JPH0256809B2 - - Google Patents

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JPH0256809B2
JPH0256809B2 JP16091084A JP16091084A JPH0256809B2 JP H0256809 B2 JPH0256809 B2 JP H0256809B2 JP 16091084 A JP16091084 A JP 16091084A JP 16091084 A JP16091084 A JP 16091084A JP H0256809 B2 JPH0256809 B2 JP H0256809B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
turntable
shaft
vacuum
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16091084A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6140031A (ja
Inventor
Kosuke Ooshio
Osamu Watanabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Tokuda Seisakusho Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokuda Seisakusho Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokuda Seisakusho Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP16091084A priority Critical patent/JPS6140031A/ja
Publication of JPS6140031A publication Critical patent/JPS6140031A/ja
Publication of JPH0256809B2 publication Critical patent/JPH0256809B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は真空処理装置に係り、特に真空容器内
部に配置されかつターンテーブルにより回転する
静電チヤツクを構成する電極への給電手段を改良
した真空処理装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
第2図は従来のリアクテイブイオンエツチング
装置を示したもので、真空容器1の下面を貫通す
る主軸2が回転自在に設けられ、この主軸2の真
空容器1の内部側には、円板状のターンテーブル
3が一体に設けられており、このターンテーブル
3の内部には、被処理を冷却するための冷却水管
4が上記主軸2の外部側端部から主軸2の内部を
通つて導通されている。上記ターンテーブル3の
上面側には、絶縁体5を介して静電チヤツクを構
成する電極6が取付けられ、この電極6の上面側
には上記主軸2と同軸上に固定されるとともに真
空容器1の上面を貫通する給電シヤフト7が設け
られており、かつ、この給電シヤフト7の固定部
分以外には、例えばポリイミド等からなる誘電体
膜8が貼着されている。上記給電シヤフト7の上
端部には、ばね9により付勢された給電ボール1
0が接触しており、この給電ボール10に電圧を
印加する配線11が接続されている。
ここで、上記電極6は、被処理物をターンテー
ブル3に固着するための静電チヤツクを構成する
ものである。
上記装置においては、電極6の上面側に被処理
物Aを載置し、真空容器1に設けられた排気口1
2から真空排気するとともに、ガス導入口13か
らエツチングガスを導入する。そして、給電シヤ
フト7を介して電極6に直流電圧を印加すること
により被処理物Aを静電的に固着して冷却効果を
高めた後、主軸2を回転させながらターンテーブ
ルに図示しないRF電源からの高周波を印加し、
チヤンバー内にプラズマを発生させ被処理物Aの
エチツングを行なうものである。
しかし、上記装置のような給電手段では、主軸
2と給電シヤフト7の回転中心を高い精度で一致
させる必要があり、回転中心が一致していない場
合は、真空容器1との密封部分から漏れが生じた
り、大きな回転トルクが必要となるという欠点を
有している。また、真空容器1内のメインテナン
スを行なうため上面を取はずす場合、給電シヤフ
ト7によりその作業が著しく困難であるという欠
点をも有している。
また、第3図は従来の他のエツチング装置を示
したもので電極6に給電するための給電シヤフト
7を主軸2の内部に設けており、その他の部分は
第2図に示すものと同様である。
上記装置においては回転軸が主軸2のみである
ため、回転中心を一致させる必要がなく、メイン
テナンス作業も容易であるが、主軸2の内部に給
電シヤフト7および冷却水管4が通つているた
め、構造が極めて複雑となり、組立作業が困難と
なるという欠点を有している。
〔発明の目的〕
本発明は上記欠点に鑑みてなされたもので、構
造が簡単で、回転中心を高精度で一致させる必要
のない真空処理装置を提供することを目的とする
ものである。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するため本発明の真空処理装置
は、真空容器の内部に回転自在に設けられたター
ンテーブルの中心軸上に一端部がターンテーブル
の電極に接続されるとともに他端部が上記真空容
器の外部の給電部材に接触される給電シヤフトを
取付け、この給電シヤフトは上記真空容器の上面
側に該シヤフトの上記ターンテーブルに対する偏
心回転を吸収する蛇腹状部材を介して設けられた
軸受により、回転自在に密封支持されていること
をその特徴とするものである。
〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を第1図を参照して説
明し、第2図および第3図と同一部分には同一符
号を付してその説明を省略する。
本実施例においては、ターンテーブル3の上面
中心軸上に給電シヤフト7が取付けられており、
この給電シヤフト7の下端部は誘電体膜8を貫通
して電極6に接続され、上端部は真空容器1の外
部に設けられた給電ボール10に当接するように
なされている。上記給電シヤフト7の周囲はセラ
ミツクあるいはテフロン製の絶縁シヤフト14に
より被覆されており、この絶縁シヤフト14は、
真空容器1の上面側にステンレス等からなる蛇腹
状部材15を介して設けられた軸受16により回
転自在にかつ密封して支持されている。軸受材料
としては、Oリングが簡便でよい。さらに、上記
軸受16の上面側には、円板状を有し一部に外方
に突出する係合爪17が形成された軸受板18が
固着され、この軸受板18はスラスト軸受19に
より支持され、かつ、上記係合爪17に係合する
ストツパ20により回転しないようになされてい
る。その他の部分は第2図に示すものと同様であ
る。
本実施例においては、ターンテーブル3の回転
軸と絶縁シヤフト14の回転軸とが一致せず、絶
縁シヤフト14が偏心して回転した場合でも、蛇
腹状部材15およびスラスト軸受19により、上
記偏心回転を吸収することができるので、絶縁シ
ヤフト14の取付寸法精度を厳密にする必要がな
く、また、軸受16部分における密封を安定した
状態で行なうことができる。このとき、真空容器
1を真空排気した際における蛇腹状部材15の縮
みによる軸受16の下降は、スラスト軸受19に
より防止され、ストツパ20により軸受板18が
絶縁シヤフト14と一体に回転することを防止し
ている。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明に係る真空処理装置
は、ターンテーブルの上面に取付けられる給電シ
ヤフトを、真空容器の上面側に蛇腹状部材を介し
て設けられた軸受により、回転自在に密封支持さ
れており、上記蛇腹状部材により上記軸受が水平
方向に移動できるようにしたので、給電シヤフト
の回転軸とターンテーブルの回転軸とが完全に一
致せず給電シヤフトが偏心回転した場合でも、こ
の偏心回転を上記蛇腹状部材により、吸収するこ
とができ、したがつて、給電シヤフトの回転中心
を高精度に一致させる必要がない。
しかも、ターンテーブルの回転軸と給電シヤフ
トとを別体にしたので、構造が簡単で製作が容易
である等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第
2図および第3図はそれぞれ従来の真空処理装置
を示す縦断面図である。 1……真空容器、2……主軸、3……ターンテ
ーブル、4……冷却水管、5……絶縁物、6……
電極、7……給電シヤフト、8……誘電体膜、9
……ばね、10……給電ボール、11……配線、
12……排気口、13……ガス導入口、14……
絶縁シヤフト、15……蛇腹状部材、16……軸
受、17……係合爪、18……軸受板、19……
スラスト軸受、20……ストツパ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空容器の内部に静電チヤツクを構成する電
    極を有するターンテーブルを該容器の下面を貫通
    する主軸により回転自在に設け、上記ターンテー
    ブル上に固定される被処理物の真空処理を上記タ
    ーンテーブルを回転させながら行なう真空処理装
    置において、上記ターンテーブルの中心軸上に一
    端部が上記電極に接続されているとともに他端部
    が上記真空容器外部の給電部材に接触される給電
    シヤフトを取付け、この給電シヤフトは上記真空
    容器の上面側に該シヤフトの上記ターンテーブル
    に対する偏心回転を吸収する蛇腹状部材を介して
    設けられた軸受により、回転自在に密封支持され
    ていることを特徴とする真空処理装置。
JP16091084A 1984-07-31 1984-07-31 真空処理装置 Granted JPS6140031A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16091084A JPS6140031A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16091084A JPS6140031A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6140031A JPS6140031A (ja) 1986-02-26
JPH0256809B2 true JPH0256809B2 (ja) 1990-12-03

Family

ID=15724965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16091084A Granted JPS6140031A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 真空処理装置

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2792647B2 (ja) * 1987-03-10 1998-09-03 株式会社 アスカル 高真空型輻射線集中加熱装置
JP4768699B2 (ja) * 2006-11-30 2011-09-07 キヤノンアネルバ株式会社 電力導入装置及び成膜方法
JP6802191B2 (ja) * 2015-06-05 2020-12-16 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated サセプタの位置付け及び回転装置、並びに使用の方法

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Publication number Publication date
JPS6140031A (ja) 1986-02-26

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