JPH0261838A - 光ディスク製造用ガラス原盤 - Google Patents
光ディスク製造用ガラス原盤Info
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- JPH0261838A JPH0261838A JP21146588A JP21146588A JPH0261838A JP H0261838 A JPH0261838 A JP H0261838A JP 21146588 A JP21146588 A JP 21146588A JP 21146588 A JP21146588 A JP 21146588A JP H0261838 A JPH0261838 A JP H0261838A
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- Japan
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- nickel
- polished
- replica
- central hole
- glass master
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク等の読み出し専用光ディスク、画像ファイル、文書フ
ァイル、コンピューター外部メモリー等に用いられる書
き込み可能あるいは書き換え可能光ディスクを製造する
ために用いられるガラス原盤に関する。
ク等の読み出し専用光ディスク、画像ファイル、文書フ
ァイル、コンピューター外部メモリー等に用いられる書
き込み可能あるいは書き換え可能光ディスクを製造する
ために用いられるガラス原盤に関する。
研磨ガラス板にレジストをコートシ、レーザービームで
露光、現像してトラッキング溝や信号に対応するピット
を形成し、光ディスクの原型を作るのが光ディスクのマ
スタリング工程である。ここで用いられるガラス原盤は
通常直径２００〜３５０鶏、厚さが６〜１０＋＋ｌＩｍ
程度の円板で、レーデ露光する時のターンテーブルへの
原盤の固定方法によって、貫通中心孔、非貫通中心孔を
有し、あるいは孔なしの原盤が用いられる。表面および
裏面は鏡面に仕上げられている０表面の欠陥はスタンバ
−２光ディスク基板へ順次転写されるので、表面は欠陥
のないよう限界°まで研磨されるのが通常で、ダイヤモ
ンド触針法による表面粗度の検出限界に近いＩＯＡ以下
に仕上げられている。円板の上下外周端部には１．０調
以下のチャンファ−あるいは丸味を設けて、偶発的な部
分的衝撃によってかけ、円板全体の破損の開始点となる
危険をさけるのが通常である。中心孔がある場合はその
上下端部も同様に仕上げる。従来技術においては外周側
面及び中心孔壁面はチャンファ−あるいは丸味の部分も
含め研磨せず、粗面のまま使用するのが通常であったＧ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし上述の従来技術ではガラス原盤を酸化セリウム等
の研磨剤で表面研磨した後、洗浄工程で研磨剤微粒子が
ガラス原盤の外周側面及び中心孔内壁の粗面部分に付着
残存し、これが後の工程でガラス原盤表面に移動、付着
し、作成スタンパ−の欠陥の原因になっていた。
露光、現像してトラッキング溝や信号に対応するピット
を形成し、光ディスクの原型を作るのが光ディスクのマ
スタリング工程である。ここで用いられるガラス原盤は
通常直径２００〜３５０鶏、厚さが６〜１０＋＋ｌＩｍ
程度の円板で、レーデ露光する時のターンテーブルへの
原盤の固定方法によって、貫通中心孔、非貫通中心孔を
有し、あるいは孔なしの原盤が用いられる。表面および
裏面は鏡面に仕上げられている０表面の欠陥はスタンバ
−２光ディスク基板へ順次転写されるので、表面は欠陥
のないよう限界°まで研磨されるのが通常で、ダイヤモ
ンド触針法による表面粗度の検出限界に近いＩＯＡ以下
に仕上げられている。円板の上下外周端部には１．０調
以下のチャンファ−あるいは丸味を設けて、偶発的な部
分的衝撃によってかけ、円板全体の破損の開始点となる
危険をさけるのが通常である。中心孔がある場合はその
上下端部も同様に仕上げる。従来技術においては外周側
面及び中心孔壁面はチャンファ−あるいは丸味の部分も
含め研磨せず、粗面のまま使用するのが通常であったＧ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし上述の従来技術ではガラス原盤を酸化セリウム等
の研磨剤で表面研磨した後、洗浄工程で研磨剤微粒子が
ガラス原盤の外周側面及び中心孔内壁の粗面部分に付着
残存し、これが後の工程でガラス原盤表面に移動、付着
し、作成スタンパ−の欠陥の原因になっていた。
さらにニッケルｘｍ後、ニッケルスタンノ臂をガラス原
盤から剥離する際、ガラス原盤側面の粗面に付着形成さ
れたニッケル膜が容易に剥れず、ガラス原盤を破損する
ことが多く、ガラス盤を再研磨して再使用する可能性が
なくなっていた。
盤から剥離する際、ガラス原盤側面の粗面に付着形成さ
れたニッケル膜が容易に剥れず、ガラス原盤を破損する
ことが多く、ガラス盤を再研磨して再使用する可能性が
なくなっていた。
発明者等は鋭意検討の結果上記問題点を解決するための
手段を発明した。すなわち上記のガラス原盤の外周側面
及び中心孔内壁の粗面を鏡面に研磨することによって、
研磨剤の微粒子が残存することもなく、電鋳後のニッケ
ル膜の剥離が容易となった。
手段を発明した。すなわち上記のガラス原盤の外周側面
及び中心孔内壁の粗面を鏡面に研磨することによって、
研磨剤の微粒子が残存することもなく、電鋳後のニッケ
ル膜の剥離が容易となった。
粗面の研磨には酸化セリウムの水中懸濁剤を用いて合成
皮革で磨擦する方法、サンドベーノや−で徐々に粗から
密に磨き上げる方法等ガラスを研磨するための公知の方
法を用い得る。研磨具あるいは研磨対象物を回転あるい
は並進させ研−磨を容易にし、あるいは自動化すること
も生産の能力の観点から好ましい。鏡面の必要な円滑度
は視察によっても判断可能であるが、ダイヤモンド触針
式の表面粗さ計による測定によ、９０．ＯＩＳ以下であ
ることが好ましい。
皮革で磨擦する方法、サンドベーノや−で徐々に粗から
密に磨き上げる方法等ガラスを研磨するための公知の方
法を用い得る。研磨具あるいは研磨対象物を回転あるい
は並進させ研−磨を容易にし、あるいは自動化すること
も生産の能力の観点から好ましい。鏡面の必要な円滑度
は視察によっても判断可能であるが、ダイヤモンド触針
式の表面粗さ計による測定によ、９０．ＯＩＳ以下であ
ることが好ましい。
外周及び中心孔に設けたチャンファ−あるいは丸味の部
分も研磨し、鏡面に相当する円滑さを持たせることが本
発明の目的を達成するために好ましい０ 以下に実施例を図を用いてよシ具体的に説明する。
分も研磨し、鏡面に相当する円滑さを持たせることが本
発明の目的を達成するために好ましい０ 以下に実施例を図を用いてよシ具体的に説明する。
第１図は本発明のガラス原盤の断面の概略図である。直
径２００ ｔｒｒｍ 、中心孔の径１０ ＋ｍａ 、厚
さ６閣のソーダガラスで、表面１．裏面１′、外側面２
゜中心孔内壁面３及び外周及び中心孔上下端のチャンフ
ァ−（０，５Ｃ）が鏡面に研磨されている。このガラス
原盤を洗浄乾燥後、表面に均一なレジスト膜を形成させ
、ターンテーブル上でレーデ−ビームによシ走査露光し
、現像して、巾０．６μ、深さ８００ Ｘ＋ピッチ１．
６μのトラッキング溝をスパイラルに形成させた。（第
一２図５）このレジストマスター上に無電解ニッケル法
によシ導電膜を形成させ、更にニッケル電鋳をすること
によシ０．３１厚さのニッケルレプリカを得た。（第２
図６）レプリカの裏面を研磨し、外径トリミング、中心
孔形成を所定の寸法で行ないスタンパを得た。
径２００ ｔｒｒｍ 、中心孔の径１０ ＋ｍａ 、厚
さ６閣のソーダガラスで、表面１．裏面１′、外側面２
゜中心孔内壁面３及び外周及び中心孔上下端のチャンフ
ァ−（０，５Ｃ）が鏡面に研磨されている。このガラス
原盤を洗浄乾燥後、表面に均一なレジスト膜を形成させ
、ターンテーブル上でレーデ−ビームによシ走査露光し
、現像して、巾０．６μ、深さ８００ Ｘ＋ピッチ１．
６μのトラッキング溝をスパイラルに形成させた。（第
一２図５）このレジストマスター上に無電解ニッケル法
によシ導電膜を形成させ、更にニッケル電鋳をすること
によシ０．３１厚さのニッケルレプリカを得た。（第２
図６）レプリカの裏面を研磨し、外径トリミング、中心
孔形成を所定の寸法で行ないスタンパを得た。
剥離はきわめてスムースに行なえ、このスタンパを用い
て成形したディスク基板の欠陥率は、１０枚について測
定し、１〜５ Ｘ １０””の範囲であった。
て成形したディスク基板の欠陥率は、１０枚について測
定し、１〜５ Ｘ １０””の範囲であった。
側面を研磨しない以外はすべて同条件でスタンパを作成
した。ガラス原盤からスタンパを剥離する際に外周及び
中心孔に目視で判断可能な傷がつき、原盤表面上にも、
傷あるいは研磨剤粒子に由来すると思われる欠陥がふえ
、このスタンパ９−を用いて射出成形したディスク基板
の欠陥率は、１０枚について測定し、１〜６ Ｘ １０
−’の範囲であった。
した。ガラス原盤からスタンパを剥離する際に外周及び
中心孔に目視で判断可能な傷がつき、原盤表面上にも、
傷あるいは研磨剤粒子に由来すると思われる欠陥がふえ
、このスタンパ９−を用いて射出成形したディスク基板
の欠陥率は、１０枚について測定し、１〜６ Ｘ １０
−’の範囲であった。
かくして光ディスクマスタリング用ガラス原盤の外周側
面及び中心孔壁面を研磨することによって、研磨剤が残
留して欠陥形成の原因となることもなく、原盤からの電
鋳物の剥離も容易となシ、この工程でガラス盤を傷つけ
再生不能とすることが極めて少なくなった。
面及び中心孔壁面を研磨することによって、研磨剤が残
留して欠陥形成の原因となることもなく、原盤からの電
鋳物の剥離も容易となシ、この工程でガラス盤を傷つけ
再生不能とすることが極めて少なくなった。
第１図は代表的な研磨ガラス原盤の断面の概略図であシ
、第２図はこのガラス原盤上にニッケル電鋳を行なった
後の断面の概略図である。 １・・・研磨ガラス表面、１′・・・研磨ガラス裏面、
２・・・外周側面、３・・・中心孔壁面、４・・・ソー
ダガラス、５・・・レノストグループ、６・・・ニッケ
ル電鋳レプリカ。
、第２図はこのガラス原盤上にニッケル電鋳を行なった
後の断面の概略図である。 １・・・研磨ガラス表面、１′・・・研磨ガラス裏面、
２・・・外周側面、３・・・中心孔壁面、４・・・ソー
ダガラス、５・・・レノストグループ、６・・・ニッケ
ル電鋳レプリカ。
Claims (1)
- 光ディスクのマスタリング工程において使用するガラス
原盤において、外周側面及び中心孔壁面が鏡面であるこ
とを特徴とする光ディスク製造用ガラス原盤
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211465A JP2519987B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光ディスク製造用ガラス原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211465A JP2519987B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光ディスク製造用ガラス原盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261838A true JPH0261838A (ja) | 1990-03-01 |
| JP2519987B2 JP2519987B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=16606388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63211465A Expired - Lifetime JP2519987B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光ディスク製造用ガラス原盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2519987B2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63211465A patent/JP2519987B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2519987B2 (ja) | 1996-07-31 |
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