置は金属板の間にサンドインチされた
複数の発泡ポリスチロール部材によって構成され、前面
は電波吸収部材として同じ材料から作られた複数のピラ
ミッド状の発泡面を有している。このポリスチロール部
材は、放射線吸収媒体として機能する。しかし、金属層
は、これを透過する放射線を反射する。従って、分厚い
電波吸収部材が使用されたとしても、サンドインチ材料
を通して放射源に対して相当量の反射が行われる。不幸
なことに、このように反射された放射線は電子装置の動
作に対し悪影響を有している。特に、このような放射線
は、装置によってノイズとしてピックアップされ、これ
によってその性能に悪影響を与える。従って、遮蔽薄膜
内で放射線の大部分を吸収することが極めて大切である
。

日本特許出願番号第５５−２９５９９号は、電波吸収装
置の別の実施例を開示しており、この装置は金属板で裏
打ちされたフェライト板上に配設された複数の三角形の
ピラミッド状のフエライト部材によって構成されている
。このような装置は、ある種の周波数を効果的に吸収す
るが、その波長一致原理に対する信頼性（そのフェライ
トの構成による）によってその有用性は限られた周波数
範囲に限定される。

従って、安価な材料で容易に組み立てることができ、広
範な周波数範囲にわたってこれを透過する電磁放射線の
実質的なパーセントを効率的に吸収し、一方事実上放射
線のいずれの部分おち通過させず、この放射線の極く小
さなパーセントのみを、これが発射された領域に反射す
る遮蔽薄膜に対する必要性が存在する。

（発明の概要） 従って、本発明の主要な目的は、遮蔽薄膜を透過する電
磁放射線及びＲＦ［放射線の実質的なパーセントを吸収
することが可能である上記の遮蔽薄膜を提供することで
ある。

本発明の他の目的は、使用者を電子機器によって放射さ
れる放射線から遮蔽するのに適したハウジングを提供す
ることである。

本発明の他の目的は、放射源に戻る反射を最小にする遮
蔽薄膜を提供することである。

本発明の他の目的は、放射線伝導性の低い遮蔽薄膜を提
供することである。

本発明の目的に従って、上記及びその他の目的を達成す
るため、電磁放射源からの放射線を遮蔽するために、遮
蔽薄膜が提供される。この遮蔽薄膜が、放射源に面する
入射面と放射源から離れて面しているベース面を有して
いる。この遮蔽薄膜は、遮蔽薄膜の入射面に向けられる
放射線の反射を最少にする手段を有している。また放射
線の低周波電気成分の１部をアースするために、手段が
設けられている。間隔を隔てて配設された多数の金属製
偏向パッドの周辺に入射する放射線を偏向する上記の金
属製偏向パッドによって形成された導電性偏向層が、低
周波アース手段の後部に積み重ねられている。導電性吸
収ファネル層は、偏向層の後部に対向する関係で間隔を
隔てて位置している。この吸収ファネル層は、偏向パッ
ドの周辺で偏向された放射線を通過させるための多数の
孔を有している。反射板が、吸収ファネル層のベース側
の近傍に取り付けられている。低周波アース手段、偏向
層、吸収ファネル層及び反射板は、各々間隔を隔てられ
、入射放射線の種々の構成要素の吸収を容易にするため
、アースされている。これらの導電層の間のギャップは
、スペーサーによって埋められ、これらのスペーサーは
、放射線の吸収を最大化するために吸収媒体によって形
成されている。これらのスペーサーは高密度多孔性発泡
物によって形成されることが望ましい。

低周波アース手段は、導電性メッシュを有することが望
ましい。反射最小化手段は、放射線放射源に面する多数
の突起部を有するウェーブガイド障壁を有することが望
ましい。これらの突起部は、形状がピラミッド状である
ことが望ましく、ウェーブガイド障壁は、高密度多孔性
発泡物によって形成されることが望ましい。

吸収ファネル層の孔は、偏向層上の偏向バンドと同じ形
状を有することが望ましい。好適な構成方法において、
吸収ファネル層の孔は金属箔からプレスされ、切断され
た箔材料は偏向層の偏向パッドを形成するために使用さ
れる。

このような遮蔽薄膜は、ビデオ・デイスプレー端末、発
電所、電子装置等を遮蔽するために使用されることが可
能である。更に、データ及び検出上の安全性を必要とす
る建築物または部屋またはその両方、船舶、航空機、及
びその他の車両は、このような遮蔽装置を含むように構
成されることができる。

（実施例） 独創的であると信じられている本発明の特徴は、添付の
特許請求の範囲に詳細に述べられている。

本発明は、その別の目的及び利点と共に、添付図と関連
して下記の説明を参照することによって、最もよく理解
される。

図に示すように、本発明の遮蔽薄膜１は、ウェーブガイ
ド障壁３、メツシュ５、偏向層７、吸収ファネル層９、
反射板ｌｌ、及び適当な吸収媒体によって形成された複
数の吸収用スペーサー１５．１５’　　１５’を有して
いる。これらのメツシュ、偏向層、吸収ファネル層、及
び反射板、（ここでは導電層と称する）は全て高い導電
性の物質によって形成され、かつアースされ、スペーサ
ー１５．１５′及び１５″はそれらの間に配設されて、
できるだけ多くの入射放射線を吸収し分散させる。

ここで説明する遮蔽薄膜は、可視光線スペクトルに近い
高い周波数の放射線から極めて低い周波数の電波を含む
非常に広範囲の周波数範囲にわたって放射線をおさえる
よう設計されている。先ず、第１図を参照して、本発明
の好適な実施例が説明される。遮蔽薄膜１は、抑制され
るべき放射線を放出する部品に面している入射面２及び
ベース面を有している。ウェーブガイド障壁３は、遮蔽
薄膜１の入射面２を形成している。遮蔽薄膜は、放射線
放出源（図示せず）に面している複数のピラミッド形の
突起部を有している。突起物の形状は、第４図と膜関連
して以下で説明するように遮蔽薄ｌの入射面からの放射
線の反射を最小にすることを意図しているものであるが
、その形状は若干変化してもよい。ウェーブガイド障壁
は、放射線吸収材料から形成され、これを通って分散さ
れている微小孔を有することが望ましい。これらの微小
孔は、吸収の可能性を高める遮蔽薄膜ｌ内で放射線を分
散させるために有用に使用される。

導電性プラスチックまたは金属のような極めて高い電気
導電性を有する材料によって形成されているメッシュ５
は、ウェーブガイド障壁３の後部に配設されている。例
として、適当な金属には銅、アルミ、鉄、導電性物質を
塗布されたナイロンまたはポリエステルなどが含まれて
いる。適当なプラスチックには発泡材料及び合成物があ
る。メッシュはアースされ、アンテナ理論に詳しい人々
によって評価されるように、低周波数の放射線に対する
アース用プレートとして使用されている。従って、導電
性メツシュ５を入射する低周波の放射線の実質的なパー
セントがこれによって吸収される。導電性メツシュ５を
所定の場所に固定するため、ウェーブガイド障壁３には
、メッシュ５に接着される接着性のバッキングが設けら
れていもよい。例としては、適当な接着材には、ミネソ
タ州セントポールの３Ｍ会社によって製造されている９
０００シリーズ・タイプの接着材がある。

複数の導電性偏向パッド２１によって、形成されている
偏向層は、メッシュ５のベース側に配設されている。放
射線吸収媒体によって形成されているスペーサー１５は
、メツシュ５と偏向層７の間に配設され、偏向層を分離
すると共にこれらの間に適当な距離を保持している。実
際上の間隔は、広範囲に変化可能であることが評価され
るべきである。例として、１／８インチ分離することが
望ましい。偏向パッド２１は、相互に電気的に接触し、
かつアースされていることが望ましい。この電気的な接
触は、導電性の銅テープまたはワイヤー・メツシュを含
むいずれかの適当な手段によって保持されることができ
る。偏向層７は、銅、アルミ、ステンレス・スチールま
たはニッケルのような金属製材料によって形成されるこ
とが望ましい（その他の導電体もこれに適している）。

偏向パッドの実際の寸法は、広範囲に変化することが可
能であるが、以下で説明するように、これらは期待され
ている入射放射線がこれで偏向するような寸法でなけれ
ばならない。この偏向パッドは、どのような幾何学的形
状でもよい。例えば、円形がよ（機能することが知られ
ている。更に例として、直径２センチメートルの円板が
大部分の用途に対してうま（機能する。

偏向パッド２１は、効率的に機能するため間隔を隔てて
いなければならない。実験によれば、円板の直径の約１
／４の間隔でうまく機能することが示されている。従っ
て、上述した直径２センチメートルの円板の場合、０．
５センチメートルの間隔でうまく動作する。しかし、偏
向パッド２１の実際のサイズ、形状及び間隔は広範囲に
変化できることが評価されるべきである。特定の機能に
対して選択されたパッドの実際のサイズは、部分的には
抑制されるべき放射線の波長によって決まる。

吸収ファネル層９は、複数の孔２５を有し、そのベース
側で偏向層７から間隔を隔てて位置している。第２スペ
ーサー１５’が偏向層７と吸収ファネル層９の間に設け
られ、所望の間隔を保持している。吸収ファネル層９と
偏向層７の間の間隔は偏向パッド２１で偏向された放射
線が再び結合し、その結果、このような放射線の実質的
なパーセントが再び集められ、孔２５を通過することを
可能にするように選択される。例えば、適当な間隔は最
低１／８インチである。

反射板１１は、吸収ファネル層９のベース側に位置し、
それらの間には適当なスペーサー１５“が配設されてい
る。この反射層１１の目的は、ここで吸収されない入射
放射線を全て反射させることである。偏向層７、吸収フ
ァネル層９及び反射板１１は、偏向層と反射板の間に入
ってくる放射線を協働してトラップする。トラップされ
た放射線の実質的な部分は、これが最終的に吸収される
まで、偏向層７と反射板の間で前後に反射される。

メッシュ５、偏向層７、吸収ファネル層９及び反射板１
１は全て適当なアースに接続されるが、このアースは共
通アースの形態をとってもよい。

スペーサー１５．１５’　　１５“は全て放射線吸収媒
体によって形成されている。ウェーブガイドと同様に、
望ましいスペーサーの特性にはこれに入射する放射線を
効率的に吸収し分散させる能力がある。種々の適当な放
射線吸収材料が技術上知られておりれ、例えば、高密度
多孔性発泡フェルト、ファイバガラス等が全て良好に機
能する。

実際上、これらのスペーサーは、導電性材料または非導
電性材料のいずれで形成されてもよい。例えば、ロサン
ゼルスのサウンドフオーム社によって製造されているサ
ウンドフオームが良好に機能する。偏向パッド、吸収フ
ァネル層及び反射板１１は、全て遮蔽薄膜内での放射線
の集合性を良くするために点刻されていることが望まし
い。遮蔽薄膜内の放射線の集合性及び分散性によって、
ある特定の電波が遮蔽薄膜内を通過する距離を増加させ
、これによって電波が吸収される可能性を高め、電波が
電磁放射線のソースに対して反射され、または遮蔽薄膜
を通って伝送される可能性を減することが望ましい。

遮蔽装置の主要な目的の２つは、反射を最小にすること
と、伝導性を最小にすることである。従って、入射した
放射線の大部分は、遮蔽薄膜によって吸収されるかまた
はアースされるかのいす、れかでなければならない。概
念上、遮蔽薄膜ｌは、幾つかの明確な領域に分割される
。第１領域（これはウェーブガイド障壁３によって構成
される）は、遮蔽薄膜に入射した放射線が２Ｍ放射源に
向かって逆に反射されないことを保障する。ソースに向
かって放射線が逆に反射されるのを最小にすることは重
要であるが、この理由はこうした放射線がソースに対し
てノイズとして現れる可能性があるからである。ウェー
ブガイド障壁３並びにスペーサー１５は、これを通過す
る放射線を吸収し、分散させる媒体によって形成されて
いる。放射線を分散させることは重要であるが、その理
由は、これが、統計上入射放射線が遮蔽薄膜内で吸収さ
れるか、またはアースされるかいずれかである可能性を
増加するからである。従って、ウェーブガイド障壁は最
初の反射を最小にする領域並びに吸収及び分散領域の両
方として機能する。

次に第２図を参照して、ウェーブガイド障壁３を通って
入った電波の移動を説明する。メツシュ５は、低周波放
射線に対するアースゾーンとして機能する。アンテンの
設計に詳しい人々によって評価されるように、ワイヤー
・メツシュは入射した低周波放射線の大部分を効率的に
アースする。

より高い周波数の放射線（及びメッシュから逃げるより
低い周波数の放射ｖＡ）は、吸収スペーサーを通過して
トラップ領域に入るが、このトラップ領域は偏向層７、
吸収ファネル層９及び反射板１１によって構成されてい
る。トラップ領域は、偏向層及び望ましくは吸収ファネ
ル層の後ろの入射放射線の相当部分を「捕獲」し、これ
が放射源に対して逆に反射されるか、または遮蔽装置の
外部に伝送されるのではなく、吸収されることを保障す
ることを意図している。

偏向パッド２１に向けられた放射線の一部は、実際には
このパ・２ドと衝突してアースされる。しかし、大部分
の放射線はアースされた金属製偏向パッドの周囲で方向
を変更される。従って、偏向パッドは偏向領域４１を形
成する。偏向領域４１を通過する放射線は、ファぶル領
域４３に移動し、この領域によって、この放射線は、吸
収ファネル層９の孔２５を通過する。この放射線は、偏
向バンドを通り、吸収ファネル層９内の孔２５を通過し
後、再び集まる傾向がある。このような集団化は、トラ
ップの機能にとって大切であるが、この理由は、偏向パ
ッド２１の周囲で偏向された放射線を孔２５を通過させ
ることである。従って、放射線が再び集められ、孔２５
を通過して方向を変更するために、吸収ファネル層が偏
向パッドの後ろで十分間隔を置いていることが重要であ
る。吸収ファネル層を通過しない放射線は偏向され、こ
れが孔２５を通ってはね返り、または導電層７及び９ま
たは隣接するスペーサーによって吸収される迄、偏向パ
ッド２１と吸収ファネル層９の間を前後にはる返る傾向
がある。偏向パッドは、吸収を適切に発生させるために
、ファネル層の孔と揃っている必要はない。このことは
、特に入射放射線が薄膜と直角でない場合において真で
ある。トラップ領域を逃げた放射線がメツシュ層５、そ
の近傍のスペーサー、またはウェーブガイド障壁３によ
って吸収されやすいことを評価する必要がある。

ファネル層を通過し後、電波は吸収ファネル層と反射板
１１の間に配設された第２吸収領域に入る。これは反射
板ｌｌと偏向層７の間の放射線をできるだけ多くトラッ
プし、この中でトラップされた放射線を、これが吸収さ
れる迄、反射板と吸収ファネル層の間で前後にはね返す
ことである。

ここで説明した構造によって、放射線が第２吸収領域内
に十分長く保持され、これがスペーサーによって吸収さ
れるか、または導電層の１つによってアースされるのに
非常に有効であることが明らかとなっている。

一部の放射線が実際にウェーブガイド３及びスペーサー
１５と１５′によって吸収または分散され、またはその
両方を行われることは望ましいことである。更に、一部
の放射線は偏向層７によって、または吸収ファネル層の
全面に衝突することによってアースされる。

第３図を参照して、ウェーブガイド障壁３を説明する。

ウェーブガイドは、放射線放出源（図示せず）の方に面
している複数のピラミッド形の突起物３２を有している
。この突起物の形状は、若干変化してもよいが、これら
は遮蔽薄膜１の入射面からの放射線の反射を最小にする
ことを意図している。ウェーブガイド障壁３は、放射線
吸収物質から形成され、これはそれを通って分散されて
いる微小孔を有していることが望ましい。これらの微小
孔は、吸収の可能性を増す遮蔽薄膜１内の放射線の分散
を遮蔽薄膜ｌ内で放射線を分散させるために有利に使用
される。技術工種々の適当な放射線吸収材料が知られて
おり、例えば、高密度多孔性発泡体がこの目的のために
有効に作用する。

適当な高密度発泡体はカリフォルニア州、ロサンゼルス
のサウンドフオーム社によって製造されているサウンド
フオームである。他の適当な材料には、フェルト、ファ
イバーガラス等がある。

次に第４図を参照して、本発明に従って構成されたウェ
ーブガイド障壁３の反射及び伝導特性を説明する。上で
示したように、ウェーブガイド障壁は放射線放出源に面
している多数のピラミッド形の突起物を有している。こ
のような形状によって、放射線を放射源に向かって反射
する可能性が削減される。ピラミッド形の形状によって
、吸収が増加するが、その理由は、入射面２から反射さ
れた放射線はウェーブガイド障壁３の他の部分に向かっ
て反射される傾向があり、ここにおいてこれはその第２
または第３接触点で吸収される可能性があるからである
。このような構造の利点は、従来技術で十分良く知られ
ている。反射を最小にすることが重要であるが、この理
由は、このような反射が多くの場合において、電子部品
に対して非常に大きな問題となるノイズを形成するから
である。

次に第５図及び第６図を参照して、薄膜断面の相互接続
及び角部の形成を説明する。薄膜の断面は導電メツシュ
５、偏向層７、吸収ファネル層９及び反射層１１を含む
連続した導電層を使用することによって相互に接続する
ことが可能である。

ウェーブガイド障壁及びスペーサーは、ハウジングの壁
部と一致するように適当な寸法に設定されることが可能
である。角部を形成するには、第６図に示すように２つ
の隣接する断面が他に対して曲げられ、そ、の結果、そ
れぞれのウェーブガイド障壁３がお互いに接触する。こ
のような連続した構造によって、反射が電子部品に対し
て戻ること、及び装置から放射線が放出されることの両
方の可能性が最小にされる。第６図に模式的に示される
ように、導電層の各々は共通アースに接続されることが
可能である。サンドインチされた合計の厚さが１／２以
下の薄膜構造の場合、スペーサーは必要な余分の長さを
受入れるのに十分に伸びることができる限り角部を曲げ
るために切断されるべきではない。

ここで説明したサンドインチ構造は、ラミネートされた
形態で個々の構成部品として、またはその他の適当な形
態で製作することが可能である。

好適な実施例の１つにおいて、吸収ファネル層９を形成
するために金属箔シートを使用し、孔２５をこれにパン
チすることが可能である。金属箔のパンチされた部分は
、偏向パッド２１を形成するために使用することが可能
である。従って、概念上、吸収ファネル層のプレスされ
た部分は前方に移動し、銅またはその他の導電性テープ
またはワイヤーのような適当な手段によって電気的に接
続される。

次に第７図を参照して遮蔽薄膜は、管状の構造に組立て
られることが可能である。このような管状の構成によっ
て、電力線、コンジットのような遮蔽が理想的に行なえ
る。

例によって、遮蔽薄膜をビデオ・デイスプレー端末のプ
ラスチックの箱の壁に適用した場合を説明する。接着剤
の薄い層が反射板の背面にできるだけ均一に塗布される
。次いで遮蔽層がケースの壁に接着される。または遮蔽
薄膜１は電気機器のハウジングに一体的に形成されても
よい。

本発明の１つの実施例のみが詳細に説明されてきたが、
これは本発明の精神と範囲から逸脱することなく多くの
他の特定の形態で具現化されることが可能であることが
理解されるべきである。特に、更に反射または伝導性を
減少させるために、別の吸収またはアース層を負荷する
ことが可能であることが評価されるべきである。同様に
、複数の偏向及び吸収パネル部品の対が、遮蔽薄膜の効
率を改善するために、付加されることが可能である。各
構成部品に対して使用可能である材料には、種々の物が
あることがまた評価されるべきである。

例えばウェーブガイド障壁及びスペーサーは、高密度の
発泡物、フェルト、ファイバーガラスまたはパーティク
ルボードさえからも形成されることが可能である。種々
の導電層は、金属メツシュ及び箔のように全て高い導電
性でなければならない。

銅、ニッケル、鉄及びアルミは良好な例である。

Ｘ線を遮蔽するために特に設計された適用例において、
導電層５．７．９及び１■は鉛で形成されることが可能
である。このような構造は、Ｘ線に対して保護を行うの
に必要な従来の遮蔽エプロンの重量を大幅に削減する。

スペースを隔てた導電層の多層構造によって、従来の単
層Ｘ線障壁で共通して必要であるような非常に分厚い個
々の導電障壁層に対する必要性がなくなっていることが
評価されるだろう。

更に、ここで開示されている遮蔽薄膜が、ここで説明し
た陰極線管及び電子部品用のハウジング以外に、多くの
用途を有していることが、当業者によって理解される。

例えば、このような遮蔽構造は発電所の壁内に組込まれ
てその中で発生する電界を削減することが可能である。

更に、データの安全性に関心を有する取付は例では、放
射線の逃げることを妨げるために上述した遮蔽薄膜で形
成された壁が設けられている。同様に、自動車に取付け
ることによってこのような薄膜によって電子的なジャム
を遮蔽することが可能である。また本発明の遮蔽薄膜は
、一定の電磁界を稀薄にするために使用されることがで
きることが評価されるべきである。これは、電気部品の
このような電界を抑制することによって構成される。従
って、本実施例の例は、説明のためのものであって、制
限を加えるものではないことが理解されるべきであリ、
本発明は、ここで述べた詳細に限定されるものではなく
、これは添付の特許請求の範囲内で変更されることが可
能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従って組み立てられた平面遮蔽薄膜
の分解斜視図である。 第２図は、遮蔽薄膜内の入射電波の移動に焦点を当てた
第１図に示す遮蔽薄膜の概略側面図である。 第３図は、第１図の遮蔽薄膜の正面図である。 第４図は、本発明によるウェーブガイド障壁の反射及び
導伝特性の概略図である。 第５図は、第１図に示す遮蔽薄膜の斜視図である。 第６図は、角部に適用された場合の第１図に示す遮蔽薄
膜の側面図である。 第７図は、管状構造の遮蔽薄膜の斜視図である。 ２・・・・・・入射面、３・・・・・・ウェーブガイド
障壁、５・・・・・・導電性メッシュ、７・・・・・・
偏向層、９・・・・・・吸収ファネル層、ｌｌ・・・・
・・反射板、１５．１５’″・・・・・・吸収用スペー
サー、 ２５・・・・・・孔。 ■・・・・・・偏向バン ＦＩＧ、　２゜ 手 続 補 正 書 （方式） ％式％ ２、発明の名称 遮 蔽 用 薄 膜 ３、補正をする者 事件との関係

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. １．電磁放射源によって発生される放射線を吸収する遮
   蔽薄膜において、上記の遮蔽薄膜は、最初に薄膜に流れ
   込む放射線の一部を吸収する第１手段、 上記の第１手段によって吸収されなかった放射線の低周
   波構成要素の一部をアースする第２手段、及び 上記の第１手段及び第２手段によって吸収またはアース
   されなかった更に別の放射線をトラップ、アース及び吸
   収する第３手段によって構成され、上記の第３手段は電
   磁放射線吸収媒体を含み、上記の第３手段は未吸収の放
   射線の少なくとも一部を上記の吸収媒体を介して前後に
   更に反射させることを特徴とする遮蔽薄膜。
2. ２．電磁放射源からの放射線を吸収し、実質的に放射源
   に向かって面している入射側と実質的に放射源と離れて
   面しているベース側を有する遮蔽薄膜に於いて、上記の
   遮蔽薄膜は、上記の遮蔽薄膜の入射面に入射する電磁放
   射線の反射を最小にする手段、 導電性偏向層に入射した放射線を偏向するための間隔を
   隔てて配設された多数の金属偏向パッドによって形成さ
   れた上記の導電性偏向層であって、上記の偏向層は上記
   の反射最小化手段のベース側と間隔を隔てて対向する関
   係で位置している導電性偏向層、 偏向層のベース側と間隔を隔てて対向する関係で配設さ
   れ、放射線を通過させるための多数の孔を有する導電性
   吸収ファネル層、及び、上記の吸収ファネル層のベース
   側から間隔を隔てて配設されたアースされている反射板
   によって構成されることを特徴とする遮蔽薄膜。
3. ３．遮蔽薄膜に入る放射線の低周波構成要素の一部をア
   ースする手段によって更に構成され、上記の低周波アー
   ス手段は反射最小化手段と偏向層との間に配設されてい
   ることを特徴とする請求項２記載の遮蔽薄膜。
4. ４．上記のアース手段は上記の偏向層から間隔を隔てて
   いる導電性メッシュを有し、上記のメッシュはアースさ
   れていることを特徴とする請求項３記載の遮蔽薄膜。
5. ５．上記の反射最小化手段は、遮蔽薄膜に入射する電磁
   放射線の反射を最小にするための放射線放出源に面して
   いる多数の突起部を有するウェーブガイド障壁を有する
   ことを特徴とする請求項４記載の遮蔽薄膜。
6. ６．上記の導電性メッシュと上記の偏向層の間に配設さ
   れた第１スペーサー、上記の偏向層と上記の吸収ファネ
   ル層の間に配設された第２スペーサー、及び上記の吸収
   ファネル層と上記の反射板との間に配設された第３スペ
   ーサーによって更に構成されることを特徴とする請求項
   ５記載の遮蔽薄膜。
7. ７．上記の導電性メッシュと上記の反射板との間で間隔
   を隔てた関係で配設されている複数の偏向層及び複数の
   吸収ファネル層によって更に構成されることを特徴とす
   る請求項６記載の遮蔽薄膜。
8. ８．上記の偏向層上の偏向パッドは、上記の吸収ファネ
   ル層の孔と実質的に同一の形状を有することを特徴とす
   る請求項３記載の遮蔽薄膜。
9. ９．上記の偏向パッドは、実質的に円形であり、電気的
   に相互に接続されていることを特徴とする請求項８記載
   の遮蔽薄膜。
10. １０．上記の遮蔽薄膜はビデオ・ディスプレー端末のハ
    ウジングの一部を形成することを特徴とする請求項６記
    載の遮蔽薄膜。
11. １１．電磁放射線を放射する部品を有する装置の放射を
    遮蔽し、実質的に放射線放射部品に向かって面している
    入射側と実質的に放射線放射部品と離れて面しているベ
    ース側を有するハウジングに於いて、上記のハウジング
    は、遮蔽薄膜に入射する電磁放射線の反射を最小にする
    ための放射線放射部品に面する多数の実質的にピラミッ
    ド形の突起部を有するウェーブガイド障壁、低周波放射
    線を遮断するため、上記のウェーブガイド障壁のベース
    側に配設され、アースされている導電性メッシュ、 導電性偏向層に入射した放射線を偏向するため間隔を隔
    てて配設された多数の金属偏向パッドによって構成され
    た上記の導電性偏向層であって、上記の偏向層はアース
    され、かつ上記の導電性メッシュのベース面と間隔を隔
    てる関係で位置している導電性偏向層、 偏向層のベース側と間隔を隔てて対向する関係で配設さ
    れ、放射線を通過させるための多数の孔を有し、かつア
    ースされている導電性吸収ファネル層、 上記の吸収ファネル層のベース側から間隔を隔てて配設
    されている反射板、 上記の反射板のベース側に配設されているプラスチック
    ・ケース及び 複数の吸収用スペーサーに入射した放射線の少なくとも
    一部を吸収及び分散する上記の吸収用スペーサーであっ
    て、上記の複数の吸収用スペーサーは、上記の導電層と
    上記の偏向層の間に配設された第１スペーサー、上記の
    偏向層と上記の吸収ファネル層の間に配設された第２ス
    ペーサー、及び上記の吸収ファネル層と上記の反射板と
    の間に配設された第３スペーサーを有する複数の吸収用
    スペーサーによって構成されることを特徴とするハウジ
    ング。
12. １２．種々の電子及び電気源からの放射線を遮蔽し、上
    記の部品に面している入射側と上記の部品と離れて面し
    ているベース側を有する遮蔽薄膜に於いて、上記の遮蔽
    薄膜は、 ウェーブガイド障壁に入射する電磁放射線の反射を最小
    にするため、放射源に面する多数のピラミッド形の突起
    部を有する上記のウェーブガイド障壁、及び 間隔を隔てて積み重ねられた複数の導電層であって、上
    記の各導電層は入射する放射線の一部をアースするため
    にアースされている複数の導電層、及び 複数の吸収用スペーサーを通過する放射線を吸収及び分
    散する上記の吸収用スペーサーであって、上記の各吸収
    用スペーサーは隣接する一対の導電層の間に配設される
    複数の吸収用スペーサーによって構成され、上記の導電
    層は、低周波放射線を遮断する導電性メッシュ、多数の
    金属偏向パッドに入射する放射線を偏向するための間隔
    を隔てて電気的に接続された上記の金属偏向パッドによ
    って形成された偏向層、 上記の偏向パッドのベース側に配設され、上記の偏向パ
    ッドの周辺に偏向された放射線を通過させるため多数の
    孔を有する吸収ファネル層、及び上記の吸収ファネル層
    と上記の偏向層の間の上記の孔を通過する放射線をトラ
    ップするため、上記の吸収ファネル層及び上記の偏向層
    と協働するように上記の吸収ファネル層のベース側に配
    設されたた反射板を有することを特徴とする遮蔽薄膜。