JPH0256489A - セフアロスポリン誘導体の製法 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体の製法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- HOKIDJSKDBPKTQ-UHFFFAOYSA-N 3-(acetyloxymethyl)-7-[(5-amino-5-carboxypentanoyl)amino]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical class S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C(NC(=O)CCCC(N)C(O)=O)C12 HOKIDJSKDBPKTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims abstract description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- KEJCWVGMRLCZQQ-YJBYXUATSA-N Cefuroxime axetil Chemical compound N([C@@H]1C(N2C(=C(COC(N)=O)CS[C@@H]21)C(=O)OC(C)OC(C)=O)=O)C(=O)\C(=N/OC)C1=CC=CO1 KEJCWVGMRLCZQQ-YJBYXUATSA-N 0.000 claims description 5
- 229960002620 cefuroxime axetil Drugs 0.000 claims description 5
- 238000006146 oximation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 3
- GMPKIPWJBDOURN-UHFFFAOYSA-N Methoxyamine Chemical compound CON GMPKIPWJBDOURN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 abstract description 2
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 abstract description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 abstract description 2
- FZEVMBJWXHDLDB-ZCFIWIBFSA-N (6r)-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-en-8-one Chemical compound S1CC=CN2C(=O)C[C@H]21 FZEVMBJWXHDLDB-ZCFIWIBFSA-N 0.000 abstract 1
- SXBDXXFTJVHSAF-ZCFIWIBFSA-N (6r)-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-3-en-8-one Chemical compound S1C=CCN2C(=O)C[C@H]21 SXBDXXFTJVHSAF-ZCFIWIBFSA-N 0.000 abstract 1
- 229940116108 lactase Drugs 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- -1 (6R Chemical compound 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanone Chemical group ClC(Cl)(Cl)[C]=O UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950003588 axetil Drugs 0.000 description 2
- 238000010945 base-catalyzed hydrolysis reactiony Methods 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- AMANDCZTVNQSNB-UHFFFAOYSA-N glyoxamide Chemical compound NC(=O)C=O AMANDCZTVNQSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IXVPCJUAKDVYKX-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-yl)-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CO1 IXVPCJUAKDVYKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108020004256 Beta-lactamase Proteins 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 102000006635 beta-lactamase Human genes 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 229960001668 cefuroxime Drugs 0.000 description 1
- JFPVXVDWJQMJEE-IZRZKJBUSA-N cefuroxime Chemical compound N([C@@H]1C(N2C(=C(COC(N)=O)CS[C@@H]21)C(O)=O)=O)C(=O)\C(=N/OC)C1=CC=CO1 JFPVXVDWJQMJEE-IZRZKJBUSA-N 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XNXVOSBNFZWHBV-UHFFFAOYSA-N hydron;o-methylhydroxylamine;chloride Chemical compound Cl.CON XNXVOSBNFZWHBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940127249 oral antibiotic Drugs 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 1
- XDLNRRRJZOJTRW-UHFFFAOYSA-N thiohypochlorous acid Chemical compound ClS XDLNRRRJZOJTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
- C07D501/34—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセファロスポリンにおける、またはそれに関わ
る改善に関する。よシ詳細には経口用抗生物質セフ0キ
シムアキセチルの製法に関する。
る改善に関する。よシ詳細には経口用抗生物質セフ0キ
シムアキセチルの製法に関する。
セフロキシムアキセチル、すなわち(6R,7R)−3
−カルバモイルオキシメチル−7−((Z)−2−(フ
ルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セ
フ−3−エム−4−カルボン酸(セフ0キシム)の1−
7セトキシエチルエステルは英国特許第1,571,6
83号に記載されている。セフロキシムアキセチルは経
口投与できるので特に価値あるセファロスポリンである
。
−カルバモイルオキシメチル−7−((Z)−2−(フ
ルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セ
フ−3−エム−4−カルボン酸(セフ0キシム)の1−
7セトキシエチルエステルは英国特許第1,571,6
83号に記載されている。セフロキシムアキセチルは経
口投与できるので特に価値あるセファロスポリンである
。
この化合物は広いスペクトルのグラム陽性細菌およびダ
ラム陰性細菌に対し経口投与によシ良好な抗生活性を有
しかつβ−ラクタマーゼに対し高い安定性を有すること
が示されている。
ラム陰性細菌に対し経口投与によシ良好な抗生活性を有
しかつβ−ラクタマーゼに対し高い安定性を有すること
が示されている。
セファロスポリンエステル類は適当な7−アミツセ7ア
ロスボリンを、これに7−置換基を導入させうる化合物
を予め形成させておいてそれを用いてアシル化すること
によるか、または相当する化770スポリン4−カルボ
ン酸の4−カルボキシル基をエステル化する、例えばノ
・ロエステルと反応させることによシ所望のエステル基
を導入することによシ通常製造されうる。
ロスボリンを、これに7−置換基を導入させうる化合物
を予め形成させておいてそれを用いてアシル化すること
によるか、または相当する化770スポリン4−カルボ
ン酸の4−カルボキシル基をエステル化する、例えばノ
・ロエステルと反応させることによシ所望のエステル基
を導入することによシ通常製造されうる。
これら一般法はセフロキシムアキセチルの製法に関する
英国特許第1,571,683号に記載されている。
英国特許第1,571,683号に記載されている。
今、0−メチルオキシム基を合成の最後の主要化学工程
としてのオキシム化反応によシ導入することからなるセ
フロキシムアキセチルおよびその保護された誘導体の製
法が考案された。
としてのオキシム化反応によシ導入することからなるセ
フロキシムアキセチルおよびその保護された誘導体の製
法が考案された。
それゆえ、本発明の観点の一つによれば、−般式(1)
(式中Pは水素原子またはカルバモイル保護基であシ、
2はSまたはS→0でありそして点線はその化合物がセ
フ−2−エムまたはセフ−3−エム化合物であることを
示す)を有する化合物を製造するに当勺、式(It) (式中R,Zおよび点線は前記のとおシである)を有す
る化合物な0−メチル−オキシム化剤例えばメトキシル
アミンまたはその塩と反応させることからなる方法が提
供される。
2はSまたはS→0でありそして点線はその化合物がセ
フ−2−エムまたはセフ−3−エム化合物であることを
示す)を有する化合物を製造するに当勺、式(It) (式中R,Zおよび点線は前記のとおシである)を有す
る化合物な0−メチル−オキシム化剤例えばメトキシル
アミンまたはその塩と反応させることからなる方法が提
供される。
このオキシム化反応は水性または非水性媒体中で、好都
合には一り0℃〜+1oo℃、例えばO℃〜+75℃で
実施できる。
合には一り0℃〜+1oo℃、例えばO℃〜+75℃で
実施できる。
使用できる反応媒体の例をあげれば水;アルコール例え
ばメタノールまたはエタノール;エーテル例えばテトラ
ヒドロフランもしくはジオキサンのような環状エーテル
またはジエチルエーテルもしくはジグリムのような非環
状エーテル;アミド例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミドまたはへキサメチル
ホスホラミド;ニトリル例えばアセトニトリル:ニトロ
アルカン例えばニトロメタン、スルホキシド例えばジメ
チルスルホキシド;スルホン例えばスルホラン;ハロゲ
ン化炭化水素例えばジクロロメタン;およびエステル例
えば酢酸エチル、ならびにかかる溶媒の2[またはそれ
以上の混合物である。
ばメタノールまたはエタノール;エーテル例えばテトラ
ヒドロフランもしくはジオキサンのような環状エーテル
またはジエチルエーテルもしくはジグリムのような非環
状エーテル;アミド例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミドまたはへキサメチル
ホスホラミド;ニトリル例えばアセトニトリル:ニトロ
アルカン例えばニトロメタン、スルホキシド例えばジメ
チルスルホキシド;スルホン例えばスルホラン;ハロゲ
ン化炭化水素例えばジクロロメタン;およびエステル例
えば酢酸エチル、ならびにかかる溶媒の2[またはそれ
以上の混合物である。
もしオキシム化を無水反応媒体中で実施する場合はルイ
ス酸例えば、好都合にはエーテラートのような溶媒和物
の形態のBr3 、塩化マグネシウムまたは塩化亜鉛が
存在するのが望ましい。
ス酸例えば、好都合にはエーテラートのような溶媒和物
の形態のBr3 、塩化マグネシウムまたは塩化亜鉛が
存在するのが望ましい。
水性条件が用いられる場合はこの反応は好都合には声2
.0〜9.0好ましくは6〜8で実施できる。声は適当
な酸または塩基、例えば塩酸もしくは硫酸のような鉱酸
またはアルカリ金属の炭酸塩もしく拡重炭酸塩例えば重
炭酸ナトリウムを添加することによシ前記範囲内に好都
合に維持できる。
.0〜9.0好ましくは6〜8で実施できる。声は適当
な酸または塩基、例えば塩酸もしくは硫酸のような鉱酸
またはアルカリ金属の炭酸塩もしく拡重炭酸塩例えば重
炭酸ナトリウムを添加することによシ前記範囲内に好都
合に維持できる。
このオキシム化反応に続いて所望の場合は初めに得られ
た式(りの化合物を例えば下記反応、すなわち (1) Z 6; S→0である化合物の2がSであ
る化合物への還元、 (11)Δ−異性体のΔ−異性体への変換、On)
カルバモイル上に置換基が存在する場合はその除去、 01種またはそれ以上によシ別の式(1)の化合物に変
換することができる。
た式(りの化合物を例えば下記反応、すなわち (1) Z 6; S→0である化合物の2がSであ
る化合物への還元、 (11)Δ−異性体のΔ−異性体への変換、On)
カルバモイル上に置換基が存在する場合はその除去、 01種またはそれ以上によシ別の式(1)の化合物に変
換することができる。
この反応は慣用の方法により任意の好都合な順序で遂行
できる。
できる。
従って、所望の場合は本発明方法にょシ得られたΔ2−
セファロスポリンは、例えば!−エステルをピリジンま
たはトリエチルアミンのような塩基で処理することによ
シ相当するΔ3−誘導体に変換できる。
セファロスポリンは、例えば!−エステルをピリジンま
たはトリエチルアミンのような塩基で処理することによ
シ相当するΔ3−誘導体に変換できる。
セフ−2−エム反応生成物はまた例えば過酢酸またはm
−クロロ過安息香酸のよ5な過酸と反応させることによ
シ酸化して相当するセフ−3−エム1−オキサイドとな
すこともできる。
−クロロ過安息香酸のよ5な過酸と反応させることによ
シ酸化して相当するセフ−3−エム1−オキサイドとな
すこともできる。
生成するスルホキシドは次に以下に記載されるようにし
て還元して相当するセフ−3−エムスルフイツトとなす
ことができる。
て還元して相当するセフ−3−エムスルフイツトとなす
ことができる。
2が8−0である式(1)の化合物が得られる場合は、
所望によシこのものは例えばその場で!lli製すれる
相当するアシルオキシスルホニウム塩(例えばアセトキ
シスルホニウム塩の場合にはアセチルクロライドと反応
させることによる)tたはアルコキシスルホニウム塩を
還元することによシ相当するスルフイツトに変換でき、
その場合還元は例えば亜ジチオン酸ナトリウムによるか
または溶媒例えば酢酸、アセトン、テトラヒドロンラン
、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはジメチルア
セトアミド中の沃化カリウムの溶液のようなヨーダイト
イオンによシ行われる。この反応は一20℃〜+50℃
で実施できる。
所望によシこのものは例えばその場で!lli製すれる
相当するアシルオキシスルホニウム塩(例えばアセトキ
シスルホニウム塩の場合にはアセチルクロライドと反応
させることによる)tたはアルコキシスルホニウム塩を
還元することによシ相当するスルフイツトに変換でき、
その場合還元は例えば亜ジチオン酸ナトリウムによるか
または溶媒例えば酢酸、アセトン、テトラヒドロンラン
、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはジメチルア
セトアミド中の沃化カリウムの溶液のようなヨーダイト
イオンによシ行われる。この反応は一20℃〜+50℃
で実施できる。
式(夏)の化合物またはその中間体中に存在するカルバ
モイル保護基は反応順序中の適当な段階で容易に除去さ
れ5る基が好都合で、例をあげればγシル基特にアセチ
ルのような低級アルカノイル基、モノ−ジーまたはトリ
ークロロアセチルのようなハロ置換低級アルカノイル基
、クロロスルホニウムまたハプロモスルホニル基、ジク
ロロホスホニル基のようなジハロホスホニル基、または
2,2.2・−トリクロロエトキシカル;F:ニル(f
) j 57iハロゲン化アルコキシカルボニル基であ
る。
モイル保護基は反応順序中の適当な段階で容易に除去さ
れ5る基が好都合で、例をあげればγシル基特にアセチ
ルのような低級アルカノイル基、モノ−ジーまたはトリ
ークロロアセチルのようなハロ置換低級アルカノイル基
、クロロスルホニウムまたハプロモスルホニル基、ジク
ロロホスホニル基のようなジハロホスホニル基、または
2,2.2・−トリクロロエトキシカル;F:ニル(f
) j 57iハロゲン化アルコキシカルボニル基であ
る。
式(1)の化合物中に存在する任意のカルバモイル保護
基が当業上知られた任意の適当な方法によシ所望に応じ
て除去されうる。クロロスルホニル、ジクロロホスホニ
ルおよびトリクロロアセチルのような不安定な基は一般
に酸または塩基触媒加水分解(例えば重炭酸ナトリウム
を用いる塩基触媒加水分解)によシ開裂されうる。
基が当業上知られた任意の適当な方法によシ所望に応じ
て除去されうる。クロロスルホニル、ジクロロホスホニ
ルおよびトリクロロアセチルのような不安定な基は一般
に酸または塩基触媒加水分解(例えば重炭酸ナトリウム
を用いる塩基触媒加水分解)によシ開裂されうる。
2.2.2− トリクロロエトキシカルボニルのような
ハロゲン化された基も還元的に開裂でき、−方クロロア
セチルのような基はチオ尿素ノヨウなチオアミドと処理
することによって開裂されう る 。
ハロゲン化された基も還元的に開裂でき、−方クロロア
セチルのような基はチオ尿素ノヨウなチオアミドと処理
することによって開裂されう る 。
反応生成物は、例えば未変化セファロスポリン出発物質
およびその他の物質を含有しうる反応混合物から溶媒に
よる抽出、再結晶、イオン泳動、カラムクロマトグラフ
ィー、高圧液体クロマトグラフィー イオン交換クロマ
トグラフィーまたは巨大網状樹脂でのクロマトグラフィ
ーを含む種々の方法によシ分離されうる。
およびその他の物質を含有しうる反応混合物から溶媒に
よる抽出、再結晶、イオン泳動、カラムクロマトグラフ
ィー、高圧液体クロマトグラフィー イオン交換クロマ
トグラフィーまたは巨大網状樹脂でのクロマトグラフィ
ーを含む種々の方法によシ分離されうる。
式(I)の化合物が外性体の混合物として得られる場合
は、結晶化またはり四マドグラフィーのような慣用の方
法によシシン異性体を得ることができる。また、生成物
は例えば英国特許第2.145,409号に記載される
ようにエステル化基のnおよびS異性体の約1=1モル
比混合物の形でも回収されうる。
は、結晶化またはり四マドグラフィーのような慣用の方
法によシシン異性体を得ることができる。また、生成物
は例えば英国特許第2.145,409号に記載される
ようにエステル化基のnおよびS異性体の約1=1モル
比混合物の形でも回収されうる。
本発明の好ましい態様はセフロキシムアキセチルまたは
その保護された誘導体、すなわちBが水素原子またはカ
ルバモイル保護基であシ、2が8であ夛、そして点線が
セフ−3−エム化合物を表わす式(1)の化合物の製法
、続いて所望の場合は場合によシその場での保護基の除
去に関する。
その保護された誘導体、すなわちBが水素原子またはカ
ルバモイル保護基であシ、2が8であ夛、そして点線が
セフ−3−エム化合物を表わす式(1)の化合物の製法
、続いて所望の場合は場合によシその場での保護基の除
去に関する。
式(I[)の化合物は例えば式(Ill)(式中R,Z
および点線は前記のとお)である)を有する化合物また
はその塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウムまた
はカリウム塩)またハオニウム塩例えばアンモニウム塩
(例えば四級アンモニウム塩)を適当なハロエステル例
えば1−アセトキシエチルブロマイドでエステル化する
ことにより調製されうる。
および点線は前記のとお)である)を有する化合物また
はその塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウムまた
はカリウム塩)またハオニウム塩例えばアンモニウム塩
(例えば四級アンモニウム塩)を適当なハロエステル例
えば1−アセトキシエチルブロマイドでエステル化する
ことにより調製されうる。
この反応は好都合には不活性溶媒、例えばN、N−ジメ
チルホルムアミド、JN−ジメチルアセトアミドのよう
fi N、N−ジ置換アミド;アセトンのようなケトン
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド;ジクロ
ロメタンのような710ゲン化炭化水素;またはアセト
ニトリルのようなニトリル中で実施される。この反応は
一50℃〜+150℃、例えば−10℃〜+50℃、好
都合には一り0℃〜室温で実施され5る。
チルホルムアミド、JN−ジメチルアセトアミドのよう
fi N、N−ジ置換アミド;アセトンのようなケトン
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド;ジクロ
ロメタンのような710ゲン化炭化水素;またはアセト
ニトリルのようなニトリル中で実施される。この反応は
一50℃〜+150℃、例えば−10℃〜+50℃、好
都合には一り0℃〜室温で実施され5る。
遊離の酸が出発物質として用いられる場合は、エステル
化は一般に4−カルボキシル官能基かラアニオンを生成
させうる塩基の存在下に実施される。適当な塩基の例を
あげれば無機塩基例えば炭酸ナトリウムまたはカリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩である。
化は一般に4−カルボキシル官能基かラアニオンを生成
させうる塩基の存在下に実施される。適当な塩基の例を
あげれば無機塩基例えば炭酸ナトリウムまたはカリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩である。
式(I[)の化合物は例えば英国特許第1,453,0
49号に記載される慣用のアシル化法により調製されう
る。
49号に記載される慣用のアシル化法により調製されう
る。
本発明を以下に例示する。温度はすべて摂氏による。「
乾燥」なる用語は硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウ
ムでの乾燥を意味する。はトロールとは石油エーテル(
沸点40〜60℃)を意味する。
乾燥」なる用語は硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウ
ムでの乾燥を意味する。はトロールとは石油エーテル(
沸点40〜60℃)を意味する。
中間体 1
ジフェニルメチル(6B、71’l) −3−カルバモ
イルオキシメチル−7−((フルー2−イル)グリオキ
サミド〕セフ−6−ニムー4−カルボキシレート ジフェニルメチル(6R,7R) −7−アミノ−6−
カルバモイルオキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレートトルエン−p−スルホン酸塩(t2ay)を
酢酸エチル(200d、)および重炭酸ナトリウム溶液
(2ootnt)中に溶解させた。酢酸エチル層を分離
し、水洗し、乾燥しモして0℃に冷却した。この溶液に
ジシクロへキシルカルボジイミド(1,46II:lよ
び2−フリルグリオキシル酸(991jllF)の酢酸
エチル溶液を加えた。
イルオキシメチル−7−((フルー2−イル)グリオキ
サミド〕セフ−6−ニムー4−カルボキシレート ジフェニルメチル(6R,7R) −7−アミノ−6−
カルバモイルオキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレートトルエン−p−スルホン酸塩(t2ay)を
酢酸エチル(200d、)および重炭酸ナトリウム溶液
(2ootnt)中に溶解させた。酢酸エチル層を分離
し、水洗し、乾燥しモして0℃に冷却した。この溶液に
ジシクロへキシルカルボジイミド(1,46II:lよ
び2−フリルグリオキシル酸(991jllF)の酢酸
エチル溶液を加えた。
反応混合物を0℃で20分間攪拌し、−過しそしてp液
を真空下に蒸発させた。残留物をエタノールで摩砕して
標記化合物(3,531りを得た。
を真空下に蒸発させた。残留物をエタノールで摩砕して
標記化合物(3,531りを得た。
融点169〜171℃。
中間体 2
(611,7R) −3−カルバモイルオキシメチル−
7−〔(フルー2−イル)グリオキサミド〕セフー3−
エム−4−カルボン酸 アニソール(5,5m1)および中間体1の生成物(t
a4.9)の冷却(0℃)され攪拌された混合物中にト
リフルオロ酢酸(5,5m)を加えた。10分後に、こ
の反応混合物を水性重炭酸ナトリウム(100yd)お
よび酢酸エチル(100mj)中に注入した。水層を分
離し、酢酸エチル(1001Rt)で洗いそして酢酸エ
チルの下−12に酸性化した。不溶性物質を一過し、そ
して酢酸エチル層を洗浄、乾燥および蒸発後に得られた
固形物と合した。
7−〔(フルー2−イル)グリオキサミド〕セフー3−
エム−4−カルボン酸 アニソール(5,5m1)および中間体1の生成物(t
a4.9)の冷却(0℃)され攪拌された混合物中にト
リフルオロ酢酸(5,5m)を加えた。10分後に、こ
の反応混合物を水性重炭酸ナトリウム(100yd)お
よび酢酸エチル(100mj)中に注入した。水層を分
離し、酢酸エチル(1001Rt)で洗いそして酢酸エ
チルの下−12に酸性化した。不溶性物質を一過し、そ
して酢酸エチル層を洗浄、乾燥および蒸発後に得られた
固形物と合した。
この生成物をメタノールから結晶化して標記化金物(6
781v)を得た。
781v)を得た。
〔α〕ゎ+64°(C19′88、水性重炭酸ナトリウ
ム中) 中間体 3 (Rおよび5)−1−アセトキシエチル−(6R,7R
)=3−カルバモイルオキシメチル−7−((フルー
2− イル)−グリオキサミド〕セフー3−エム−4−
カルボキシレート ジメチルホルムアミド(3amt)中の中間体2の生成
物(3,00,P)の溶液を窒素の下22℃で1時間炭
酸カリウム([1531)と攪拌した。この混合物を約
OCに冷却しそして(R,S) −j−アセトキシエチ
ルブロマイド(1,394#)と3時間攪拌した。この
混合物を2M・塩酸および酢酸エチルの間に分配した。
ム中) 中間体 3 (Rおよび5)−1−アセトキシエチル−(6R,7R
)=3−カルバモイルオキシメチル−7−((フルー
2− イル)−グリオキサミド〕セフー3−エム−4−
カルボキシレート ジメチルホルムアミド(3amt)中の中間体2の生成
物(3,00,P)の溶液を窒素の下22℃で1時間炭
酸カリウム([1531)と攪拌した。この混合物を約
OCに冷却しそして(R,S) −j−アセトキシエチ
ルブロマイド(1,394#)と3時間攪拌した。この
混合物を2M・塩酸および酢酸エチルの間に分配した。
水層な酢酸エチルで抽出しく2回)そして有機層を合し
、水、飽和重炭酸ナトリウム溶液(2回)およびブライ
ンで洗った。
、水、飽和重炭酸ナトリウム溶液(2回)およびブライ
ンで洗った。
この溶液を乾燥し、濃縮して約15mgとなしそしてイ
ト四−ルに加えて標記化合物を固形物(2,4211)
として得た。
ト四−ルに加えて標記化合物を固形物(2,4211)
として得た。
’mhx (CHBr5 ) 1788および1736
an−’;J (CDCl2) ao7 (IH,d、
r 4H2)、ao 1 (DJ、 cl 、78Hz
)、7.75 (IH,a)、7. CJ 9および
、6.97 (1a、q)、6.61 (IH,m)、
5.80 (1H,m)、5.03 (11(、d、T
l3Hz)、4.93 (2H,s)、4.81および
5.08 (2H,m)、五6および3.44 (2H
,m)、2.02 (3H,s)および1.52 (3
H,d J 4Hz)。
an−’;J (CDCl2) ao7 (IH,d、
r 4H2)、ao 1 (DJ、 cl 、78Hz
)、7.75 (IH,a)、7. CJ 9および
、6.97 (1a、q)、6.61 (IH,m)、
5.80 (1H,m)、5.03 (11(、d、T
l3Hz)、4.93 (2H,s)、4.81および
5.08 (2H,m)、五6および3.44 (2H
,m)、2.02 (3H,s)および1.52 (3
H,d J 4Hz)。
実施例
(Rおよび5)−1−アセトキシエチル(6R,7R)
−5−カルバモイルオキシメチル−7−1)−2−(フ
ルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セ
フ−3−エム−4−カルボキシレート エタノール(1QmZ)中の中間体3の生成物(SOO
η)およびメトキシルアミン塩酸塩(178■)の懸濁
液をジメチルホルムアミド(3ゴ)と約OCで攪拌して
溶液を得た。ピリジン(cL56tnt)ヲ添加して水
と振盪した部分が困4.2となるようにし、そしてこの
溶液な0〜4℃で50時間攪拌した。この溶液を酢酸エ
チルと2M塩酸との間に分配し、水層を分離して酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合し、水、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液およびブラインで洗った。この溶液を乾燥し、
約5−となるまで濃縮しそしてはトロールに加えて標記
化合物を固形物(258■)として得、これをHPLC
によシセフロキシムアキセチルの標準試料と比較するこ
とにより同定した。
−5−カルバモイルオキシメチル−7−1)−2−(フ
ルー2−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕セ
フ−3−エム−4−カルボキシレート エタノール(1QmZ)中の中間体3の生成物(SOO
η)およびメトキシルアミン塩酸塩(178■)の懸濁
液をジメチルホルムアミド(3ゴ)と約OCで攪拌して
溶液を得た。ピリジン(cL56tnt)ヲ添加して水
と振盪した部分が困4.2となるようにし、そしてこの
溶液な0〜4℃で50時間攪拌した。この溶液を酢酸エ
チルと2M塩酸との間に分配し、水層を分離して酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合し、水、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液およびブラインで洗った。この溶液を乾燥し、
約5−となるまで濃縮しそしてはトロールに加えて標記
化合物を固形物(258■)として得、これをHPLC
によシセフロキシムアキセチルの標準試料と比較するこ
とにより同定した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子またはカルバモイル保護基であり、
ZはBまたは−SO−でありそして点線はその化合物が
セフ−2−エムまたはセフ−3−エム化合物であること
を示す) を有する化合物を製造するに当り、式(II)▲数式、化
学式、表等があります▼(II) (式中R、Zおよび点線は前記したとおりである)を有
する化合物をO−メチル−オキシム化剤と反応させ続い
て所望の場合ははじめに得られた式( I )の化合物を
下記反応、すなわち (i)Zが−SO−である化合物のZがSである化合物
への還元、 (ii)Δ^2−異性体のΔ^3−異性体への変換、 (iii)カルバモイル上に置換基が存在する場合はそ
の除去、 の1種またはそれ以上により別の式( I )の化合物に
変換することからなる方法。 2)オキシム化反応が−20℃〜100℃の範囲の温度
で実施されることからなる請求項1記載の方法。 3)オキシム化剤がメトキシルアミンまたはその塩から
なる請求項1または2記載の方法。 4)式II(式中Rは水素原子またはカルバモイル保護基
であり、ZはSでありそして点線はセフ−3−エム化合
物を示す)を有する化合物を前記O−メチルオキシム化
剤と反応させることからなる前出の請求項のいずれかに
記載の方法。 5)前出の請求項のいずれかに記載の方法により製造さ
れた請求項1記載の一般式( I )を有する化合物。 6)請求項4記載の方法により製造されたセフロキシム
アキセチル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888810393A GB8810393D0 (en) | 1988-05-03 | 1988-05-03 | Chemical process |
| GB8810393.2 | 1988-05-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256489A true JPH0256489A (ja) | 1990-02-26 |
Family
ID=10636246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1112311A Pending JPH0256489A (ja) | 1988-05-03 | 1989-05-02 | セフアロスポリン誘導体の製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0256489A (ja) |
| KR (1) | KR970001530B1 (ja) |
| CH (1) | CH678624A5 (ja) |
| DE (1) | DE3914672A1 (ja) |
| FR (1) | FR2631032A1 (ja) |
| GB (2) | GB8810393D0 (ja) |
| IT (1) | IT1232829B (ja) |
| NL (1) | NL8901110A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1208015A (en) * | 1967-03-23 | 1970-10-07 | Glaxo Lab Ltd | Cephalosporins |
| GB1208014A (en) * | 1967-03-23 | 1970-10-07 | Glaxo Lab Ltd | Cephalosporins |
| CA1094545A (en) * | 1976-02-16 | 1981-01-27 | Michael Gregson | Cephalosporin antibiotics |
| GB8400024D0 (en) * | 1984-01-03 | 1984-02-08 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin antibiotics |
-
1988
- 1988-05-03 GB GB888810393A patent/GB8810393D0/en active Pending
-
1989
- 1989-05-02 KR KR1019890005922A patent/KR970001530B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-02 JP JP1112311A patent/JPH0256489A/ja active Pending
- 1989-05-02 CH CH1660/89A patent/CH678624A5/de not_active IP Right Cessation
- 1989-05-02 GB GB8909986A patent/GB2218092A/en not_active Withdrawn
- 1989-05-02 NL NL8901110A patent/NL8901110A/nl not_active Application Discontinuation
- 1989-05-02 IT IT8947903A patent/IT1232829B/it active
- 1989-05-03 FR FR8905906A patent/FR2631032A1/fr not_active Withdrawn
- 1989-05-03 DE DE3914672A patent/DE3914672A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL8901110A (nl) | 1989-12-01 |
| GB2218092A (en) | 1989-11-08 |
| DE3914672A1 (de) | 1989-11-16 |
| CH678624A5 (ja) | 1991-10-15 |
| KR970001530B1 (ko) | 1997-02-11 |
| FR2631032A1 (fr) | 1989-11-10 |
| GB8909986D0 (en) | 1989-06-21 |
| GB8810393D0 (en) | 1988-06-08 |
| IT8947903A0 (it) | 1989-05-02 |
| IT1232829B (it) | 1992-03-05 |
| KR890017255A (ko) | 1989-12-15 |
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