JPH0259032A - ポリサルフォン製表面改質膜及びその製造方法 - Google Patents

ポリサルフォン製表面改質膜及びその製造方法

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JPH0259032A
JPH0259032A JP20956888A JP20956888A JPH0259032A JP H0259032 A JPH0259032 A JP H0259032A JP 20956888 A JP20956888 A JP 20956888A JP 20956888 A JP20956888 A JP 20956888A JP H0259032 A JPH0259032 A JP H0259032A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polysulfone
membrane
filtering
irradiation
ultraviolet rays
Prior art date
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Pending
Application number
JP20956888A
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English (en)
Inventor
Koji Igarashi
浩二 五十嵐
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Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Filing date
Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] 本発明はポリサルフオン製高分子多孔質膜の表面改質法
に関するものである。、疎水性基体であるポリサルフォ
ンからなる多孔質膜は機械的にも強く、熱的にも安定で
あり、′a過技術の多くの範囲に利用されている。しか
し、疎水性基体からなる股は、蛋白質の吸着を回避でき
ず、蛋白質による膜の孔の閉塞による濾過速度の急激な
低下は避けられないものであった。
[従来の技術〕 ポリサルフォンを含む高分子多孔質膜の表面改質法は多
数報告されているが、代表的な例としてグラフト重合技
術を用いた例がある。高分子多孔質膜と重合性用M体と
適当な架橋剤を用いて表面処理する方法においては、膜
細孔の閉塞を回避しながら、表面特性を改質することは
困難である。
また、プラズマ放電処理を用いた表面グラフト法(特開
昭62−2G2705号公報、特開昭133−140(
i号公報)では、真空下での処理を必要とし、処理工程
、処理装置が繁雑であり工業的生産は非常に困難である
[発明が解決しようとする課題] 本発明は疎水性基体であるポリサルフォンの特徴である
物理的強度、耐薬品性を維持し、かつポリサルフォンか
ら形成される多孔質膜の大きな欠点である蛋白質の吸z
1による濾過速度の急激な低ドを解決し、高い濾過速度
を維持する表面改質膜及びその製造方法を提供するもの
である。
[課題を解決するための手段] 本発明者は1−記の如き現状に鑑み鋭意研究した結果、
本発明に到達した。
即ち、本発明はポリサルフォン製多孔質膜の多孔質(1
η造を閉塞により破壊することなく、多孔質膜表面に限
って表面改質することにより、ポリサルフォンの特徴で
ある物理的強度、耐薬品性を維持した高濾過速度を有す
る表面改質膜及びその製造)j法を提供するものである
以下、本発明の詳細な説明する。
ポリザルフォン製多孔質膜を水洗したのち、続いて紫外
線を照射することにより表面改質を行う。
表面改質に用いる紫外線源は10W程度のものから10
0[)W以」二のものまで適当な照射距離、照射時間を
用いることにより使用可能である。紫外線の照射は常1
M + 常圧下において行うものであり、特別な条件を
必要としないため、処理装置、処理工程も非常に簡便な
ものである。
紫外線の照射時間は紫外線の照射距離1強度に依存する
が、例えば紫外線強度GOOW、照射距離25cmの場
合、1〜20分間の照射処理が適当であり、−ガに好ま
しくは3〜IO分間である。照射時間が短ずぎるとその
効果はあられれず、長すぎると表面親水化がさまたげら
れ、]]的とする性能が現れない。
本発明で得られる表面改質膜の表面の純水による接触角
は60°以下、好ましくは35°以下である。また、護
膜は、蛋白質に対する親和力が極めて小さく、疎水性基
体であるポリサルフォン製多孔質膜の大きな欠点である
蛋白質の吸着による濾過速度の急激な低下を解決し、高
濾過速度を維持する。
[発明の効果] 本発明によれば、常温3常圧下においてポリサルフォン
製多孔質膜に紫外線を照射するのみで多孔質膜表面の改
質が可能である。また、本発明により得られる表面の改
質されたポリサルフォン製多孔質膜は未処理のポリサル
フォン製多孔質膜に比較して、非常に高い濾過速度を維
持するものであるので護膜を用いることにより、蛋白質
の濾過など広範囲の濾過操作における濾過時間の大幅な
1d縮が可能である。
[実施例] 本発明を更に詳細に説明するために、実施例を挙げるか
、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例1 直径43111111.分画分子量300,000のポ
リサルフォン膜を水洗し、常温、常圧下において、紫外
線照射装置(ウシオ電気株式会社製、ミニキュア450
)を用い、紫外線強度eoow、照射距Is、25cm
にて1゜3.5.7分間紫外線照射処理を行った。得ら
れた4種類の膜に対し、0.5%γ−グロブリン。
0.3596牛血清アルブミン、 0.12%ミオグロ
ビン。
(1、Ol 9jiビタミンB1□を生理食塩水に溶解
した蛋白質混合溶液50m1を用い、濾過装置(アドバ
ンテックン1.製、ウルトラホルダー 〇IIP−43
)により圧力1 kg l’/cfiにて限外d!i過
を行い、濾過速度の変化を調べ未処理膜との比較を行っ
た。
未処理ポリサルフ+ン膜と表面改質膜の純水による接触
角を測定したところ表1に示すように、紫外線照射時間
が長くなるに従い、接触角は小さくなり紫外線照射時間
5分で接触角か最小値をとり膜表面が親水化され表面改
質か行イ〕れていることか確認できた。
表1 また、未処理ポリサルフォン膜と表面改質膜の濾過速度
をflll+定したところ図1に示すように、表面改質
膜においては、未処理膜に比べ常に高い濾過速度を維持
しており、蛋白質による膜孔の閉塞が抑制されているこ
とが確認でき、接触角が最小(1(〜を示した紫外線1
(−(対時間5分において濾過速度の最大値がみられた
゛実施例2 直径43n++++、分画分子量1,000,000の
ポリサルフォン膜を水洗し、常温、常圧下において、紫
外線強+ieoow、照射距+t125cmにて5分間
紫外線照射処理を行った。得られた膜に対し、0.1%
−ブルーデキストラン(分子量2,000,000 )
溶液50歳を用い、濾過装置(アトバンチツク社製、ウ
ルトラホルダー UIIP−43) +、:より、圧力
1 kg r/cd f、: ”C限外濾過を行い、濾
過速rUの変化を調べ未処理膜との比十′ンを?−1っ
jこ。
未処理ポリサリフオン膜と表面改質膜の濾過速度を41
1定したところ図2に示すように、表面改質膜において
は、未処理膜に比べ常に高い濾過速度を維持しており、
表面改質膜の有効性が認められた。
実施例3 直径43 mm 、分画分子=to、oooのポリサル
フオン膜を水洗し、常温、常圧下において、紫外線強度
tioOW、照射距離25cmにて1,3.5分間紫外
線照射処理を行った。得られた3種類の膜に対し、実施
例1と同様の試料溶液50m1を用い、圧力1kgf/
e4にて限外濾過を行い、濾過速度の変化を調べ未処理
膜との比較を行った。
未処理ポリサルフォン膜と表面改質膜の濾過速度を測定
したところ図3に示すように、表面改質膜においては、
未処理膜に比べ非常に高い濾過速1ヶを維持しており、
蛋白質による膜孔の閉塞が抑制されていることが確認で
きる。
【図面の簡単な説明】
図1.2.3はそれぞれ実施例1,2.3における表面
改質膜と未処理膜の濾過時間に伴う濾過速度の変化を示
すものである。 図1 図2 O:未処理膜 ・:紫外線5分照射

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面が親水化されたポリサルフォン製表面改質膜
  2. (2)ポリサルフォン製多孔質膜に紫外線を照射するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の表面改
    質膜の製造方法。
JP20956888A 1988-08-25 1988-08-25 ポリサルフォン製表面改質膜及びその製造方法 Pending JPH0259032A (ja)

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