JPH0257929B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、曲面の曲率半径を測定する装置に関
しさらに詳しくは人眼の角膜の曲率半径を測定す
るオフサルモメータやコンタクトレンズの曲率半
径を測定するラジアスメータに応用できる曲率測
定装置に関する。

本明細書においては本発明の原理及び実施例を
主にオフサルモメータについて説明するが本発明
はこれに限定されるものでなく、広く光反射性を
有する球面またはトーリツク曲面体の曲面の主径
線の曲率半径（以下、単に「曲率半径」というこ
とがある）を測定する装置にも本発明は適用でき
るものである。

人眼角膜自体の屈折力は、眼全体の総屈折力の
略80％約45Dの屈折力をもち、また乱視眼におい
ては約75％が角膜乱視すなわち角膜前面が球面で
なくトーリツク曲面状をしていることに起因して
いる。また、コンタクトレンズ処方に際しては、
そのベースカーブは、コンタクトレンズを装用さ
せる眼の角膜前面の主径線曲率半径をもとに処方
する必要がある。これら観点から角膜前面の曲率
半径を測定することは重要な意義がある。この要
求から、人眼角膜前面の曲率半径を測定する装置
として、種々の型式のオフサルモメータが実用化
されている。いずれの型式のオフサルモメータ
も、被検角膜上に１つ、もしくは複数の視標を投
影し、その投影像の大きさ、あるいはその反射
像、位置を、観察望遠鏡の焦点面で観察し、投影
像の大きさの変化量あるいは視標反射像の相対的
位置ズレ量から被検角膜の曲率半径及び角膜乱視
軸を測定するものであつた。

オフサルモメータにおいては、特に角膜がトー
リツク曲面状の乱視眼角膜の測定に際しては、そ
の第１（強主径線）及び第２主径線（弱主径線）
の曲率半径及び少なくとも一方の主径線方向の軸
角度の３つの被測定量を測定することが必要であ
り上述の従来のオフサルモメータはこれら３つの
測定値をもとめるのに３段階の測定を必要として
いた。しかしながら、人眼には生理的な眼球振動
がつねにともなつており、測定時間の長時間化は
眼球振動にともなう投影像の振動となり、それゆ
えに測定誤差や、測定中の頻繁なアライメント調
整操作を必要とするという大きな問題点があつ
た。

この従来の装置の欠点を解決する装置として、
例えば特開昭56−18837号公報、特開昭56−66235
公報、あるいは米国特許4159867号明細書には、
投影像の角膜からの反射像を、１次元型あるいは
２次元型のポジシヨンセンサで検出して、その検
出位置から被検眼角膜の曲率半径及び主径線角度
を測定する装置が開示されている。

しかしながら、これら装置も、従来の実用され
ているオフサルモメータと同様に、投影視標の角
膜からの反射像を望遠鏡で結像する型式であり、
測定精度を上げるには望遠鏡の焦点距離を大きく
せねばならず、いきおい装置が大型化するという
欠点があつた。また結像型式であるためその合焦
機構を必要としていた。また、装置と被検角膜と
のアライメントもこの合焦望遠鏡のレチクル板上
の十字線を使つて被検眼像を目測で視準するた
め、アライメント調整は不正確であり、かつ測定
時間の短縮化のさまたげとなり、安全な自動測定
にはつながらなかつた。

非結像光学系を利用して、光学系の屈折特性、
主に眼鏡レンズの球面屈折力が円柱屈折力及びそ
の軸角度並びにプリズム屈折力を測定する測置
が、米国特許4275964号明細書に開示されている。
この装置は、被検眼鏡レンズに平行光束を入射さ
せ、被検レンズの屈折特性により偏向された光束
を円形開口を有するマスク手段で選択し、その選
択光束を被検レンズの焦点距離より短かい距離に
配置された平面型ポジシヨンセンサか放射状に配
列した複数本のリニアポジシヨンセンサあるいは
回転するリニアポジシヨンセンサで検出し、この
検出器の検出点から前記円形開口に対応した円形
または楕円投影パターンの形状を算定し、その形
状から被検レンズの屈折特性をもとめる構成であ
る。しかしながら、この米国特許は、屈折光学系
における屈折特性測定を開示するのみであり、反
射光学系の曲面特性、特にその反射曲面の曲率半
径の測定等については何ら開示も示唆もしていな
い。さらに検出器として、平面型センサや回転リ
ニアセンサを利用するため、検出器が高価とな
り、また回転リニアセンサにおいてはその回転精
度、特に軸精度が直接測定精度に影響するため、
その組立、調整、保守管理が難しいという欠点が
あつた。

そこで、本発明は、上述の従来のオフサルモメ
ータの欠点を解決し、非結像型光学系を利用して
自動測定が可能なオフサルモメータやラジアスメ
ータ等に応用できる曲率測定装置を提供せんとす
るものである。

本発明のもう一つの目的は、非結像型光学系を
使用することにより、従来の装置に比較して、小
型で、かつ結像望遠鏡等の検者が視察および操作
する必要のある光学部材を有しない、自動的に曲
率半径を測定出来る曲率測定装置を提供すること
である。

本発明の更にもう一つの目的は、さらに従来の
装置が視準により行なつていた被検曲面と装置光
軸とのアライメントのための情報を自動的に出力
できる操作性にすぐれそして測定時間を短縮でき
る自動化された曲率半径測定装置を提供すること
である。

本発明の更にもう一つの目的は、比較的安価に
人手可能な検出器を利用でき、しかも回転等の可
動機構を必要とせず、組立、調整、保守管理の容
易な自動化された曲率測定装置を提供することで
ある。

すなわち、以上の目的を達成するために、本発
明によるならば、ある面内に予め定められた半径
をもつ円形を成す光源と、光軸上に配置されたピ
ンホールを通して該光源を射出した照明光束の主
光線を該光源と平行にする結像レンズとを有する
照明光学系と、前記照明光の前記被検曲面からの
反射光を前記光源と光学的に非共役な面内で検出
する検出手段と該検出手段が検出した前記光源に
対応する投影パターンの形状から前記被検曲面の
曲率半径を演算する演算手段とから構成されてな
る曲率測定装置が提供される。

本発明の好ましい態様においては、円形を成す
光源は、それと実質的又は仮想的に交差する少く
とも１本の直線をなす光源を更に有し、円形をな
す光検出手段は、それと実質的又は仮想的に交差
する少くとも１本の直線をなす光検出器を有し、
またマスク手段は円形を成すパターンと実質的も
しくは仮想的に交差する直線を成すパターンを更
に有している。

本発明において、以上の構成上の特徴により、
従来の曲率半径測定装置に比較して、装置が小型
となり、測定時間が短く、測定精度が高く自動的
に被検曲面の曲率半径を測定できる。さらに、ア
ライメント情報を自動的に出力できるので、さら
に測定精度を高くすることができる。

これら本発明の長所は、特にオフサルモメータ
に本発明を応用した場合、眼球振動の影響を受け
ない測定精度が高く、測定時間の短かい、小型で
構成の簡単な自動測定が可能なオフサルモメータ
を提供することができる。

また、本発明をコンタクトレンズの裏面のベー
スカーブを測定するラジアスメータに応用すれ
ば、ターゲツト像をコンタクトレンズの裏面と、
その曲率中心に２度合焦してそのときの対物レン
ズの移動量からベースカーブの曲率中心を測定し
ていた従来のラジアスメータに比較して、従来の
ラジアスメータをもつていたターゲツト像観察及
びそれによる測定用の顕微鏡光学系を一切必要と
せず、ゆえに測定精度を直接左右する視度調節を
一切必要としないばかりか、測定者間のパーソナ
ルエラーも発生しない、自動測定が出来る高精度
なラジアスメータを提供することができる。

以下本発明を角膜の曲率半径を測定するオフサ
ルモメータに適用した測定原理及び実施例を図面
を参照して説明する。

第１図は、本発明の第１の測定原理を説明する
ための斜視図であり、第２図は平面図である。

これらの図において装置光軸O₁に原点を有す
るX₀−Y₀直交座標系を考える。このX₀−Y₀座標
系を含む面にその項目を接するように角膜Ｃが配
置されているものとする。この角膜Ｃはその光学
中心O_CをX₀軸方向にE_H、Y₀軸方向にE_Vずらして
配置されており、かつ、曲率半径r₁の第１主径線
がX₀軸と角度θだけ減傾けて配置されているも
のとする。またその第２主径線の曲率半径をr₂と
する。今このX₀−Y₀座標面から装置光軸O₁にそ
つて距離ｌ離れた位置に、その装置光軸O₁上に
原点ＯをもつＸ−Ｙ直交座標系を想定し、このＸ
−Ｙ座標面に検出面Ｄを配置したとする。

今、予め定められた半径Ｒの円形光源からの光
束F_Xが、装置光軸O₁とその主径線が平行になる
ように、X₀−Y₀座標面上に結像されているもの
とする。この照明光束の角膜Ｃでの反射光は、角
膜Ｃの曲面特性、すなわちその角膜前面の形状の
３要素である第１主径線の曲率半径r₁、第２主径
線の曲率半径r₂及び第１主径線の方向θ、さらに
光学中心D_Cの装置光軸O₁に対する偏位量E_H、E_V
の影響により偏向され、検出面Ｄ上に楕円パター
ンFX′を投影形成する。

円形光源と検出面Ｄ上の楕円パターンFX′との
関係は、円形光源からの光束FXの主径線が作る
円形照明光束が x²＋y²＝R²≡定数 の条件のもとに 〔a²(l)sin²θ＋b²(l)cos²θ〕（x′−α）² ＋〔a²(l)cos²θ＋b²(l)sin²θ〕（y′−β）² −〔a²(l)−b²(l)sin²θ＋ａ(l)ｂ(l)・R²＝０……(1
) の方程式が成り立つ。ここで ａ(l)≡１＋2l／r₁ ｂ(l)≡１＋2l／r₂ である。今、この方程式の２根を λ₁＝ｌ／r₁ λ₂＝ｌ／r₂ ……(2) とする。またこの方程式中のα、βは、それぞれ
角膜Ｃの頂点O_C（光学中心でもある）のX₀−Y₀
座標系の原点O₀からの偏位量E_H、E_Vに起因し、
測定に際して装置をアライメントしなければなら
ないアライメント量であり、水平方向アライメン
ト量をα、垂直方向アライメント量をβと定義し
てある。

今、第２図に示すように、検出面Ｄを角膜Ｃか
ら距離l′の位置におき、これを検出面D′とし、こ
のときの楕円パターンについても上記(1)式が成り
立つので、その２根を λ₁′＝l′／r₁，λ₂′＝l′／r₂ ……（2′） とすると、(2)、（2′）式より r₁＝λ₁−λ₁′／ｌ−l′，r₂＝λ₂−λ₂′／ｌ−l′
……(3) としてもとめられる。

(3)式から、本測定原理においては、両検出面位
置Ｄ，D′の間の距離（ｌ−l′）を予め定めておけ
ば、測定結果が、角膜Ｃと検出面との間の距離ｌ
には無関係であるといえる。このことにより、第
２図に示すように装置の基準面Ｐ（通常装置の最
前面かもしくは光学系の最前のレンズ面）と角膜
との間の距離、すなわち作動距離εに測定結果が
影響されず、従つて、従来のオフサルモメータの
ように作動距離調整をしなくてもよい。

このように（ｌ−l′）を予め定数としておける
から、結局、(1)〜(3)式の未知数r₁、r₂、θ、α、
βは、楕円パターンFX′上の最低５点の座標
（x′、y′）を知り、それぞれについて(1)式を適用
し、この５つの連立方程式を解法すればもとめる
ことができる。

ゆえに第１図に示すように検出面Ｄ（および
D′）で楕円パターンFX′上の５点（x₁′、y₁′）、
（x₂′、y₂′）、（x₃′、y₃′）、（x₄′、y₄′）、（
x₅′、y₅′）
をもとめればよいことになる。

もし、５つの座標を知るために検出器として平
面型のポジシヨンセンサや光軸O₁を中心にリニ
アポジシヨンセンサを回転させる等の検出器のコ
ストアツプが精度保証上の問題があるならば、以
下のような構成をとればよい。すなわち、第３図
に示すように、円形光源に加えて、円形光源と交
差する一本の直線光源をもちいると、直線光源か
らの平面光束が角膜Ｃで反射され検出面Ｄに投影
されても、その傾きは変化しても直線性自身はく
ずれないので、この傾きの変化を知ることにより
逆に被検角膜Ｃの曲面特性の情報を得ることがで
きる。

今第３図に示すように直線光源のx₀軸との傾き
角をａ、直線光源に対応する検出面Ｄ上の投影直
線パターンLA′のＸ軸との傾きをa′とすれば、以
下の方程式が成り立つ。

〔Ａ(l)ａ−Ｂ(l)a′〕tan²θ ＋〔Ａ(l)−Ｂ(l)〕（１−ａ・a′）tanθ ＋〔Ａ(l)a′−Ｂ(l)ａ〕＝０ ……(4) ここに Ａ(l)＝１＋2l／r₁ Ｂ(l)＝１＋2l／r₂ である。

これにより、Ｘ−Ｙ座標系のＸ軸上に配したリ
ニアポジシヨンセンサl_XとＹ軸上に配置されたリ
ニアポジシヨンセンサl_Yとにより、投影楕円パタ
ーン上の４点Ｕ（O₁、y₁）、Ｖ（x₁、Ｏ）、Ｗ（Ｏ、
y₂）、Ｑ（x₂、Ｏ）を求め、また投影直線パターン
上の２点Ｉ（x₃、Ｏ）、Ｊ（Ｏ、y₃）をもとめれば、
角膜Ｃの曲面特性をもとめることができる。

またリニアセンサl_X、l_Yの配置としては第４ａ
図に示すように検出面上で斜交させてもよい。こ
の場合、周知の座標変換式 ｘ＝x′sinα＋y′sinβ＋ζ ｙ＝y′cosβ＋x′sinα＋η ……(5) を使えばよい。また第４ｂ図に示すように、２本
の平行なリニアセンサ1l_y、2l_yを使用してもよい。
このとき投影楕円パターンFX′は検出点y₁₁、y₁₃、
y₂₁、y₂₃から、投影直線パターンLA′は検出点
y₁₂、y₂₂がそれぞれ決定できる。

第５図は、本発明の第２の測定原理を示す斜視
図であり、第６図はその平面図である。角膜Ｃに
は半径φ／２の平行光束が光軸O₁と平行に照射
されており、この照射光束の角膜による反射光束
は、角膜から距離ｌのところに配置されたマスク
MAに形成された開口パターンで選択透過され、
マスクMAから距離ｄ離れた検出面Ｄに投影され
る。そこでマスクMAの開口パターンは前記第１
の測定原理と同様に半径Ｒの円形開口SAとこれ
に交差する直線開口LAとからなつている。検出
面Ｄ上に出来る楕円投影パターンSA′について
は、前記(1)式と同様の 〔A²(l)sin²θ＋B²(l)cos²θ〕（x′−α）² ＋〔A²(l)cos²θ＋B²(l)sin²θ〕（y′−β）² −〔A²(l)−B²(l)〕sin²θ＋Ａ(l)Ｂ(l)・R²＝０
……(1)′ が成り立つ。ここでＡ(l)、Ｂ(l)は Ａ(l)＝１＋２（ｌ＋ｄ）／r₁／１＋2l／r₁ Ｂ(l)＝１＋２（ｌ＋ｄ）／r₂／１＋2l／r₂ である。

本測定原理においては、平行光束の角膜での反
射光をマスクMAの開口で選択し、この選択され
た光束を検出面Ｄで検出しているので、マスク
MAと角膜Ｃとの間の距離ｌ、すなわち作動距離
は、あらかじめ公知の作動距離検知装置で予め定
めた定数となるように装置を設定する必要があ
る。好ましくはｌ＝０となるように設定するのが
よい。

また実際の投影パターンの検出は前記第３図の
ようにＸ軸、Ｙ軸上に配置したリニアセンサで検
出すればよいし、また第４ａ図、第４ｂ図に示し
たようにリニアセンサを斜交させても平行させて
もよい。

また投影直線パターンの傾きa′に関しては、前
記(4)式と同様の 〔Ａ(l)ａ−Ｂ(l)o′〕tan²θ ＋〔Ａ(l)−Ｂ(l)〕（１−ａ・a′）tanθ ＋〔Ａ(l)a′−Ｂ(l)ａ〕＝０ ……(4)′ 但し、 Ａ(l)＝１＋２（ｌ＋ｄ）／r₁／１＋2l／r₁ Ｂ(l)＝１＋２（ｌ＋ｄ）／r₂／１＋2l／r₂ が成り立つ。

以上説明した第１及び第２の原理について、
「光線逆進の原理」が適用できる。即ち、第１の
原理についてみるならば、第１図及び第２図にお
いて検出面Ｄ及びD′の位置に多数の発光単位が
面状に配列された面発光体をおき、そして、円形
光源の位置にこの円形パターン部分のみに受光部
をもつ受光手段をおく。そして、面発光体を検出
面Ｄの位置とD′の位置にそれぞれ位置づけて、
面発光体の各発光単位を順次発光させて、前記受
光手段が光を受けたときの面発光体の発光単位の
座標上の位置をプロツトしてゆくことにより、面
Ｄ及びD′の各位置における円FX′が得られ、それ
らデータから、前述の第(1)から第(3)式を利用し
て、曲率半径や軸角度を得ることができる。更に
第３図の例について「光線逆進の原理」を適用す
るならば、検出面Ｄの位置のＸ軸とＹ軸に沿つて
直線状発光素子アレイを交差配置し、そして、円
形光源と直線光源の位置に前述の円形受光手段と
直線部分のみに受光部を有するリニア受光手段を
おく。この場合も上述した光線逆進の原理の適用
例と同様な操作により、Ｉ、Ｊ、Ｑ、Ｕ、Ｖ、Ｗ
の各座標点にある発光単位の位置を求めて、それ
から曲率半径を求めることができる。

第２の原理に「光線逆進の原理」を適用した本
発明の第３の測定原理を次に説明する。

第７図はその本発明の第３の測定原理を示す斜
視図であり、第８図はその平面図である。

この第３の原理は、すなわち、前述の第２の原
理の角膜Ｃへの照明光束と角膜からの反射光束を
逆に考え、検出面Ｄに多数の発光単位からなる発
光面Ｓをおいてこの発光面Ｓからの光の内でマス
クMAの円形および／または直線開口を通過し、
角膜Ｃで反射され光軸O₁と平行になる光線を射
出した発光面Ｓ上の発光単位の位置から角膜Ｃの
曲面特性を求めるものである。

発光面としては、第２の原理の平面型ポジシヨ
ンセンサに対応する多数の発光単位を平面状に配
列して成る平面型発光素子アレイでもリニアポジ
シヨンセンサl_x、l_yに対応する多数の発光単位を
直線状に配列してなるリニア発光素子アレイを使
用してもよく、その配置も前述のリニアセンサの
ように直交、斜交、平行を問わない。

第７図において、発散光束f_xを発光する発光素
子xs₁、xs₂、xs₃、……sx_oを直線状に配列して成
るリニア発光素子アレイS_xをＸ軸上に、発光素子
ys₁、ys₂、ys₃……ys_oを有するリニア発光素子ア
レイS_yをＹ軸上にそれぞれ配置した例を示してい
る。

光軸O₁上でマスクMAと角膜Ｃとの間には、角
膜Ｃで反射して光軸O₁と平行となつた光線をそ
の焦点位置に配置したピンホールP_Hに導びく集
光レンズP_Lが配置されており、またピンホール
P_Hの後方にはピンホールP_Hを通過した光線を検
知する検知器D_Mが配置されている。リニアアレ
イS_x、S_yを発光走査するとある発光単位xs_i、ys_i
からの光束の一部はマスクMAの円形および直線
開口を通過でき、角膜Ｃを照射できる。角膜Ｃで
反射された照明光の内ある一部の光線束は光軸
O₁と平行となり、この平行な光線束は集光レン
ズP_LによりピンホールP_Hに集光され、そのピン
ホールP_Hを通過して検知器D_Mで検知される。

この検知器D_Mが検知したときに発光していた
発光単位例えばsX₁、sX₂、sX₃、sY₁、sY₂、sY₃
を知り、sX₁、sY₁、sX₃、sY₃よりの楕円軌跡
OBの方程式が決定でき、sY₂とsX₂から直線軌跡
L₁の方程式が決定できるので、これら楕円軌跡
OBと直線軌跡LIについて前記(1)′式、(4)′式をそ
れぞれ適用すれば角膜Ｃの曲面特性はもとめるこ
とができる。

以上説明した本発明の原理に基づく実施例を以
下に説明する。

第９図は前述の第１の測定原理を利用したオフ
サルモメータの光学配置図である。本実施例にお
いては検出器として平面型ポジシヨンセンサを利
用しているが、この平面型ポジシヨンセンサのか
わりに、２本の平行または交差するリニア型ポジ
シヨンセンサを使用してもよいことは上述の原理
説明から明らかであろう。

本実施例のオフサルモメータは、大きく３つの
光学系、即ち、照明光学系１、測定光学系２、固
視光学系３、とから構成されている。

照明光学系１の直線光源としては、多数の微少
発光体を円形状に配列したリニア発光素子アレイ
を使用してもよいが、以下の構成を取ることも出
来る。照明光学系１には、光源ランプ４と、この
ランプ４からの光のうち赤外光のみを透過する赤
外フイルター５と、拡散板６、コンデンサレンズ
７とからなる光源部８があり、この光源部８から
の光は、第１０図に示すように、円形開口２５
と、これと交差する少なくとも２本の平行な直線
開口２６１，２６２からなる直線開口群２６を形
成してなる開口板９を照明する。ここで直線開口
２６１，２６２の２本を形成させたのは、第１１
図に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸上に２本のリニアセ
ンサを配置する構成を使つた場合、１方の投影直
線パターンが原点Ｏ上に投影されても、他方の投
影直線パターンはＸ軸、Ｙ軸と２点でまじわるた
め検知でき、その方程式は決定できるからであ
る。

この開口板９のそれぞれの開口２５，２６がそ
れぞれ前述の原理説明における円形及び直線光源
としてそれぞれ作用する。開口２５，２６からの
光は、ピンホール板のピンホール１０を通つて結
像レンズ１１により角膜Ｃの頂点O_Cに接する接
平面Ｈ上に結像される。この結像レンズ１１はそ
の焦点を前記ピンホール１０の位置にもつている
ので、結像レンズ１１を通つた照明光束は測定光
学系２の光軸O₁上に傾設された穴開きハーフミ
ラー１２で反射されたのち、その主光線は光軸
O₁と平行になつて角膜Ｃを照明する。

一方測定光学系２にはその光軸O₁に垂直な平
面内に平面型ポジシヨンセンサ、例えば平面型
CCDアレイ１３が配置されている。このポジシ
ヨンセンサ１３は穴開きリレーレンズ１４により
その光学的共役像がＤの位置に結像されている。
そして、この光学的共役像Ｄの位置は、前記開口
板９とは、光学的に非共役な位置になつている。

またリレーレンズ１４とポジシヨンセンサ１３
との間には、ポジシヨンセンサ１３のリレーレン
ズ１４による共役像ＤをD′の位置にずらすため
の例えば平行平面ガラスからなる光路長変換部材
９３が光路中に挿脱可能に配置されている。

また固視光学系３は、光源８０、コンデンサレ
ンズ８１、固視標板８２、コリメータレンズ８
３、及び光軸O₁に傾設された可視計反射赤外光
透過型のハーフミラー８４とから構成され、固視
標板８２からの可視光はリレーレンズ１４、穴開
きハーフミラー１２の穴を通つて平行光線となつ
て被検角膜Ｃをもつ被検眼に入射され被検者に固
視される。この固視標板８２には例えば第１２図
に示すように２重同心円型の固視標８２ａが形成
されている。

また、本実施例においては、演算処理上の基準
座標系を設計上予めあたえる変わりに、測定時の
基準座標系が作れるように、穴開きハーフミラー
１２の前に装置光軸O₁と垂直な反射面をもつ測
定光路内に挿脱可能な反射鏡９０が配置されてい
る。

まず、測定に際しては、光路変換部材９３を測
定光路内に挿入した状態で、反射鏡９０を測定光
路に図示しないアクチユエーターの作動で挿入し
たのち、光源４を照明する。光源４の光により開
口板９の開口２５，２６が円形光源および直線光
源として働き、その射出光束は反射鏡９０上に照
射される。反射鏡９０からの反射光は光軸O₁と
平行に反射され、リレーレンズ１４を介してポジ
シヨンセンサー１３に入射し、その投影パターン
が検出される。この状態を模式的に第１３図に示
す。円形及び直線光源２５，２６に対応する投影
パターン２５′，２６′を検出し、これより、円形
投影パターン２５′の中心をもとめ、この中心に
原点がくるようにＸ−Ｙ座標系を定める。以後こ
のＸ−Ｙ座標系を測定演算の基準座標系とする。
次に、反射鏡９０を測定光路外に退出させ、被検
角膜Ｃに円形及び直線光源２５，２６からの光を
照射する。角膜Ｃからの反射光はリレーレンズ１
４を通りポジシヨンセンサ１３で検出され、投影
パターン２５″，２６″を検出し、その検出点例え
ば両座標軸Ｘ、Ｙ上の検出点ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、
ｍ、ｎ、Ｑ、ｔから上記(1)、(4)をつかつてα、β
を演算でもとめ、このアライメント量にしたがつ
て装置を図示しない移動機構で左右上下に移動さ
せアライメントする。第１４図に示すようにアラ
イメントが完了したら、光路長変換部材９３を測
定光路外に退出させ、今まで検出に使用していた
共役検出面の位置をD′からＤに位置させる。そ
して再度ポジシヨンセンサ１３を走査して投影直
線を検出し、その検出された投影直線２５，２
６の検出点、例えばi′、j′、k′、l′、m′n′、Q
′、
t′から(1)、(4)式を適用して角膜の曲面特性すなわ
ち第１及び第２の主径線の曲率半径R₁、R₂及び
角度θを演算する。

第１５図は、本発明の第２の実施例であり、前
述の第１の実施例の照明光学系１の直線光源２
５，２６を作る別の構成を示す実施例であり、照
明光学系１の一部分のみを図示した部分光学配置
図である。

前述の第１実施例では円形及び直線光源として
働く開口２５，２６を１枚の開口板９に形成した
が、第１５図に示す本実施例は別々の開口板にそ
れぞれ開口の１方を形成し、結像レンズ１１で接
平面Ｈ上に結像されたときに２つの開口が合成さ
れる実施例を示している。

本実施例の照明光学系１には、前述の第１実施
例の光源部と同様の構成からなる２つの光源部８
−１，８−２があり、それぞれに開口板９−１，
９−２が配置されている。開口板９−１には、第
１０図に示した円形光源の２５に相当する円形開
口が、開口板９−２には直線光源の２６に相等す
る直線開口がそれぞれ形成されている。

開口板９−１，９−２を射出した光束はハーフ
ミラー９１で合成されハーフミラー９１の上面に
形成されたピンホール９２ａを有する遮光膜９２
のピンホール９２ａを通つて結像レンズ１１に入
射する。以後の作用は前述の第１の実施例と同様
である。

以上の実施例に「光線逆進の原理」を適用して
変形するには、ポジシヨンセンサ１３の位置に、
多数の赤外発光素子を面状に配列した発光素子ア
レイをおき、開口板９の開口パターンとが部分の
みに受光部を有する平面型受光素子を開口板９の
位置に配置するか、もしくは開口板９の開口パタ
ーンと同一部分のみに受光部を有する平面型受光
素子を開口板９の位置に配置するか、もしくは光
源ランプ４の位置に受光素子をおいて、そして、
その受光素子が受光したときにその光を発した発
光素子の位置を検出すればよい。また、前述の実
施例の場合と同様に様々な変形が可能である。

第１６図は本発明の第３の実施例を示す光学配
置図である。本実施例は前述の第２の測定原理を
利用したオフサルモメータである。上述の第１実
施例と同一もしくは均等の構成要素には同一の符
号を付して説明を省略する。

また本実施例は共役検出面内で直交する２本の
リニア型ポジシヨンセンサを検出器として利用し
ているが、本発明においては、これに限定される
ものでなく、平面型ポジシヨンセンサや斜交する
２本のリニア型ポジシヨンセンサあるいは平行な
２本のポジシヨンセンサを利用しても検出できる
ことは前述の原理説明から明かである。

照明光学系１の光源としては、発光波長の互い
に異なる二つの赤外発光ダイオード７０，７１を
使用する。発光ダイオード７０から光はダイクロ
イツクプリズム７２のダイクロイツク面７２ａを
透過しコンデンサレンズ７に入射する。一方、発
光ダイオード７１からの光はダイクロツク面７２
ａを反射して、同様にコンデンサレンズ７に入射
する。

コンデンサレンズ７からの射出光は、ピンホー
ル板１０のピンホールを通つて、このピンホール
にその焦点位置をもつコリメータレンズ７３によ
つて平行光束とされたのち、装置光軸O₁上に傾
設された微小ミラー８５によつて反射され、光軸
O₁と平行に被検角膜Ｃに照射される。固視光学
系３は、照明光学系１に傾設されたハーフミラー
８４によつて、その固視標像を被検眼に照明して
いる。

リレーレンズ１４の後方にはダイクロイツクミ
ラー８６が配置され、その後方の光路を第１光路
１２０と第２光路１２１に二分する。

第１光路にはマスク１３ａが、第２光路１２１
にはマスク１３ｂがそれぞれ配置される。マスク
１３ａを通過した光束はハーフミラー３０３でさ
らに二分割され、反射光束リニアポジシヨンセン
サ１５に、透過光束はリニアポジシヨンセンサ１
６に入射する。また同様にマスク１３ｂを通過し
た光束もハーフミラー３０３で反射及び透過さ
れ、それぞれリニアセンサ１５，１６に入射す
る。ここでリニアセンサ１３ａと１３ｂはリレー
レンズ１４により、その共役検出面Ｄ内で互いに
合成されるように配置されている。またマスク１
３ａ，１３ｂはリレーレンズ１４により共役像を
図中MAの位置に形成される。そしてこれら共役
面MA及びＤはそれぞれピンホール１０と光学的
に非共役な関係にある。

すでにアライメント調整は前述の方法で調整さ
れているものとして以後の測定手順を説明する。
まず発光ダイオード７０を発光すると、その射出
光は角膜Ｃで反射されたのち、第１光路１２０を
進み、マスク１３ａに入射する。このマスク１３
ａには、第１０図に示した円形開口２５が形成さ
れており、この円形開口２５で選択透過された光
束は、リニアセンサ１５，１６に入射し、検出さ
れる。例えば第１１図のＹ軸方向に配置されたリ
ニアセンサ１５により検出点１５１，１５２が検
出され、またＸ軸方向に配置されたリニアセンサ
１６により検出点１６１，１６２が検出される。
次に発光ダイオード７１に切替えると、その角膜
Ｃからの反射光は第２光路１２１を通り、マスク
１３ｂに入射する。マスク１３ｂには第１０図は
直線開口２６が形成されており、この直線開口２
６で選択透過された光束がリニアセンサ１５，１
６に投影される。リニアセンサ１５で検出点１５
３，１５４が、リニアセンサ１６で検出点１６
３，１６４が、それぞれ検出される。これら８点
の検出点１５１，１５２……１６３，１６４を第
(1)′式、第(4)′式に適用し角膜Ｃの曲面特性を演算
しもとめる。

第１７図は、以上のごとき演算処理を行なう為
の処理回路の一例をブロツク図で簡単に示すもの
である。リニアセンサドライバ１００，１０１に
よつて駆動されるリニアセンサ１５，１６は第１
５図Ｂ〜Ｃで示すごとき、まず、ドライブ回路６
０によつて駆動された光源７０の発光により、光
束制限マスク１３ａの直線開口パターン投影像に
よる検出出力信号を信号ライン１０２，１０３に
送出する。１０４はアナログスイツチであり、マ
イクロプロセツサ１０５によつてコントロールさ
れる。マイクロプロセツサ１０５はリニアセンサ
１５にドライブするドライバー１００によりリニ
アセンサの走査開始パルス１０６により割込を受
けると、アナログスイツチを制御して、リニアセ
ンサ１５の出力がＡ／Ｄ変換器１０７に入力され
るようにする。Ａ／Ｄ変換器１０７は、ドライバ
ー回路１００からの第１７図Ａに示すようなリニ
アセンサ読み出しパルス１０８により読み出され
るリニアセンサの１素子毎の出力をアナログ・デ
ジタル変換し、変換されたデジタル値をマイクロ
プロセツサに供給する。ここでＡ／Ｄ変換器１０
７は、８ビツト（１／256）程度の分解能を有し、
かつリニアセンサの走査周波数より速い変換時間
を有するものが選ばれる。マイクロプロセツサ１
０５は、１素子毎にデジタル値に変換されたリニ
アセンサ１５の出力を読み込み、RAM（ランダ
ムアクセスメモリー）等で構成されるデータメモ
リ１０９に逐次格納する。従つて、データメモリ
１０９には、あらかじめ定められた位置（番地）
より、リニアセンサの最初の素子による出力から
順にデジタル値として格納される。例えばリニア
センサが1728素子のものであれば、1728個のデー
タ取り込みが終了すると、マイクロプロセツサ１
０５は、それ以上のデータ取り込みをやめ、リニ
アセンサ１６を駆動する走査開始パルス１１０に
より、割込みを受けるのを待つ。割込を受けると
アナログスイツチ１０４を制御してリニアセンサ
読み出しパルス１１１により読み出されるリニア
センサ１６の出力をデジタル値としてデータメモ
リ１０９に手きつづき格納する。つぎにマイクロ
プロセツサ１０５は、ドライブ回路１を制御して
今まで発していた光源７０を消し、光源７１を発
光させる。そして前述と同様の駆動により検出出
力をデジタル値としてデータメモリ１０９に格納
する。これで全ての測定データがデータメモリ１
０９に格納されたことになる。以後マイクロプロ
セツサ１０５内の演算回路１１２はデータメモリ
１０９に書き込まれたデータを基に（1′）、（4′）
式をもとに演算し角膜の曲面特性を演算する。

以上の処理により求められた各値は、第２２図
に示す表示器１１３、プリンタ装置１１４に出力
される。

なお表示器としては公知のCRTデイスプレイ
装置をもちい、アライメント量α、βは図形表示
すると測定上便利である。さらにアライメント量
α、βを電気信号として装置筺体駆動部１１７に
入力し、その信号に応じ電動駆動させればオート
アライメントも可能である。

以上の処理は、全てプログラムメモリ１１５に
記録されているプログラムに従つて行なわれる。
マイクロプロセツサによつて以上の様な処理を行
なう事は特殊なものでなく、関連する技術分野に
属する当業者にとつては容易に達成できるもので
ある。

本発明は以上に説明した実施例に限定されるも
のでなく、種々の変形例を有するものである。以
下にその２、３の例を開示する。

第１８図は本発明の第４の実施例を示す部分光
学配置図である。なお、照明光学系、固視光学系
は前述の第３実施例と同様であるので図示及び説
明は省略する。また同様の構成要素には同一の符
号を付して説明を省略する。

測定光学系２にはリレーレンズ１４の後方に第
２リレーレンズ群８７が配置されており、このリ
レーレンズ群８７とリレーレンズ１４の間に前記
第１０図に図示したと同様のマスク板９が配置さ
れており、このマスク板９はリレーレンズ１４に
よりその共役像を図中MAの位置に作つている。
第２リレーレンズ８７の後方にはダイクロイツク
ミラー８６があり、このミラー８７の反射及び透
過光路がそれぞれ第１光路１２０、第２光路１２
１を形成する。第２光路１２１には、イメージロ
ーテーター１２５が予め定めた所定角、光軸を中
心に回転され配置されている。また第１光軸１２
０と第２光路１２１はダイクロイツクミラー１２
３で合成され、このダイクロイツクミラー１２３
の後方には、第３リレーレンズ１２４が、その後
方にはリニアポジシヨンセンサ１５が配置されて
いる。リニアセンサ１５は、リレーレンズ１４、
第２リレーレンズ群８７及び第３リレーレンズ１
２４によりその共役像を図中Ｄの位置に作られ
る。そして第２光路１２１内に前記したようにイ
メージロテータ１２５が配置されているので、リ
ニアセンサ１５はこの共役検出面Ｄ内で交差する
２本のリニアセンサと等価になる。

測定に際しては発光源７０を発光すると角膜Ｃ
からの反射光は、光束制御マスク９の開口２５，
２６により選択透過され、第１光路１２０を通つ
てリニアセンサ１５上に投影パターン２５′，２
６′として投影され、この投影パターン群は第１
９図に示すようにリニアセンサ１５により検出点
e₁e₂、e₃、e₄として検出される。次に、発光源７
１に切り替えると、その角膜での反射光束は同様
にマスク９の開口２５，２６で選択され、その選
択光束は、第２光路１２１を通り、そのイメージ
ロテータで回転されて、第１９図に示すようにリ
ニアセンサ１５が１５′の位置に配置されたのと
等価になり、開口２５，２６の投影パターン２
５′，２６′を検出点f₁、f₂、f₃、f₄として検出さ
れる。

以下、これら検出点をもとに(1)′式、(4)′式をも
ちいて被検角膜の曲面特性を算出する方法は前述
の第２実施例と同様である。

前述の第３実施例（第１６図）においてリニア
センサ１５，１６をそのリレーレンズ１４による
共役面Ｄで互いに平行になるように配置しても測
定は可能である。また第２０図に示すように、リ
レーレンズ群８７の後に平行平面ガラスからなる
光束シフト手段３０１を配し、これを光軸O₁と
垂直な軸を回転軸として４つの位置Ａ，Ｂに回転
変位すれば、光束制限マスク９で選択された角膜
Ｃからの反射光束はシフトされ、１本のリニアセ
ンサ１５が共役面Ｄ上で２本平行に配置されたと
等価になり、これより各投影パターン２５′，２
６′の各パターンの４点が検出されるので、その
検出点をもとに前述の実施例と同様に被検角膜Ｃ
の曲面特性を測定できる。

また第２０図の光束シフト手段３０１のかわり
に、イメージロテータを光軸O₁を回転軸として
回転すれば、第２２図に示すように各投影平行直
線パターン群が検出できることは前述の第４実施
例から、きわめて容易にわかるであろう。

またイメージロテータを回転するかわりに、第
２１図に示すようにパルスモータ駆動回路３０３
で回転制御されるパルスモータ３０２でリニアセ
ンサ１５を光軸O₁を回転軸として回転して投影
パターンを検出してもよい。

第２２図は本発明の第７の実施例を示す光学配
置図である。本実施例は前述の第３の測定原理を
応用したオフサルモメータの図である。なお、こ
の実施例は、平面型の発光素子アレイを利用して
いるが、前述の種々の実施例のリニアポジシヨン
センサをリニア発光素子アレイに置き換えた形
で、第３の測定原理をオフサルモメータに応用で
きることはあえて説明するまでもないであろう。
リレーレンズ１４の光軸を垂直な平面内に平面型
発光素子アレイ３２０が配置されている。この平
面型発光素子アレイ３２０は微細な発光ダイオー
ドを稠密的に平面基板上に配列して構成されてい
る。リレーレンズ１４と、発光素子アレイ３２０
との間には、前記第３の実施例と同様の光束制限
マスク９が配置されており、リレーレンズ１４に
より、マスク９はその共役像がMAの位置に、ま
た、発光素子アレイはその共役像がＳの位置にそ
れぞれ作られている。またリレーレンズ１４は、
前述の原理説明でのべた集光レンズＬをも兼ねて
おり、角膜Ｃの反射光のうちリレーレンズ１４の
光軸Ｏと平行な光線を反射鏡３２１を介してピン
ホール３２２に集光させ、このピンホール３２２
を通過した光線はリレーレンズ３２３により検出
器３２４に入射される。この検出器３２４として
は高感度のアパランシヤフオトダイオードが利用
される。またさらに感度をあげるにはペルチエ効
果を利用した電子冷却手段を兼用してもよいし、
公知の光電子倍増管を利用してもよい。

測定方法は平面型発光素子アレイ３２０の各発
光ダイオードを順次発光走査し、走査発光された
ダイオードのうちの一部の発光ダイオードからの
光がマスク９の平行直線群２５及び２６を通過
し、角膜Ｃに照射される。そして角膜Ｃで反射さ
れ、その一部はリレーレンズ１４に下りピンホー
ル３２２に集光され、検出器３２４で検知され
る。この検出器３２４で検知されたとき光を出し
た発光ダイオードの位置、たとえば第１９図の
e₁、e₂、e₃、e₄及びf₁、f₂、f₃、f₄の各発光点から
円形及び直線軌跡２５′，２６′を算出し、この各
軌跡をもとに仮想平行四辺形を作成し、第(1)′〜
第(4)′式を使つて角膜の曲率半径r₁、r₂及び角度
θを演算する。

本実施例の駆動演算回路としては、前述の第１
７図に示した回路とほぼ同様の構成で達成でき
る。相異点は、ポジシヨンセンサ１５，１６のか
わりに平面型発光素子アレイか、またはリニア発
光素子アレイを使用することと、この発光素子ア
レイの駆動パルスと、検出器３２４の検知出力と
の同期をとる同期回路を追加すること等がわずか
相違するのみである。

また、発光素子アレイとしては、その発光単位
として発光ダイオードを利用するかわりにレーザ
を利用することもできる。

第２３図はその第１の例でC_AA_S半導体レーザ
５００からのレーザ光５０１を例えば回転多面鏡
やガルバノメータ反射鏡あるいは音響光学素子等
を使つたレーザ光走査手段５０２で走査し後側に
コリメーターレンズ５０３を有し前側に多数の微
少光フアイバロツト５０４ａを平面状に配列した
光フアイバ集合体５０４と各光フアイバロツト５
０４ａにレーザ光を入射させ、この光フアイバロ
ツトの開口数の大きいことを利用して発散光束に
して射出するような構成をとつてもよい。

またリニア型発光素子アレイのかわりに、第２
４図に示すように、多数のオプテイカルフアイバ
５１０の一端を直線状に配列し、他端を円筒状に
束ねこのオプテイカルフアイバの円筒束他端にレ
ーザ光ガイド光学系５１１を内蔵した回転円板５
１２をパルスモータ３１１で回転しながら半導体
レーザ５１２からのレーザ光をスキヤンさせても
よい。

第２５図は、本発明の第１の測定原理をコンタ
クトレンズのベースカーブあるいは前面のカーブ
を測定するラジアスメータに応用した実施例を示
す光学配置図である。第１実施例と同様の構成要
素には同一の符号を付して説明は昇略する。

コンタクトレンズCLのベースカーブを測定す
る時は、コンタクトレンズの凸面を下にして、コ
ンタクトレンズ保持手段６００の円管状突出部６
０１に保持される。

この円管状突出部の底面には、第１２図の反射
鏡２１と同様の作用をする反射鏡６０２がはめ込
まれている。コンタクトレンズCLを保持手段６
００に保持する前に、この反射鏡６０２を使つて
基準座標系の設定ができるようになつている。

尚、本実施例においては、ポジシヨンセンサ１
３のリレーレンズ１４による共役面Ｄ、D′は、
それぞれ測定しようとするコンタクトレンズの後
面の焦点距離f_CLより内側に位置するように設計
する。

ラジアスメータへの応用は、本実施例で示した
ように本発明の第１の原理だけが応用できるので
なく他の第２、第３の測定原理を利用できること
は言うまでもない。

以上説明した測定原理及び各実施例のマスク手
段には、光束を選択的に透過させる直線開口を形
成した例を示したが、このかわりに光束を選択的
に反射する反射型直線パターンを利用しても本発
明と同一の作用、効果が得られることは言うまで
もない。

また、発光素子又は受光素子を走査駆動しそし
て検出データを演算処理する回路は、前述した回
路に限らず、必要なデータが得られそして前述し
た演算式を処理できるならばどのような回路でも
よく、当業者には様々な回路が設計できるであろ
うことは明らかであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の第１の測定原理を示す斜視
図、第２図は本発明の第１の測定原理を示す平面
図、第３図は本発明の第１の測定原理を他の態様
により説明するための斜視図、第４ａ図はリニア
センサの斜交配置と直交座標系の関係を示す図、
第４ｂ図はリニアセンサの平行配置を示す図、第
５図は本発明の第２の測定原理を示す斜視図、第
６図は第２の測定原理を示す平面図、第７図は本
発明の第３の測定原理を示す斜視図、第８図は第
３の測定原理を示す平面図、第９図は本発明の第
１の実施例を示す光学配置図、第１０図は開口板
もしくはマスク板に形成された開口パターンの一
例を示す正面図、第１１図は投影パターンの検出
方法を示す概略図、第１２図は固視標の一例を示
す正面図、第１３図はアライメント時の投影パタ
ーンの関係を示す概略図、第１４図は測定時の投
影パターンの検出方法を示す概略図、第１５図は
本発明の第２の実施例を示す照明光学系の部分光
学配置図、第１６図は本発明の第３の実施例を示
す光学配置図、第１７図は本発明を適用した装置
の演算処理電気回路の一例を示すブロツク図、第
１８図は本発明の第３の実施例を示す部分光学配
置図、第１９図は第３実施例における投影パター
ンの検出方法を示す概略図、第２０図は本発明の
第４の実施例を示す部分光学配置図、第２１図は
本発明の第５の実施例を示す検出部を示す図、第
２２図は本発明の第６の実施例を示す部分光学配
置図、第２３図は本発明の発光素子アレイの他の
態様を示す図、第２４図は本発明の発光素子アレ
イのさらに他の態様を示す図、そして、第２５図
は本発明の第７の実施例の示す光学配置図であ
る。 ９……開口板またはマスク板、１０……ピンホ
ール、１４……リレーレンズ、１３……平面型ポ
ジシヨンセンサ、１５，１６……リニアポジシヨ
ンセンサ、２５，２６……開口パターン、２５′，
２６′……投影パターン、７３……マリメーター
レンズ、９３……光路長変換部材、１２５……イ
メージローテーター、３０１……光束シフト手
段、３２４……検出器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ある面内に予め定められた半径をもつ円形を
   成す光源と、光軸上に配置されたピンホールを通
   して該光源を射出した照明光束の主光線を該光軸
   と平行する結像レンズとを有する照明光学系と、 前記照明光の前記被検曲面からの反射光を前記
   光源と光学的に非共役な面内で検出する検出手段
   と、 該検出手段が検出した前記光源に対応する、投
   影パターンの形状から前記被検曲面の曲率半径を
   演算する演算手段と から構成されてなることを特徴とする曲率測定装
   置。 ２ 前記光源は、さらにそれと実質的もしくは仮
   想的に交差する少なくとも１本の直線を成す光源
   を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の曲率測定装置。 ３ 前記光源は、発光ダイオードの集合体から構
   成されたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   又は第２項記載の曲率測定装置。 ４ 前記光源は、発光光源からの光を透過する開
   口であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   又は第２項記載の曲率測定装置。 ５ 前記円形光源と前記直線光源はそれぞれ独立
   の光源で前記面内で仮想的に合成されることを特
   徴とする特許請求の範囲第２項ないし第４項のい
   ずれかに記載の曲率測定装置。 ６ 前記検出手段を前記非共役面に結像させるリ
   レー光学手段を有してなることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載
   の曲率測定装置。 ７ 前記被検曲面と前記検出手段の間に光路長変
   換手段を配したことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項ないし第６項のいずれかに記載の曲率測定
   装置。 ８ 前記被検曲面と前記検出手段の間に前記光軸
   と垂直な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配し
   て成ることを特徴とする特許請求の範囲第１項な
   いし第７項のいずれかに記載の曲率測定装置。 ９ 前記照明光束は赤外光であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれか
   に記載の曲率測定装置。 １０ 前記リレー光学手段の光軸と前記照明光学
   系の光軸とを小さくとも一部共通にしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第６項ないし第９項のい
   ずれかに記載の曲率測定装置。 １１ 前記検出手段は多数の受光素子を平面状に
   配置した平面型ポジシヨンセンサであることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項ないし第１０項の
   いずれかに記載の曲率測定装置。 １２ 前記検出手段は多数の受光素子を直線状に
   配列して成り、前記非共役面内で回転するリニア
   ポジシヨンセンサであることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項ないし第１１項のいずれかに記載
   の曲率測定装置。 １３ 前記検出手段は少なくとも２本のリニアポ
   ジシヨンセンサであることを特徴とする特許請求
   の範囲第２項ないし第１１項のいずれかに記載の
   曲率測定装置。 １４ 前記リニアポジシヨンセンサは前記非共役
   面内で互いに交差することを特徴とする特許請求
   の範囲第１３項記載の曲率測定装置。 １５ 前記リニアポジシヨンセンサは前記非共役
   面内で互いに平行に配置されることを特徴とする
   特許請求の範囲第１３項記載の曲率測定装置。 １６ 前記検出手段は、少なくとも一本のリニア
   ポジシヨンセンサと、前記反射光を装置光軸と垂
   直な面内で移動させる光束移動手段とを有してな
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
   第１０項のいずれかに記載の曲率測定装置。 １７ 前記光束移動手段は、光束回転手段である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の
   曲率測定装置。 １８ 前記光束移動手段は、前記反射光束を平行
   移動させる光束シフト手段であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１６項記載の曲率測定装置。