JPH0261087A - ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴 - Google Patents
ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴Info
- Publication number
- JPH0261087A JPH0261087A JP21160888A JP21160888A JPH0261087A JP H0261087 A JPH0261087 A JP H0261087A JP 21160888 A JP21160888 A JP 21160888A JP 21160888 A JP21160888 A JP 21160888A JP H0261087 A JPH0261087 A JP H0261087A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bath
- niobium
- halide
- electrodeposition
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- -1 niobium halide Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PEQFPKIXNHTCSJ-UHFFFAOYSA-N alumane;niobium Chemical compound [AlH3].[Nb] PEQFPKIXNHTCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 4
- 239000002635 aromatic organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910001275 Niobium-titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N niobium titanium Chemical compound [Ti].[Nb] RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DSJRVTLPTRAHQN-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methyl-1h-imidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+]=1C=CNC=1C DSJRVTLPTRAHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910013470 LiC1 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910001281 superconducting alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091006629 SLC13A2 Proteins 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K niobium(3+);trichloride Chemical compound Cl[Nb](Cl)Cl VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000657 niobium-tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本性は、ハロゲン化ニオブとアルキルピリジニウムハロ
ゲン化物又はアルキルイミダゾリウムハロゲン化物を混
合した浴、あるいはこれらにｌ）ロゲン化アルミ又はハ
ロゲン化チタンを加えた浴、あるいはさらにこれらに有
機溶媒あるいは他の塩を添加した浴を用い、室温あるい
はそれに近い温度で電解することによって、陰極に純ニ
オブあるいはニオブ−アルミ合金又はニオブ−チタン合
金を得る方法を提供するものである。
ゲン化物又はアルキルイミダゾリウムハロゲン化物を混
合した浴、あるいはこれらにｌ）ロゲン化アルミ又はハ
ロゲン化チタンを加えた浴、あるいはさらにこれらに有
機溶媒あるいは他の塩を添加した浴を用い、室温あるい
はそれに近い温度で電解することによって、陰極に純ニ
オブあるいはニオブ−アルミ合金又はニオブ−チタン合
金を得る方法を提供するものである。
従来技術
従来のニオブおよびニオブ合金を得る方法は、はとんど
すべて最終的には乾式法であり、したがって線材などの
作製は非常に困難であった。しかるに本性ではこれらが
電着で得られ、従って線材などを生産する場合も簡単に
、しかも大量生産性高（操業でき、産業上非常に有効な
ものである。
すべて最終的には乾式法であり、したがって線材などの
作製は非常に困難であった。しかるに本性ではこれらが
電着で得られ、従って線材などを生産する場合も簡単に
、しかも大量生産性高（操業でき、産業上非常に有効な
ものである。
また、超伝導合金Ｎｂ３＾１、ＮｂＴｉ、 Ｎｂ３Ｓｎ
等の作製も、従来法の乾式法では非常に複雑であるが、
電解法では、電析物の組成、結晶形態をコントロルする
ことが容易であるため、これら超伝導合金を作製する面
でも、本性は非常に画期的なものである。
等の作製も、従来法の乾式法では非常に複雑であるが、
電解法では、電析物の組成、結晶形態をコントロルする
ことが容易であるため、これら超伝導合金を作製する面
でも、本性は非常に画期的なものである。
発明の目的
本発明の目的は、常温型溶融塩浴を用い、低１１ｉで、
簡単な方法で大量生産性高く、純度の高いニオブならび
にニオブ合金を得ようとするものである。
簡単な方法で大量生産性高く、純度の高いニオブならび
にニオブ合金を得ようとするものである。
発明の構成
本発明は、ハロゲン化ニオブ１〜７０ｍｏｌ％とアルキ
ルピリジニウムハロゲン化物又はアルキルイミダゾリウ
ムハロゲン化物２０〜８０ｍｏｌ％等からなる電着浴、
あるいはハロゲン化アルミ又はハロゲン化チタンを加え
た浴、さらにこれらの浴にアルカリハロゲン化物を加え
て融点を下げた電着浴、さらにはこれらに芳香族系有機
溶媒や塩を加えた電着浴を用い、ジェット噴流あるいは
超音波照射下で、直流又はパルス電流により、浴温０〜
１５０℃、電流密度０．１〜３０Ａ／ｄａ２の電解条件
で、陰極に純度の高いニオブあるいはニオブ合金な辱る
ことを特徴とする電着法に関するものである。
ルピリジニウムハロゲン化物又はアルキルイミダゾリウ
ムハロゲン化物２０〜８０ｍｏｌ％等からなる電着浴、
あるいはハロゲン化アルミ又はハロゲン化チタンを加え
た浴、さらにこれらの浴にアルカリハロゲン化物を加え
て融点を下げた電着浴、さらにはこれらに芳香族系有機
溶媒や塩を加えた電着浴を用い、ジェット噴流あるいは
超音波照射下で、直流又はパルス電流により、浴温０〜
１５０℃、電流密度０．１〜３０Ａ／ｄａ２の電解条件
で、陰極に純度の高いニオブあるいはニオブ合金な辱る
ことを特徴とする電着法に関するものである。
本発明においては、種々ハロゲン化物を用いているが、
操作性、価格等からは塩化物が有利であり、粘性、導電
率等を考えると臭化物が有利である。
操作性、価格等からは塩化物が有利であり、粘性、導電
率等を考えると臭化物が有利である。
浴中のハロゲン化ニオブ濃度としては１〜７０１ｍ ｏ
ｌ ％ カ望ましい。 （ハロゲン化アルミ、ハロゲ
ン化チタンの加わりた系では、それらの濃度を考慮する
。）金属塩濃度をあまり低（しては、浴中のアルキルピ
リジニウムカチオン等の濃度が高くなり、ニオブ等の析
出が困難となる。逆に、７０ｍｏｌ％以上では、融点が
高（なってしまう。また、本発明の溶融塩浴への芳香族
系有機溶媒の添加については、これをｌＯ〜７５ｖｏ１
％加えることによりて俗の粘性を著しく小さ（させ、浴
の導電率を向上させ帰る。このため高い電流密度での電
解が可能となる。しかし、有機溶媒の添加が１Ｏｖｏ１
％以下では、はとんど影響がな（（ただし、少量添加で
、光沢剤的な役割を果す場合もある）、８０ｖｏ１％以
上では、金属イオン濃度が薄くなり過ぎ、電流効率が著
しく減少する。
ｌ ％ カ望ましい。 （ハロゲン化アルミ、ハロゲ
ン化チタンの加わりた系では、それらの濃度を考慮する
。）金属塩濃度をあまり低（しては、浴中のアルキルピ
リジニウムカチオン等の濃度が高くなり、ニオブ等の析
出が困難となる。逆に、７０ｍｏｌ％以上では、融点が
高（なってしまう。また、本発明の溶融塩浴への芳香族
系有機溶媒の添加については、これをｌＯ〜７５ｖｏ１
％加えることによりて俗の粘性を著しく小さ（させ、浴
の導電率を向上させ帰る。このため高い電流密度での電
解が可能となる。しかし、有機溶媒の添加が１Ｏｖｏ１
％以下では、はとんど影響がな（（ただし、少量添加で
、光沢剤的な役割を果す場合もある）、８０ｖｏ１％以
上では、金属イオン濃度が薄くなり過ぎ、電流効率が著
しく減少する。
一方、ハロゲン化ニオブ、ハロゲン化アルミ、ハロゲン
化チタン、アルキルピリジニウムハロゲン化物、アルキ
ルイミダゾリウムハロゲン化物はいずれも水分を嫌い、
また溶融塩は０２を嫌うため、できるだけ乾燥不活性気
体雰囲処、と（に＾「又はＮ２雰囲気とすることが望ま
しい。電源としては直流又はパルス電流を用いるが、パ
ルス電流の方が高電流密度にできる。超音波照射、ジェ
ット噴流を用いることによっても、電流密度を上げるこ
とができる。また、浴温も高いほうが高電流密度にでき
るが、電析形態、エネルギー効率の面からの判断も必要
である。さらに、ＬｉＣ１、ＮａＣ１、ＫＣＩ等の塩を
加えるΣとにより、液の導電率を上げ、電流密度を上げ
ることができるが、アルカリ金属等の析出を考慮する必
要がある。他方、陽極については、可溶性陽極を用いる
方法と、不溶性陽極を用いる方法がある。前者について
は、不純物の浴への溶解度等の関係から、より不純物の
多い陽極を用いたり、より純度の高い電着物を得るには
、隔膜を用いて不純物の陰極への拡散を防ぐのが有効で
ある。また、後者については、陽極からハロゲンがスを
発生させつつ、浴にハロゲン化金属塩を補給し、陰極に
純度の高い電着物を簿ることができる。
化チタン、アルキルピリジニウムハロゲン化物、アルキ
ルイミダゾリウムハロゲン化物はいずれも水分を嫌い、
また溶融塩は０２を嫌うため、できるだけ乾燥不活性気
体雰囲処、と（に＾「又はＮ２雰囲気とすることが望ま
しい。電源としては直流又はパルス電流を用いるが、パ
ルス電流の方が高電流密度にできる。超音波照射、ジェ
ット噴流を用いることによっても、電流密度を上げるこ
とができる。また、浴温も高いほうが高電流密度にでき
るが、電析形態、エネルギー効率の面からの判断も必要
である。さらに、ＬｉＣ１、ＮａＣ１、ＫＣＩ等の塩を
加えるΣとにより、液の導電率を上げ、電流密度を上げ
ることができるが、アルカリ金属等の析出を考慮する必
要がある。他方、陽極については、可溶性陽極を用いる
方法と、不溶性陽極を用いる方法がある。前者について
は、不純物の浴への溶解度等の関係から、より不純物の
多い陽極を用いたり、より純度の高い電着物を得るには
、隔膜を用いて不純物の陰極への拡散を防ぐのが有効で
ある。また、後者については、陽極からハロゲンがスを
発生させつつ、浴にハロゲン化金属塩を補給し、陰極に
純度の高い電着物を簿ることができる。
以下に、本発明の詳細を、実施例で示す。
なお、いずれの場合も雰囲気はＮ２又はＡｒとし、陰極
板には銅板又は白金板（厚さ０．５ｍｍ）を用いた。こ
れらの前処理は、常法による電解脱指、酸洗いとし、そ
の後メタノール、ア七トンで洗って乾燥後、直に電解浴
に入れて電解を行なった。
板には銅板又は白金板（厚さ０．５ｍｍ）を用いた。こ
れらの前処理は、常法による電解脱指、酸洗いとし、そ
の後メタノール、ア七トンで洗って乾燥後、直に電解浴
に入れて電解を行なった。
実施例１
塩化アルミ：ブチルピリノニウムクロリド（ＢＰＣ）：
五塩化ニオブ＝１４： ７： Ｉの割合になるよう、ま
ず塩化アルミと五塩化ニオブを乳鉢で十分混合し、ＲＰ
Ｃに少量ずつ添加して作りな液を電解浴として、 Ｃｕ
板を陰極、ニオブ・アルミ合金を陽極に用い、４０℃、
Ｉ Ａ／ｄ＋ａ２で８時間の電解を行ったところ、ち密
な結晶を有するニオブ・アルミ合金電着が帰られた。こ
の電着物のＸ線回折を行ったところ、Ｎｂ３＾１のパタ
ーンが帰られた。
五塩化ニオブ＝１４： ７： Ｉの割合になるよう、ま
ず塩化アルミと五塩化ニオブを乳鉢で十分混合し、ＲＰ
Ｃに少量ずつ添加して作りな液を電解浴として、 Ｃｕ
板を陰極、ニオブ・アルミ合金を陽極に用い、４０℃、
Ｉ Ａ／ｄ＋ａ２で８時間の電解を行ったところ、ち密
な結晶を有するニオブ・アルミ合金電着が帰られた。こ
の電着物のＸ線回折を行ったところ、Ｎｂ３＾１のパタ
ーンが帰られた。
実施例２
ＲＰＣ１７，２ｇと五塩化ニオブＩｇを十分混合した後
、四塩化チタン２！、９鳳１に溶解させた液を電解浴と
し、陰極にＣｕ板、陽極にＮｂＴｉ合金を用いて、７０
℃、ｌ＾／ｄｍ２で７時間電解を行ったところ、ち密な
結晶を有するＮｂＴｉ合金電着が得られた。
、四塩化チタン２！、９鳳１に溶解させた液を電解浴と
し、陰極にＣｕ板、陽極にＮｂＴｉ合金を用いて、７０
℃、ｌ＾／ｄｍ２で７時間電解を行ったところ、ち密な
結晶を有するＮｂＴｉ合金電着が得られた。
なお、四塩化チタンの代わりに三塩化チタンを用いても
、はぼ同様の結果が帰られた。
、はぼ同様の結果が帰られた。
実施例３
メチルエチルイミダゾリウムクロリド（ＭＥＩＣ）：五
塩化ニオブ＝２：ｌを電解浴として、陰極にＰｔ板、ｒ
４ｈｔ＠ニＮｂ棒ヲ用イテ、４０℃、ｌ＾／ｄＩ１１３
テ５時間電解ヲ行ったところ、陰極に純Ｎｂ電着が簿ら
れた。
塩化ニオブ＝２：ｌを電解浴として、陰極にＰｔ板、ｒ
４ｈｔ＠ニＮｂ棒ヲ用イテ、４０℃、ｌ＾／ｄＩ１１３
テ５時間電解ヲ行ったところ、陰極に純Ｎｂ電着が簿ら
れた。
実施例４
上記実施例１．２．３において、五塩化ニオブの代わり
に三塩化ニオブを用いても、はぼ同様の結果が帰られた
。
に三塩化ニオブを用いても、はぼ同様の結果が帰られた
。
実施例５
上記実施例１．２．４において、ＲＰＣの代わりに菖Ｅ
ｔｃを用いたところ、粘性、融点ともに下り、浴温度を
２０〜４０°Ｃ下げて電着でき、結果もほぼ同様であっ
た。
ｔｃを用いたところ、粘性、融点ともに下り、浴温度を
２０〜４０°Ｃ下げて電着でき、結果もほぼ同様であっ
た。
実施例６
上記実施例１の浴に３０ｖｏ１％のベンゼンを加え、常
温、ｌ＾／ｄｍ２で４時間電解を行ったところ、ニオブ
・アルミ合金電着が得られた。
温、ｌ＾／ｄｍ２で４時間電解を行ったところ、ニオブ
・アルミ合金電着が得られた。
実施例７
上記実施例２の浴に１％ＬｉＣ１を加えた系を電解浴と
して、上記実施例２と同様の条件で電解を行つたところ
、１尋られた結果も、実施例２と同様であった。
して、上記実施例２と同様の条件で電解を行つたところ
、１尋られた結果も、実施例２と同様であった。
実施例８
上記実施例６の浴でノエツト噴流を用い、常ｒＩＬで、
電流密度は２０＾／ｄｍ２として３０分間電解を行った
ところ、ち密な結晶を有するニオブ・アルミ合金電着が
得られた。
電流密度は２０＾／ｄｍ２として３０分間電解を行った
ところ、ち密な結晶を有するニオブ・アルミ合金電着が
得られた。
実施例９
上記実施例２の浴で超音波照射を行い、浴温は７０°Ｃ
１電流密度は２０Ａ／ｄｍ２として３０分間電解を行っ
たところ、ＮｂＴｉ合金電着が得られた。
１電流密度は２０Ａ／ｄｍ２として３０分間電解を行っ
たところ、ＮｂＴｉ合金電着が得られた。
実施例１０
上記実施例２の浴を用い、浴温は８０℃、ｄｕｔｙｃｙ
ｃｌｅ：０．１． ＴｌＯ＋ｅｓｅｃ、平均電流密度ｌ
Ａ／ｄ１１２のパルス電解を８時間行ったところ、同様
にＮｂＴｉ合金電着が得られた。
ｃｌｅ：０．１． ＴｌＯ＋ｅｓｅｃ、平均電流密度ｌ
Ａ／ｄ１１２のパルス電解を８時間行ったところ、同様
にＮｂＴｉ合金電着が得られた。
実施例１１
上記実施例２の浴を用い、浴温７０°Ｃ１電流密度は５
０Ａ／ｄａ２で電解を行ったところ、非常に剥離しやす
いＮｂＴｉ合金電着しか帰られなかった。
０Ａ／ｄａ２で電解を行ったところ、非常に剥離しやす
いＮｂＴｉ合金電着しか帰られなかった。
なお、実施例１〜１０において、臭化物を用いると一般
的に融点が下がった池、上とほぼ同様の結果が帰られた
。
的に融点が下がった池、上とほぼ同様の結果が帰られた
。
以上述べてきたごと（、本研究は低温で、簡単な方法で
純度の高いニオブおよびニオブ合金電着を辱る方法を堤
供したものである。
純度の高いニオブおよびニオブ合金電着を辱る方法を堤
供したものである。
Claims (8)
- （１）常温型溶融塩浴を用いることを特徴とするニオブ
およびニオブ合金の電着法。 - （２）無水ハロゲン化ニオブ（ＮｂＸ＿３、ＮｂＸ＿４
、ＮｂＸ＿５、Ｘ：Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）２０〜８０ｍｏｌ
％とアルキルピリジニウムハロゲン化物あるいはアルキ
ルイミダゾリウムハロゲン化物（アルキル基：ブチル、
プロピル、エチル、メチル）からなる溶融塩電解浴を用
い、陰極に金属ニオブを得ることを特徴とするニオブ電
着法。 - （３）上記特許請求の範囲第二項記載の電着法において
、さらに無水ハロゲン化アルミあるいは無水ハロゲン化
チタンを溶解させた浴から、ニオブ−アルミ合金あるい
はニオブ−チタン合金を電着させることを特徴とするニ
オブ合金の電着法および電着浴。 - （４）上記特許請求の範囲第一〜三項記載の浴に、芳香
族系有機溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）の
一種またはそれ以上を配合した電着浴。 - （５）上記特許請求の範囲第一〜三項に記載の電着浴に
、アルカリハロゲン化物などの塩を加えて、浴の融点を
下げるとともに、粘度を下げ、導電性を上げた電着浴。 - （６）上記特許請求の範囲第一〜五項に記載の電着浴を
用い、直流またはパルス電流により、浴温０〜１５０℃
、電流密度０．１〜３０Ａ／ｄｍ＾２で電解することを
特徴とする電着法。 - （７）上記特許請求の範囲第六項の電着法において、超
音波照射およびジェット噴流の一方あるいは双方を用い
ることを特徴とする電着法。 - （８）上記特許請求の範囲第六、七項の電解法において
、隔膜を用いることによつて陽極から陰極への不純物等
、ならびに陰極生成物の陽極への拡散を防止することを
特徴とする電着法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21160888A JPH0261087A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21160888A JPH0261087A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261087A true JPH0261087A (ja) | 1990-03-01 |
Family
ID=16608581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21160888A Pending JPH0261087A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0261087A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006057231A1 (ja) * | 2004-11-24 | 2008-06-05 | 住友電気工業株式会社 | 溶融塩浴、析出物および金属析出物の製造方法 |
| JP2010525161A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ネーデルランドセ オルガニサティエ フォール トエゲパストナトールヴェテンシャッペリク オンデルゾエク ティエヌオー | バリヤー層及びその製造方法 |
| JP2010248597A (ja) * | 2009-04-20 | 2010-11-04 | Tosoh Corp | 金属インジウムの製造方法 |
| RU2747058C1 (ru) * | 2020-11-18 | 2021-04-23 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт высокотемпературной электрохимии Уральского отделения Российской Академии наук | Способ электрохимического осаждения ниобиевых покрытий из бромидных расплавов |
-
1988
- 1988-08-27 JP JP21160888A patent/JPH0261087A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006057231A1 (ja) * | 2004-11-24 | 2008-06-05 | 住友電気工業株式会社 | 溶融塩浴、析出物および金属析出物の製造方法 |
| JP4636563B2 (ja) * | 2004-11-24 | 2011-02-23 | 住友電気工業株式会社 | 溶融塩浴および金属析出物の製造方法 |
| US9512530B2 (en) | 2004-11-24 | 2016-12-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Molten salt bath, deposit, and method of producing metal deposit |
| JP2010525161A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ネーデルランドセ オルガニサティエ フォール トエゲパストナトールヴェテンシャッペリク オンデルゾエク ティエヌオー | バリヤー層及びその製造方法 |
| JP2010248597A (ja) * | 2009-04-20 | 2010-11-04 | Tosoh Corp | 金属インジウムの製造方法 |
| RU2747058C1 (ru) * | 2020-11-18 | 2021-04-23 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт высокотемпературной электрохимии Уральского отделения Российской Академии наук | Способ электрохимического осаждения ниобиевых покрытий из бромидных расплавов |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Zhao et al. | Electrodeposition of aluminium from nonaqueous organic electrolytic systems and room temperature molten salts | |
| White et al. | The chemistry and electrochemistry associated with the electroplating of group VIA transition metals | |
| US3309292A (en) | Method for obtaining thick adherent coatings of platinum metals on refractory metals | |
| Ett et al. | Pulse current plating of TiB2 in molten fluoride | |
| CN113846353A (zh) | 一种使用极性非质子有机溶剂制备铝镁合金的方法 | |
| JPH0261087A (ja) | ニオブおよびニオブ合金の電着法およびその電着浴 | |
| Sibert et al. | Electrodeposition of titanium on base metals | |
| US1993623A (en) | Electrodeposition of platinum metals | |
| EP0323520B1 (en) | Process for electroplating metal plate with aluminum | |
| US2690422A (en) | Electroplating of germanium | |
| CN106065487A (zh) | 熔盐体系中脉冲电沉积制备SiC纤维增强镁基复合材料先驱丝的方法 | |
| JPH0196390A (ja) | 電解法による高純度クロムの作製法およびその電解浴 | |
| JPH01104791A (ja) | アルミニウム電解箔の製造方法 | |
| JP2540110B2 (ja) | 電気アルミニウムめっき方法 | |
| US4483752A (en) | Valve metal electrodeposition onto graphite | |
| JPH0578883A (ja) | ニオブ合金電着浴及び電着法 | |
| EP0148122A1 (en) | Coating for metallic substrates, method of production and use of the coating | |
| Sheshadri et al. | The effect of superimposed ac on dc in electrocrystallization of copper on copper single crystal planes | |
| JPH0527714B2 (ja) | ||
| CN114059113A (zh) | 一种有机溶剂体系电沉积制备铝锡合金镀层的方法 | |
| JPH0280589A (ja) | 電気タングステンめっき浴およびその浴によるめっき方法 | |
| Srivastava et al. | Electrodeposition of Nickel from N, N-dimethylformamide | |
| JP2005163096A5 (ja) | ||
| JP3774799B2 (ja) | 酸化インジウム膜電解形成用組成物 | |
| Hisano et al. | The Electrodeposition of Aluminum from a Solution of Aluminum Bromide in N, N-Dimethyl Aniline |