JPS6140031A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS6140031A JPS6140031A JP16091084A JP16091084A JPS6140031A JP S6140031 A JPS6140031 A JP S6140031A JP 16091084 A JP16091084 A JP 16091084A JP 16091084 A JP16091084 A JP 16091084A JP S6140031 A JPS6140031 A JP S6140031A
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- JP
- Japan
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- shaft
- dispatching
- load
- bearing
- bellows
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は真空処理―置に係り、特に真空容器内部に配置
されかつターンテーブルにより回転する電極への給電手
段を改良した真空処理装置に関する。
されかつターンテーブルにより回転する電極への給電手
段を改良した真空処理装置に関する。
第２！！ｌは従来のりアクティブイオンエツチング装置
を示したもので、真空容器１の下面を貫通する主軸２が
回転自在に設けられ、この主軸２の真空□容ｉｉの内部
ｍには、円板状のターンテーブル３が一体に設けられて
おり、このターンテーブル３の内部には、被処理物を冷
却するための冷却水管４が上記主軸２の外部側端部から
主軸２の内部 □□を通って導通されている。上
記ターンテーブル３の上面側には、絶縁体５を介して電
極６が取付けられ、この電極６の上面□側には上記主軸
２と同軸上に固定されるとともに真空容器１の上面を貫
通する給電・シャフト７が設けられており、かつ、□こ
の給電シャフト７の固定部分以外には、例えばポリイミ
ド等からなる誘電体膜８が貼着されている。
を示したもので、真空容器１の下面を貫通する主軸２が
回転自在に設けられ、この主軸２の真空□容ｉｉの内部
ｍには、円板状のターンテーブル３が一体に設けられて
おり、このターンテーブル３の内部には、被処理物を冷
却するための冷却水管４が上記主軸２の外部側端部から
主軸２の内部 □□を通って導通されている。上
記ターンテーブル３の上面側には、絶縁体５を介して電
極６が取付けられ、この電極６の上面□側には上記主軸
２と同軸上に固定されるとともに真空容器１の上面を貫
通する給電・シャフト７が設けられており、かつ、□こ
の給電シャフト７の固定部分以外には、例えばポリイミ
ド等からなる誘電体膜８が貼着されている。
上記給電シ１シフト７の上端部には、ばね９により付勢
さ□れた給電ボール１０が接触しており、この給電ボー
ル１０に電圧を印加する・配線１１が接続されている。
さ□れた給電ボール１０が接触しており、この給電ボー
ル１０に電圧を印加する・配線１１が接続されている。
ここで、上記電極６は、被処理物をターンテーブル３に
固着するための静電チャックを構成するものである。
固着するための静電チャックを構成するものである。
上記装置においては、電極６の上面側に被処理物へを載
置し、真空容器１に設けられた排気口１２から真空排気
するとともに、ガス導入口１３からエツチングガスを導
入する。そして、給電シャフト７を介して電極６に直流
電圧を印加することに“より被処理物Ａを静”電的に固
着して冷却効果を高めた後Ｊ主軸２を回転させながらタ
ーンテーブルに図示しないＲＦ電源からの高周波を印加
し、チャンバー内にプラズマを発生させ被処理物Ａのエ
ツチングを行なうものである。
置し、真空容器１に設けられた排気口１２から真空排気
するとともに、ガス導入口１３からエツチングガスを導
入する。そして、給電シャフト７を介して電極６に直流
電圧を印加することに“より被処理物Ａを静”電的に固
着して冷却効果を高めた後Ｊ主軸２を回転させながらタ
ーンテーブルに図示しないＲＦ電源からの高周波を印加
し、チャンバー内にプラズマを発生させ被処理物Ａのエ
ツチングを行なうものである。
しかし、上記＠置のような給電手段では、主軸２と給電
シャフト７の回転中心を高い精度で一致させる必要があ
り、回転中心が一致していない場合は、真空容器１との
密封部分から漏れが生じたり、大きな回転トルクが必要
となるという欠点を有している。また、真空容器１内の
メインテナンスを行なうため上面を取はずす場合、給電
シャフト７によりその作業が著しく困難であるという欠
点をも有している。
シャフト７の回転中心を高い精度で一致させる必要があ
り、回転中心が一致していない場合は、真空容器１との
密封部分から漏れが生じたり、大きな回転トルクが必要
となるという欠点を有している。また、真空容器１内の
メインテナンスを行なうため上面を取はずす場合、給電
シャフト７によりその作業が著しく困難であるという欠
点をも有している。
また、第３図は従来の他のエツチング装置を示したもの
で電極６に給電するための給電シャフト７を主軸２の内
部に設けており、その他の部分は第２図に示すものと同
様である。
で電極６に給電するための給電シャフト７を主軸２の内
部に設けており、その他の部分は第２図に示すものと同
様である。
上記装置においては回転軸が主軸２のみであるため、回
転中心を一致させる必要がなく、メインテナンス作業も
容易であるが、主軸２の内部に給電シャフト７おにび冷
却水管４が通っているため、構造が極めて複雑となり、
組立作業が困難となるという欠点を有している。
転中心を一致させる必要がなく、メインテナンス作業も
容易であるが、主軸２の内部に給電シャフト７おにび冷
却水管４が通っているため、構造が極めて複雑となり、
組立作業が困難となるという欠点を有している。
〔発明の目的）
本発明は上記欠点に鑑みてなされたもので、構造が簡単
で、回転中心を高精度で一致させる必要のない真空処理
装置を提供することを目的とするものである。
で、回転中心を高精度で一致させる必要のない真空処理
装置を提供することを目的とするものである。
（発明の概要）
上記目的貴達成するため本発明の真空処理装置は、真空
容器の内部に回転自在に設けられたターンテーブルの中
心軸上に一端部がターンテーブルの電極に接続されると
ともに他端部が上記真空容器の外部の給電部材に接触さ
れる給電シャフトを取付け、この給電シャフトは上記真
空容器の上面側に蛇腹状部材を介して設けられた軸受に
より、回転自在に密封支持されていることをその特徴と
３ｖるものである。
容器の内部に回転自在に設けられたターンテーブルの中
心軸上に一端部がターンテーブルの電極に接続されると
ともに他端部が上記真空容器の外部の給電部材に接触さ
れる給電シャフトを取付け、この給電シャフトは上記真
空容器の上面側に蛇腹状部材を介して設けられた軸受に
より、回転自在に密封支持されていることをその特徴と
３ｖるものである。
以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明し、第
２図および第３図と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。
２図および第３図と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。
本実施例においては、ターンテーブル３の上面中心軸上
に給電シャフト７が取付けられており、この給電シャフ
ト７の下端部は誘電体膜８を貫通して電極６に接続され
、上端部は真空容器１の外部に設けられた給電ボール１
０に当接するようになされている。上記給電シャフト７
の周囲はセフミンクあるいはテフロン製の絶縁シャフト
１４により被覆されており、この絶縁シレフト１４は、
真空容器１の上向側に、ステンレス等からなる蛇腹状部
材１５を介して設けられた軸受１６により回転自在にか
つ密封して支持されている。軸受材料としては、０リン
グが簡便でよい。さらに、上記軸受１６の上面側には、
円板状を有し一部に外方に突出する係合爪１７が形成さ
れた軸受板１８が固着され、この軸受板１８はスラスト
軸受１．９．により支持され、かつ、上記係合爪１７に
係合するストッパ２０により回転しないようになされて
いる。その他の部分は第２図に示すものと同様である。
に給電シャフト７が取付けられており、この給電シャフ
ト７の下端部は誘電体膜８を貫通して電極６に接続され
、上端部は真空容器１の外部に設けられた給電ボール１
０に当接するようになされている。上記給電シャフト７
の周囲はセフミンクあるいはテフロン製の絶縁シャフト
１４により被覆されており、この絶縁シレフト１４は、
真空容器１の上向側に、ステンレス等からなる蛇腹状部
材１５を介して設けられた軸受１６により回転自在にか
つ密封して支持されている。軸受材料としては、０リン
グが簡便でよい。さらに、上記軸受１６の上面側には、
円板状を有し一部に外方に突出する係合爪１７が形成さ
れた軸受板１８が固着され、この軸受板１８はスラスト
軸受１．９．により支持され、かつ、上記係合爪１７に
係合するストッパ２０により回転しないようになされて
いる。その他の部分は第２図に示すものと同様である。
本実施例においては、ターンテーブル３の回転軸と絶縁
シャフト１４の回転軸とが一致せず、絶縁シャフト１４
が偏心して回転した場合でも、蛇腹状部材１５およびス
ラスト軸受１９により、上記偏心回転を吸収することが
できるので、絶縁シャフト１４の取付寸法精度を厳密に
する必要がなく、また、軸受１６部分における密封を安
定した状態で行なうことができる。このとき、真空容器
１を真空排気した際における蛇腹状部材１５の縮みによ
る軸受１６の下降は、スラスト軸受１９により防止され
、ストッパ２０により軸受板１８が絶縁シャフト１４と
一体に回転することを防止している。
シャフト１４の回転軸とが一致せず、絶縁シャフト１４
が偏心して回転した場合でも、蛇腹状部材１５およびス
ラスト軸受１９により、上記偏心回転を吸収することが
できるので、絶縁シャフト１４の取付寸法精度を厳密に
する必要がなく、また、軸受１６部分における密封を安
定した状態で行なうことができる。このとき、真空容器
１を真空排気した際における蛇腹状部材１５の縮みによ
る軸受１６の下降は、スラスト軸受１９により防止され
、ストッパ２０により軸受板１８が絶縁シャフト１４と
一体に回転することを防止している。
以上述べたように本発明に係る真空処理装置は、ターン
テーブルの上面に取付けられる給電シャフトを、真空容
器の上面側に蛇腹状部材を介して設けられた軸受により
、回転自在に密封支持されており、上記蛇腹状部材によ
り上記軸受が水平方向に移動できるようにしたので、給
電シ１１フトの回転軸とターンテーブルの回転軸とが完
全に一致せず給電シャフトが偏心回転した場合でも、こ
の偏心回転を上記蛇腹状部材により、吸収することがで
き、したがって、給電シャフトの回転中心を高精度に一
致させる必要がない。
テーブルの上面に取付けられる給電シャフトを、真空容
器の上面側に蛇腹状部材を介して設けられた軸受により
、回転自在に密封支持されており、上記蛇腹状部材によ
り上記軸受が水平方向に移動できるようにしたので、給
電シ１１フトの回転軸とターンテーブルの回転軸とが完
全に一致せず給電シャフトが偏心回転した場合でも、こ
の偏心回転を上記蛇腹状部材により、吸収することがで
き、したがって、給電シャフトの回転中心を高精度に一
致させる必要がない。
しかも、ターンテーブルの回転軸と給電シャフトとを別
体にしたので、構造が簡単で製作が容易である等の効果
を奏する。
体にしたので、構造が簡単で製作が容易である等の効果
を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第２図およ
び第３図はそれぞれ従来の真空処理装置を示す縦断面図
である。 １・・・真空容器、２・・・主軸、３・・・ターンテー
ブル、４・・・冷却水管、５・・・絶縁物、６・・・電
極、７・・・給電シャフト、８・・・誘電体膜、９・・
・ばね、１０・・・給電ボール、１１・・・配線、１２
・・・排気口、１３・・・ガス導入口、１４・・・絶縁
シャフ′ト、１５・・・蛇腹状部材、１６・・・軸受、
１７・・・係合爪、１８・・・軸受板、１９・・・スラ
スト軸受、２０・・・ストッパ。
び第３図はそれぞれ従来の真空処理装置を示す縦断面図
である。 １・・・真空容器、２・・・主軸、３・・・ターンテー
ブル、４・・・冷却水管、５・・・絶縁物、６・・・電
極、７・・・給電シャフト、８・・・誘電体膜、９・・
・ばね、１０・・・給電ボール、１１・・・配線、１２
・・・排気口、１３・・・ガス導入口、１４・・・絶縁
シャフ′ト、１５・・・蛇腹状部材、１６・・・軸受、
１７・・・係合爪、１８・・・軸受板、１９・・・スラ
スト軸受、２０・・・ストッパ。
Claims (1)
- 真空容器の内部に電極を有するターンテーブルを該容器
の下面を貫通する主軸により回転自在に設け、上記ター
ンテーブル上に固定される被処理物の真空処理を上記タ
ーンテーブルを回転させながら行なう真空処理装置にお
いて、上記ターンテーブルの中心軸上に一端部が上記電
極に接続されているとともに他端部が上記真空容器外部
の給電部材に接触される給電シャフトを取付け、この給
電シャフトは上記真空容器の上面側に蛇腹状部材を介し
て設けられた軸受により、回転自在に密封支持されてい
ることを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16091084A JPS6140031A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16091084A JPS6140031A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6140031A true JPS6140031A (ja) | 1986-02-26 |
| JPH0256809B2 JPH0256809B2 (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=15724965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16091084A Granted JPS6140031A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6140031A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63223487A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-16 | 株式会社 アスカル | 高真空型輻射線集中加熱装置 |
| JP2008156746A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-07-10 | Canon Anelva Corp | 電力導入装置及び成膜方法 |
| JP2018518056A (ja) * | 2015-06-05 | 2018-07-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | サセプタの位置付け及び回転装置、並びに使用の方法 |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16091084A patent/JPS6140031A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63223487A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-16 | 株式会社 アスカル | 高真空型輻射線集中加熱装置 |
| JP2008156746A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-07-10 | Canon Anelva Corp | 電力導入装置及び成膜方法 |
| JP2018518056A (ja) * | 2015-06-05 | 2018-07-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | サセプタの位置付け及び回転装置、並びに使用の方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256809B2 (ja) | 1990-12-03 |
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