JPH026034B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH026034B2 JPH026034B2 JP56064173A JP6417381A JPH026034B2 JP H026034 B2 JPH026034 B2 JP H026034B2 JP 56064173 A JP56064173 A JP 56064173A JP 6417381 A JP6417381 A JP 6417381A JP H026034 B2 JPH026034 B2 JP H026034B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- vacuum container
- vacuum
- supported
- vacuum vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空容器内コイルの保護装置に係り、
特に、核融合装置用真空容器の内部に不純物を減
少させる目的で設置されるダイバータコイル等に
好適な真空容器内コイルの保護装置に関する。
特に、核融合装置用真空容器の内部に不純物を減
少させる目的で設置されるダイバータコイル等に
好適な真空容器内コイルの保護装置に関する。
一般に核融合装置は、第１図、及び第２図に示
す如く、核融合を生じせしめるプラズマ１を収納
するドーナツ状の真空容器２と、この真空容器２
を取り囲み、プラズマ位置に強力なトロイダル方
向の磁場を発生させ、プラズマ１の安定な閉じ込
めを図るためトーラス周方向に適宜間隔をもつて
配置された複数のトロイダルコイル３と、真空容
器２の周囲、特に内径側に沿つて配置され、トロ
イダルコイル３と鎖交する複数のポロイダルコイ
ル４とにより概略構成され、トロイダルコイル３
は求心力を中心支柱５で支持され、更にこれらは
上下架台６，７、及び支柱８に保持されている。
一方、真空容器２は真空容器支持アーム９に、ト
ロイダルコイル３はトロイダルコイル支え１０に
より支持されている。また、真空容器２の内部に
は真空容器２内の不純物減少を目的としたダイバ
ータコイル等の真空容器内コイル１１が設けら
れ、この真空容器内コイル１１はプラズマ１の一
部を分岐させ、プラズマ１の不純物を除去し、損
失の少ない高温のプラズマ１を保持せしめるため
の磁場を作るものである。
す如く、核融合を生じせしめるプラズマ１を収納
するドーナツ状の真空容器２と、この真空容器２
を取り囲み、プラズマ位置に強力なトロイダル方
向の磁場を発生させ、プラズマ１の安定な閉じ込
めを図るためトーラス周方向に適宜間隔をもつて
配置された複数のトロイダルコイル３と、真空容
器２の周囲、特に内径側に沿つて配置され、トロ
イダルコイル３と鎖交する複数のポロイダルコイ
ル４とにより概略構成され、トロイダルコイル３
は求心力を中心支柱５で支持され、更にこれらは
上下架台６，７、及び支柱８に保持されている。
一方、真空容器２は真空容器支持アーム９に、ト
ロイダルコイル３はトロイダルコイル支え１０に
より支持されている。また、真空容器２の内部に
は真空容器２内の不純物減少を目的としたダイバ
ータコイル等の真空容器内コイル１１が設けら
れ、この真空容器内コイル１１はプラズマ１の一
部を分岐させ、プラズマ１の不純物を除去し、損
失の少ない高温のプラズマ１を保持せしめるため
の磁場を作るものである。
通常、この真空容器内コイル１１は保護管１２
により覆われている。保護管１２は厚肉部とベロ
ーズ部を交互に配置して構成され、厚肉部を支持
部材１３を介して真空容器２の内壁に固定するこ
とにより、保護管１２を支持している。保護管ベ
ローズ部は、保護管１２の電気抵抗を増すだけで
なく、プラズマ運転中に真空容器２と保護管１２
の間に生じる大きな温度差による膨張差を吸収す
るものである。尚、保護管１２の外部は真空、内
部は大気となつている。
により覆われている。保護管１２は厚肉部とベロ
ーズ部を交互に配置して構成され、厚肉部を支持
部材１３を介して真空容器２の内壁に固定するこ
とにより、保護管１２を支持している。保護管ベ
ローズ部は、保護管１２の電気抵抗を増すだけで
なく、プラズマ運転中に真空容器２と保護管１２
の間に生じる大きな温度差による膨張差を吸収す
るものである。尚、保護管１２の外部は真空、内
部は大気となつている。
ところで、保護管１２は電気抵抗を増すこと、
及び膨張差を良好に吸収することから、できるだ
けベローズ部が薄く、かつ、長ければよい。しか
しながら、このような構造の従来の真空容器内コ
イルの保護装置では、保護管１２自身は、厚肉部
は真空容器２内壁に直接支持されているが、ベロ
ーズ部は厚肉部を介して間接的に支持されている
だけである。そのため、プラズマ電流の立上り、
あるいはその他の電流変動時等の電流変化に伴
い、誘起される誘導電流により、保護管１２に半
径方向、または上下方向の電磁力が生じた場合、
保護管ベローズ部は剛性が小さいため、大きな変
位が生じ、応力が多大なものとなる嫌いがある。
これに耐え得るためにも、電気抵抗を増加した
り、あるいは膨張差を良好に吸収するために、保
護管ベローズ部を薄くすること、または長くした
りすることができない。
及び膨張差を良好に吸収することから、できるだ
けベローズ部が薄く、かつ、長ければよい。しか
しながら、このような構造の従来の真空容器内コ
イルの保護装置では、保護管１２自身は、厚肉部
は真空容器２内壁に直接支持されているが、ベロ
ーズ部は厚肉部を介して間接的に支持されている
だけである。そのため、プラズマ電流の立上り、
あるいはその他の電流変動時等の電流変化に伴
い、誘起される誘導電流により、保護管１２に半
径方向、または上下方向の電磁力が生じた場合、
保護管ベローズ部は剛性が小さいため、大きな変
位が生じ、応力が多大なものとなる嫌いがある。
これに耐え得るためにも、電気抵抗を増加した
り、あるいは膨張差を良好に吸収するために、保
護管ベローズ部を薄くすること、または長くした
りすることができない。
従つて、従来の構成では電気抵抗値を十分に高
くとれず、プラズマの立上り、とじ込めに悪影響
を及ぼしてしまう欠点があつた。
くとれず、プラズマの立上り、とじ込めに悪影響
を及ぼしてしまう欠点があつた。
本発明は上述の点に鑑み成されたもので、その
目的とするところは、剛性の小さい保護管ベロー
ズ部であつても、その変位を抑え、かつ、電気抵
抗値を十分高くとれ、プラズマの立上り、とじ込
めに悪影響を及ぼすことのない真空容器内コイル
の保護装置を提供するにある。
目的とするところは、剛性の小さい保護管ベロー
ズ部であつても、その変位を抑え、かつ、電気抵
抗値を十分高くとれ、プラズマの立上り、とじ込
めに悪影響を及ぼすことのない真空容器内コイル
の保護装置を提供するにある。
本発明は内部にプラズマを収納し、外周を複数
のトロイダルコイルによつて取り囲まれている真
空容器内壁面に沿つて、該真空容器と同心円状に
配置され、該内部の不純物を取り除くために設け
られている真空容器内コイルの周囲を覆い、厚肉
部とベローズ部を交互に配置して形成される保護
管のベローズ部を、前記真空容器内コイルに放射
状に所定間隔をもつて支持固定された複数の支持
部材を介して真空容器内コイルに保護管ベローズ
部の変位を抑えるように支持することにより、所
期の目的を達成するように成したものである。
のトロイダルコイルによつて取り囲まれている真
空容器内壁面に沿つて、該真空容器と同心円状に
配置され、該内部の不純物を取り除くために設け
られている真空容器内コイルの周囲を覆い、厚肉
部とベローズ部を交互に配置して形成される保護
管のベローズ部を、前記真空容器内コイルに放射
状に所定間隔をもつて支持固定された複数の支持
部材を介して真空容器内コイルに保護管ベローズ
部の変位を抑えるように支持することにより、所
期の目的を達成するように成したものである。
以下、図面の実施例に基づいて本発明を詳細に
説明する。尚、符号は従来と同一のものは同符号
を使用する。
説明する。尚、符号は従来と同一のものは同符号
を使用する。
第３図に本発明の真空容器内コイルの保護装置
の一実施例を示し、真空容器内コイル１１を収納
している真空容器２内の断面斜視図である。
の一実施例を示し、真空容器内コイル１１を収納
している真空容器２内の断面斜視図である。
該図において、真空容器２内に収納されている
ダイバータコイル等の真空容器内コイル１１は、
厚肉部１４とベローズ部１５を交互に配置した構
成される保護管１２によつて覆われ、通常、真空
容器内コイル１１はコイル支持材１６により保護
管１２の厚肉部１４に、保護管１２は保護管支持
材１７により真空容器２の内壁にそれぞれ支持固
定されている。そして、本実施例では保護管１２
のベローズ部１５を、真空容器内コイル１１に放
射状に所定間隔をもつて複数取り付けられたスト
ツパー１８で真空容器内コイルに支持するように
している。各ストツパー１８で保護管１２のベロ
ーズ部１５を真空容器内コイル１１に支持する際
には、ベローズ部１５の途中に中間リング１９を
設け、この中間リング１９を各ストツパー１８を
介して真空容器内コイル１１で支持し、ベローズ
部１５の半径方向、または上下方向の変位をおさ
えるようにしている。
ダイバータコイル等の真空容器内コイル１１は、
厚肉部１４とベローズ部１５を交互に配置した構
成される保護管１２によつて覆われ、通常、真空
容器内コイル１１はコイル支持材１６により保護
管１２の厚肉部１４に、保護管１２は保護管支持
材１７により真空容器２の内壁にそれぞれ支持固
定されている。そして、本実施例では保護管１２
のベローズ部１５を、真空容器内コイル１１に放
射状に所定間隔をもつて複数取り付けられたスト
ツパー１８で真空容器内コイルに支持するように
している。各ストツパー１８で保護管１２のベロ
ーズ部１５を真空容器内コイル１１に支持する際
には、ベローズ部１５の途中に中間リング１９を
設け、この中間リング１９を各ストツパー１８を
介して真空容器内コイル１１で支持し、ベローズ
部１５の半径方向、または上下方向の変位をおさ
えるようにしている。
このような本実施例の構成とすることにより、
プラズマ電流の立上り、あるいはその他の電流変
動時に、保護管１２に半径方向、または上下方向
の電磁力が誘導電流により生じた場合でも、保護
管１２のベローズ部１５をストツパー１８を介し
て真空容器内コイル１１で支持しているため、ベ
ローズ部１５に生じる変位をおさえることがで
き、ベローズ部１５の応力発生も抑えられる。即
ち、真空容器内コイル１１の電流に変化が生じた
時、この真空容器内コイル１１とベローズ部１５
との働く逆方向の電磁力が、ベローズ部１５を真
空容器内コイル１１に取り付けられているストツ
パー１８を介して真空容器内コイル１１で支持さ
れることにより、相互に力が相殺されるため、ベ
ローズ部１５に生じる変位が抑えられる。
プラズマ電流の立上り、あるいはその他の電流変
動時に、保護管１２に半径方向、または上下方向
の電磁力が誘導電流により生じた場合でも、保護
管１２のベローズ部１５をストツパー１８を介し
て真空容器内コイル１１で支持しているため、ベ
ローズ部１５に生じる変位をおさえることがで
き、ベローズ部１５の応力発生も抑えられる。即
ち、真空容器内コイル１１の電流に変化が生じた
時、この真空容器内コイル１１とベローズ部１５
との働く逆方向の電磁力が、ベローズ部１５を真
空容器内コイル１１に取り付けられているストツ
パー１８を介して真空容器内コイル１１で支持さ
れることにより、相互に力が相殺されるため、ベ
ローズ部１５に生じる変位が抑えられる。
従つて、保護管１２の強度が増し、ベローズ部
１５を薄くしたり、あるいは長くすることが可能
となるため、保護管１２の電気抵抗値を十分高く
とれ、プラズマの立上り、とじ込めに悪影響を及
ぼすことがなく、良好なプラズマを発生保持せし
める信頼性の高いものを得ることができる。尚、
通常はストツパー１８と中間リング１９の間はギ
ヤツプが保持されているから、真空容器内コイル
１１と保護管１２に熱膨張差による相対変位があ
つても、このギヤツプで吸収することが可能であ
り、より効果的である。
１５を薄くしたり、あるいは長くすることが可能
となるため、保護管１２の電気抵抗値を十分高く
とれ、プラズマの立上り、とじ込めに悪影響を及
ぼすことがなく、良好なプラズマを発生保持せし
める信頼性の高いものを得ることができる。尚、
通常はストツパー１８と中間リング１９の間はギ
ヤツプが保持されているから、真空容器内コイル
１１と保護管１２に熱膨張差による相対変位があ
つても、このギヤツプで吸収することが可能であ
り、より効果的である。
以上説明した本発明の真空容器内コイルの保護
装置によれば、内部にプラズマを収納し、外周を
複数のトロイダルコイルによつて取り囲まれてい
る真空容器内壁面に沿つて、該真空容器と同心円
状に配置され、該内部の不純物を取り除くために
設けられている真空容器内コイルの周囲を覆い、
厚肉部とベローズ部を交互に配置して形成される
保護管のベローズ部を、前記真空容器内コイルに
放射状に所定間隔をもつて支持固定された複数の
支持部材を介して真空容器内コイルに保護管ベロ
ーズ部の変位を抑えるように支持したものである
から、真空容器内コイルとベローズ部に働く逆方
向の電磁力が、ベローズ部を支持部材を介して真
空容器内コイルで支持することにより相互の力が
相殺されるため、ベローズ部の応力がおさえら
れ、保護管の強度が増すため、ベローズ部を薄
く、あるいは長くすることが可能となり、保護管
の電気抵抗値を十分高くとれ、プラズマの立上
り、とじ込めに悪影響を及ぼすことがないので、
此種真空容器内コイルの保護装置に採用する場合
には非常に有効である。
装置によれば、内部にプラズマを収納し、外周を
複数のトロイダルコイルによつて取り囲まれてい
る真空容器内壁面に沿つて、該真空容器と同心円
状に配置され、該内部の不純物を取り除くために
設けられている真空容器内コイルの周囲を覆い、
厚肉部とベローズ部を交互に配置して形成される
保護管のベローズ部を、前記真空容器内コイルに
放射状に所定間隔をもつて支持固定された複数の
支持部材を介して真空容器内コイルに保護管ベロ
ーズ部の変位を抑えるように支持したものである
から、真空容器内コイルとベローズ部に働く逆方
向の電磁力が、ベローズ部を支持部材を介して真
空容器内コイルで支持することにより相互の力が
相殺されるため、ベローズ部の応力がおさえら
れ、保護管の強度が増すため、ベローズ部を薄
く、あるいは長くすることが可能となり、保護管
の電気抵抗値を十分高くとれ、プラズマの立上
り、とじ込めに悪影響を及ぼすことがないので、
此種真空容器内コイルの保護装置に採用する場合
には非常に有効である。
第１図は真空容器内コイルの保護装置が採用さ
れている核融合装置の一例を示す概略正面図、第
２図はその一部断面して示す平面図、第３図は本
発明の真空容器内コイルの保護装置の一実施例を
示す真空容器内の断面斜視図である。 １…ベローズ、２…真空容器、３…トロイダル
コイル、４…ポロイダルコイル、１１…真空容器
内コイル、１２…保護管、１４…保護管厚肉部、
１５…保護管ベローズ部、１６…コイル支持材、
１７…保護管支持材、１８…ストツパー、１９…
中間リング。
れている核融合装置の一例を示す概略正面図、第
２図はその一部断面して示す平面図、第３図は本
発明の真空容器内コイルの保護装置の一実施例を
示す真空容器内の断面斜視図である。 １…ベローズ、２…真空容器、３…トロイダル
コイル、４…ポロイダルコイル、１１…真空容器
内コイル、１２…保護管、１４…保護管厚肉部、
１５…保護管ベローズ部、１６…コイル支持材、
１７…保護管支持材、１８…ストツパー、１９…
中間リング。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 内部にプラズマを収納し、外周が複数のトロ
イダルコイルによつて取り囲まれている真空容器
と、該真空容器の内壁面に沿つて該真空容器と同
心円状に配置され真空容器内部の不純物を取り除
くためのコイルと、該真空容器内コイルの周囲を
覆う厚肉部とベローズ部を交互に配置して形成さ
れる保護管と、該保護管を、その厚肉部を介して
前記真空容器の内壁に支持固定する保護管支持部
材とを備えた真空容器内コイルの保護装置におい
て、前記保護管のベローズ部を、前記真空容器内
コイルに放射状に所定間隔をもつて支持固定され
た複数の支持部材を介して真空容器内コイルに保
護管ベローズ部の変位を抑えるように支持したこ
とを特徴とする真空容器内コイルの保護装置。 ２ 前記保護管のベローズ部の途中に中間リング
を設け、該中間リングを前記ベローズ部の変位を
抑えるように前記支持部材で支持したことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の真空容器内コ
イルの保護装置。 ３ 前記支持部材は真空容器内コイルに放射状に
所定間隔をもつて支持固定されたストツパーであ
り、該ストツパーで前記真空容器内コイルに保護
管のベローズ部を、その変位を抑えるように支持
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項、ま
たは第２項記載の真空容器内コイルの保護装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56064173A JPS57179690A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Protection device for coil in vacuum vessel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56064173A JPS57179690A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Protection device for coil in vacuum vessel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57179690A JPS57179690A (en) | 1982-11-05 |
| JPH026034B2 true JPH026034B2 (ja) | 1990-02-07 |
Family
ID=13250400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56064173A Granted JPS57179690A (en) | 1981-04-30 | 1981-04-30 | Protection device for coil in vacuum vessel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57179690A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS608779A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | 株式会社日立製作所 | ト−ラス型核融合装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5530280B2 (ja) * | 1973-11-07 | 1980-08-09 | ||
| JPS52100097A (en) * | 1976-02-19 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Vacuum vessel for fusion device |
| JPS54107799U (ja) * | 1978-01-17 | 1979-07-28 |
-
1981
- 1981-04-30 JP JP56064173A patent/JPS57179690A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57179690A (en) | 1982-11-05 |
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