JPH0257344B2 - - Google Patents
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- JPH0257344B2 JPH0257344B2 JP28469586A JP28469586A JPH0257344B2 JP H0257344 B2 JPH0257344 B2 JP H0257344B2 JP 28469586 A JP28469586 A JP 28469586A JP 28469586 A JP28469586 A JP 28469586A JP H0257344 B2 JPH0257344 B2 JP H0257344B2
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、紫外線硬化型テープを利用した半導
体ウエハマウンタ装置の製造方法において、フレ
ームに接着させた上記テープを閉ループ状にカツ
テイングしながら、剥離予定部分に紫外線を照射
し、残テープの剥離を容易としたものである。Detailed Description of the Invention [Summary] The present invention provides a method for manufacturing a semiconductor wafer mounting device using an ultraviolet curable tape, in which the tape adhered to a frame is cut in a closed loop while applying ultraviolet rays to a portion to be peeled. This makes it easier to remove the remaining tape.
本発明は半導体ウエハマウンタ装置の製造方法
に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor wafer mounter.
半導体装置は、半導体ウエハをスクライブして
複数のチツプに分割し、各チツプをピツクアツプ
し、パツケージに組み込み、ワイヤボンデイング
し、樹脂により封止することにより製造される。
Semiconductor devices are manufactured by scribing a semiconductor wafer, dividing it into a plurality of chips, picking up each chip, assembling it into a package, wire bonding it, and sealing it with resin.
半導体ウエハは、半導体ウエハマウンタ装置に
マウントされた状態でスクライブされる。 A semiconductor wafer is scribed while being mounted on a semiconductor wafer mounter.
半導体ウエハマウンタ装置の一つとして、チツ
プをピツクアツプし易くするために、第4図及び
第5図に示すように、フレーム1に円形の紫外線
硬化型テープ(ポリプロピレン等のベース2a上
に紫外線を照射されると硬化する接着剤層2bを
有する構造であり、以下UVテープという)2を
張架してなる構成のものがある。 As one of the semiconductor wafer mounting devices, in order to make it easier to pick up chips, as shown in FIGS. It has a structure that has an adhesive layer 2b that hardens when exposed to UV tape (hereinafter referred to as UV tape).
半導体ウエハ3は、UVテープ2の接着剤層2
bに接着され、この状態で、第6図及び第7図に
示すようにフルカツトでスクライブされ、多数の
チツプ4に分割される。5は切込みであり、UV
テープ2まで到つている。スクライブ後、UVテ
ープ2のベース2a側に紫外線を照射し、チツプ
4を剥離し易い状態とされる。 The semiconductor wafer 3 is attached to the adhesive layer 2 of the UV tape 2.
b, and in this state is scribed with a full cut as shown in FIGS. 6 and 7, and is divided into a large number of chips 4. 5 is the depth of cut, UV
We've reached tape 2. After scribing, the base 2a side of the UV tape 2 is irradiated with ultraviolet rays to make it easy to peel off the chips 4.
上記の半導体ウエハマウンタ装置は、フレーム
1に帯状のUVテープを接着し、UVテープをフ
レーム1上で円形にカツトし(6がこのときの切
り込み線である)、切り込み線6より外側の残テ
ープ(無効部分)をフレーム1より剥離させて製
造される。 The above semiconductor wafer mounting device adheres a band-shaped UV tape to the frame 1, cuts the UV tape in a circular shape on the frame 1 (6 is the cut line at this time), and leaves the remaining tape outside the cut line 6. It is manufactured by peeling off the (ineffective part) from the frame 1.
ここで、上記スクライブのときに分割されたチ
ツプが飛び散らないようにするために、高粘着力
のUVテープが必要とされてきている。UVテー
プの粘着力が増すとそれだけ、上記残テープを剥
離させにくくなり、フレームをテーブル上にクラ
ンプさせる機構等も必要となつてくる。この機構
を設けると、現在の半導体ウエハマウンタ装置を
製造する装置を大幅に改造することとなり、好ま
しくない、しかも依然として剥離のしにくさの問
題点は解決されていないことになる。
Here, in order to prevent the divided chips from scattering during the above-mentioned scribing, a UV tape with high adhesive strength is required. As the adhesive strength of the UV tape increases, it becomes more difficult to peel off the remaining tape, and a mechanism for clamping the frame on the table becomes necessary. Providing this mechanism would require significant modification of the current equipment for manufacturing semiconductor wafer mounters, which is undesirable and still leaves the problem of difficulty in peeling unresolved.
本発明は、フレームに実質上円形の紫外線硬化
型テープを張架してなり、該テープ上にスクライ
ブされる半導体ウエハがマウントされる半導体ウ
エハマウンタ装置を製造する方法において、
上記フレームに接着されて張架された帯状の紫
外線硬化型テープを該フレームの上面に沿つてカ
ツテイングして閉ループ状切込み線を形成すると
共に、カツテイングしつつ上記切込み線の外側の
剥離予定部分に紫外線を照射するようにしたもの
である。
The present invention provides a method for manufacturing a semiconductor wafer mounter in which a substantially circular ultraviolet curable tape is stretched over a frame, and a semiconductor wafer to be scribed is mounted on the tape. The stretched belt-shaped ultraviolet curable tape was cut along the upper surface of the frame to form a closed loop cut line, and while cutting, the part to be peeled outside the cut line was irradiated with ultraviolet rays. It is something.
紫外線を照射することにより、剥離予定部分が
剥離し易くなり、半導体ウエハマウンタ装置の製
造が容易となると共に、その分高粘着力を有する
紫外線硬化型テープを使用することが可能とな
る。また紫外線の照射をカツテイングと並行して
行なうため、紫外線照射工程を別途設ける必要が
なく、工程の追加は不要である。
By irradiating ultraviolet rays, the portion to be peeled off becomes easier to peel off, making it easier to manufacture a semiconductor wafer mounter, and making it possible to use an ultraviolet curable tape that has a correspondingly high adhesive strength. Furthermore, since the ultraviolet irradiation is carried out in parallel with the cutting, there is no need to provide a separate ultraviolet irradiation process, and no additional process is required.
第1図及び第2図は夫々本発明の半導体ウエハ
マウンタ装置の製造方法の一実施例を適用してな
る製造装置の立面図及び概略平面図である。
1 and 2 are an elevational view and a schematic plan view, respectively, of a manufacturing apparatus to which an embodiment of the method for manufacturing a semiconductor wafer mounter according to the present invention is applied.
10はアームであり、一端側に円形のカツタ1
1が軸12に軸承されて設けてあり、他端側には
ゴムローラ13が軸14に軸承されて、及び本発
明の要部をなす紫外線照射機15が下向きでホル
ダ17に固定されて設けてある。 10 is an arm with a circular cutter 1 on one end.
A rubber roller 13 is supported on a shaft 14 at the other end, and an ultraviolet irradiation device 15, which is a main part of the present invention, is fixed to a holder 17 facing downward. be.
アーム10は、線17(第2図中点18)を中
心に回動可能である。この回動中心よりカツタ1
1までの距離L1、ゴムローラ13までの距離L2、
紫外線照射機15までの距離L3は、略等しい状
態で、L2<L1<L3の関係となるように定めてあ
る。 The arm 10 is rotatable about a line 17 (midpoint 18 in FIG. 2). Katsuta 1 from this center of rotation
1, distance L 1 to rubber roller 13, distance L 2 to rubber roller 13,
The distance L 3 to the ultraviolet irradiation device 15 is determined to be approximately equal, and the relationship L 2 <L 1 <L 3 holds.
19は紫外線光源であり、回転台20に固定し
てある。この光源19と上記照射機15とは光フ
アイバ21で連結してある。 Reference numeral 19 denotes an ultraviolet light source, which is fixed to the rotating table 20. This light source 19 and the irradiator 15 are connected through an optical fiber 21.
回転台20はモータ22により回動され、上記
アーム10は回転台20と一体的に回転する。 The rotary table 20 is rotated by a motor 22, and the arm 10 rotates integrally with the rotary table 20.
上記のアーム10及び回転台20等は矢印Z1,
Z2方向に昇降可能であり、通常は上昇位置にあ
る。 The above-mentioned arm 10, rotary table 20, etc. are indicated by arrow Z 1 ,
Z It can be raised and lowered in two directions, and is normally in the raised position.
紫外線硬化型テープ23はロール24より引き
出され、途中で剥離紙25がロール26に巻き取
られて、接着剤層23bが露出し、ローラ27に
より案内されて、接着剤層23bが下面、ベース
23aが上面となる向きとされる。 The ultraviolet curable tape 23 is pulled out from the roll 24, and the release paper 25 is wound around the roll 26 midway through, exposing the adhesive layer 23b. is oriented so that the top side is the top surface.
この状態で、UVテープ23が略環状のフレー
ム28の面28aに仮接着されて張架され、フレ
ーム28がテーブル29上の所定位置に載置され
る。 In this state, the UV tape 23 is temporarily adhered to the surface 28a of the substantially annular frame 28 and stretched, and the frame 28 is placed at a predetermined position on the table 29.
続いて、アーム10等が矢印Z1方向に下降し、
カツタ11及びゴムローラ13がフレーム面28
a上のUVテープ23のベース23aに当接す
る。モータ22が始動し、アーム10が矢印A方
向に360度以上回動する。また、光源19が点燈
し、紫外線が光フアイバ21内を通つて照射機1
5より符号30で示すように出射して、UVテー
プ23を紫外線スポツト31の形で照射する。 Subsequently, the arm 10 etc. descends in the direction of arrow Z1 ,
The cutter 11 and rubber roller 13 are connected to the frame surface 28
It comes into contact with the base 23a of the UV tape 23 on top a. The motor 22 starts and the arm 10 rotates more than 360 degrees in the direction of arrow A. Also, the light source 19 turns on, and the ultraviolet rays pass through the optical fiber 21 to the irradiator 1.
The UV tape 23 is irradiated with ultraviolet light in the form of an ultraviolet spot 31.
アーム10の上記回動により、第1にはゴムロ
ーラ13がUVテープ23をフレーム面28aに
押圧しつつ転動し第2図中円を描き、UVテープ
23のうちゴムローラ13が転動した個所が更に
強固に接着される。 Due to the rotation of the arm 10, the rubber roller 13 first rolls while pressing the UV tape 23 against the frame surface 28a, drawing a circle in FIG. It is bonded even more firmly.
第2には、カツタ11がUVテープ23をカツ
テイングしつつフレーム面28a上を転動し、第
2図中符号32で示す閉ループである円形の軌跡
を描く。これにより、フレーム面28a上におい
て、UVテープ23は、ゴムローラ13により強
固に接着された外側の個所をカツテイングされ、
上記軌跡32と一致した切込み線33が形成され
る。 Second, the cutter 11 rolls on the frame surface 28a while cutting the UV tape 23, and draws a circular trajectory, which is a closed loop, as shown by the reference numeral 32 in FIG. Thereby, on the frame surface 28a, the UV tape 23 is cut at the outer part where it is firmly adhered by the rubber roller 13.
A score line 33 that coincides with the locus 32 is formed.
第3には、紫外線スポツト31が切込み線33
の外側の部分34を円形に走査する。この部分3
4は剥離予定部分であり、第2図中ハツチングを
付して示す。紫外線スポツト31の走査により、
剥離予定部分34が紫外線を照射されて、この部
分34の接着剤層が硬化し、フレーム28に対す
る接着力が低下し、剥離予定部分34は剥離し易
くなる。 Thirdly, the ultraviolet spot 31 is located at the cut line 33.
The outer portion 34 of is scanned in a circular manner. this part 3
Reference numeral 4 indicates a portion to be peeled off, which is indicated by hatching in FIG. By scanning the ultraviolet spot 31,
The portion to be peeled 34 is irradiated with ultraviolet rays, the adhesive layer of this portion 34 is hardened, the adhesive force to the frame 28 is reduced, and the portion to be peeled is easily peeled off.
即ち、アーム10の上記回動により、切込み線
33の形成と、切込み線33の内周側の接着の強
化と、切込み線33の外側の剥離予定部分34の
接着力の低減とが同時に行なわれ、夫々の動作を
別工程で行なう場合に比べて半導体ウエハマウン
タ装置は効率良く製造される。 That is, the above-mentioned rotation of the arm 10 simultaneously forms the score line 33, strengthens the adhesion on the inner peripheral side of the score line 33, and reduces the adhesive force of the portion 34 scheduled to be peeled outside the score line 33. The semiconductor wafer mounting device can be manufactured more efficiently than in the case where each operation is performed in separate steps.
なお、カツタ11及びゴムローラ13の第1図
中矢印Z1方向への力は、アーム10を同方向へ付
勢するシリンダ装置35,36により適宜定めら
れ、切込み及び接着は良好に行なわれる。 Incidentally, the force of the cutter 11 and the rubber roller 13 in the direction of arrow Z1 in FIG. 1 is appropriately determined by the cylinder devices 35 and 36 that urge the arm 10 in the same direction, so that cutting and adhesion are performed satisfactorily.
この後、ロール36により残テープ37を巻き
取ると、後述する円形UVテープ40を残して上
記の剥離予定部分34が簡単に剥離し、残テープ
37が巻き取られると共に、第3図に示す半導体
ウエハマウンタ装置39が得られる。残テープ3
8は開口口を有するため切れ易く、ロール35に
よる巻き取りときに、残テープ38を強く引張り
すぎると切れてしまうが、上記の場合にはフレー
ム28により剥離し易いため、残テープ38には
切断する程の引張り力は作用せず、残テープ38
は切断しない。 After that, when the remaining tape 37 is wound up by the roll 36, the above-mentioned portion 34 to be peeled off is easily peeled off, leaving behind a circular UV tape 40, which will be described later. A wafer mounting device 39 is obtained. remaining tape 3
Since the tape 8 has an opening, it is easily cut, and if the remaining tape 38 is pulled too strongly when being wound up by the roll 35, it will break. No tensile force was applied to the extent that the remaining tape 38
is not cut.
半導体ウエハマウンタ装置39は、フレーム2
8に円形のテープ40が張架された構成である。
円形UVテープ40は、ハツチングを付して示す
外周部分を全周に亘つて一様に且つ強固に接着さ
れて、強固に張架してある。41はこの強固接着
部分である。 The semiconductor wafer mounting device 39 has a frame 2
8 has a circular tape 40 stretched over it.
The circular UV tape 40 is firmly stretched by uniformly and firmly adhering the outer peripheral portion indicated by hatching over the entire circumference. 41 is this strongly adhesive part.
この半導体ウエハマウンタ装置39は、第4図
乃至第7図に示すと同様に使用される。 This semiconductor wafer mounter 39 is used in the same manner as shown in FIGS. 4 to 7.
本発明によれば、フレームに接着された帯状の
紫外線硬化型テープに形成された閉ループ状切込
み線の外側の剥離予定部分に紫外線を照射するよ
うにしているため、剥離予定部分が接着力が低下
して剥離し易い状態となり、残テープを強く引つ
張ることなくフレームより剥離させることが出
来、然して半導体ウエハマウンタ装置を容易に製
造することができると共に高粘着力を有する紫外
線硬化型テープを使用して半導体ウエハマウンタ
装置を製造することが出来、しかも、紫外線照射
は切込み線の形成と同時に行なわれるため、紫外
線照射工程を別途設けることなく、然して工程を
増やさずに製造出来る。
According to the present invention, since ultraviolet rays are irradiated to the area scheduled for peeling outside the closed loop cut line formed on the band-shaped ultraviolet curable tape adhered to the frame, the adhesive strength of the area scheduled for peeling is reduced. The remaining tape can be peeled off from the frame without being pulled too hard, making it easy to manufacture semiconductor wafer mounting equipment, and using ultraviolet curing tape with high adhesive strength. Furthermore, since the ultraviolet irradiation is performed simultaneously with the formation of the score line, the semiconductor wafer mounting device can be manufactured without providing a separate ultraviolet irradiation step or increasing the number of steps.
第1図は本発明の一実施例になる半導体ウエハ
マウンタ装置の製造方法を適用してなる製造装置
の立面図、第2図は第1図中主要部の平面図、第
3図は本発明の製造方法により製造された半導体
ウエハマウンタ装置の1例を示す図、第4図は半
導体ウエハが接着された一般の半導体ウエハマウ
ンタ装置の平面図、第5図は第4図中―線に
沿う断面図、第6図は第4図の半導体ウエハがス
クライブされた状態を示す図、第7図は第6図中
―線に沿う断面図である。
図において、10はアーム、11はカツタ、1
3はゴムローラ、15は紫外線照射機、19は紫
外線光源、20は回転台、21は光フアイバ、2
2はモータ、23はUVテープ、30は紫外線、
31は紫外線スポツト、33は切込み線、34は
剥離予定部分、38は残テープ、40は円形UV
テープ、41は強固接着部分である。
FIG. 1 is an elevational view of a manufacturing device to which a method for manufacturing a semiconductor wafer mounter device according to an embodiment of the present invention is applied, FIG. 2 is a plan view of the main parts in FIG. 1, and FIG. A diagram showing an example of a semiconductor wafer mounter manufactured by the manufacturing method of the invention, FIG. 4 is a plan view of a general semiconductor wafer mounter to which a semiconductor wafer is bonded, and FIG. 6 is a view showing the semiconductor wafer of FIG. 4 in a scribed state, and FIG. 7 is a sectional view taken along the line ``--'' in FIG. 6. In the figure, 10 is an arm, 11 is a cutter, 1
3 is a rubber roller, 15 is an ultraviolet irradiator, 19 is an ultraviolet light source, 20 is a rotary table, 21 is an optical fiber, 2
2 is the motor, 23 is the UV tape, 30 is the ultraviolet light,
31 is the UV spot, 33 is the cut line, 34 is the part to be peeled, 38 is the remaining tape, 40 is the circular UV
The tape 41 is a strongly adhesive part.
Claims (1)
型テープ2,40を張架してなり、該テープ上に
スクライブされる半導体ウエハ3がマウントされ
る半導体ウエハマウンタ装置39を製造する方法
において、 上記フレーム28に接着されて張架された帯状
の紫外線硬化型テープ23を該フレームの上面に
沿つてカツテイングして閉ループ状切込み線33
を形成すると共に、カツテイングしつつ上記切込
み線33の外側の剥離予定部分34に紫外線3
0,31を照射するようにしたこと特徴とする半
導体ウエハマウンタ装置の製造方法。[Scope of Claims] 1. A semiconductor wafer mounter 39 comprising a frame 1, 28 and a substantially circular ultraviolet curable tape 2, 40 stretched thereon, on which a semiconductor wafer 3 to be scribed is mounted. In the manufacturing method, the strip-shaped ultraviolet curable tape 23 that is glued and stretched over the frame 28 is cut along the upper surface of the frame to form a closed loop cut line 33.
At the same time, ultraviolet rays 3 are applied to the part to be peeled outside the cut line 33 while cutting.
1. A method for manufacturing a semiconductor wafer mounter, characterized in that irradiation is performed at 0.0,31.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61284695A JPS63137449A (en) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | Manufacture of semiconductor wafer mounter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61284695A JPS63137449A (en) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | Manufacture of semiconductor wafer mounter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63137449A JPS63137449A (en) | 1988-06-09 |
| JPH0257344B2 true JPH0257344B2 (en) | 1990-12-04 |
Family
ID=17681777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61284695A Granted JPS63137449A (en) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | Manufacture of semiconductor wafer mounter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63137449A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020026079A (en) * | 2000-09-30 | 2002-04-06 | 추후제출 | Film attaching apparatus |
| KR100365474B1 (en) * | 2001-01-13 | 2002-12-26 | 주식회사 다이나테크 | Bonding film cutting device in wafer mounter |
| JP4740297B2 (en) | 2008-09-04 | 2011-08-03 | リンテック株式会社 | MOUNTING DEVICE AND MOUNTING METHOD |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP61284695A patent/JPS63137449A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63137449A (en) | 1988-06-09 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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