JPH0262252B2

JPH0262252B2 -

Info

Publication number: JPH0262252B2
Application number: JP61132613A
Authority: JP
Inventors: Ei Resuperansu Furanshisu
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1985-06-06
Filing date: 1986-06-06
Publication date: 1990-12-25
Also published as: ZA864253B; JPS6257549A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、眼科治療に関し、特に角膜の外面へ
の手術に関する。

〔従来の技術〕

人間による手術では、角膜移植や角質切開（ケ
ラトトミー）を含め、切開器具の熟練した操作を
伝統的に要求されてきた。

しかし、たとえ鋭く切れる刃を用いても、角膜
の表面に単にその刃を侵入させることは、その侵
入によつて創口の両側に移動させられた体細胞
に、押し分けたような水平方向の圧力を与えるこ
とを意味する。

このような、水平方向の圧力は、創口の両側の
複数の細胞層に傷を与え、傷を治ゆする能力を大
きく損なわせ、結果的に、傷跡組織を作つてしま
うことになる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

そこで、発明者の出願した特願昭59―239583号
では、眼科治療、特に、角膜表面の治療における
種々の有用なレーザ放射波長の効果について背景
説明がされている。

紫外線波長での放射は、その光子エネルギーが
高いことから望ましいものと説明されている。こ
の光子エネルギーは細胞組織へのインパクトが非
常に効率的であり、組織の分子を、光インパクト
により分解し、結果的に、光分解による組織除去
が行なわれる。

照射された表面における分子は、残存している
その下層を熱つせられることなく、より小さな揮
発性断片に破壊される。この除去機構は光化学的
であり、即ち、分子間の内部結合の直接破壊と云
える。

光加熱および／または光凝固の効果は、紫外線
波長での除去においては、特徴的なことでもなけ
れば、注目すべきことでもない。そして、光分解
による除去に隣接する細胞の損傷は、ほとんど問
題になるものでなない。

この除去処理の強度段階は、紫外線波長（約
400nmまたはそれ以下の範囲内の波長）での放射
露光の場合、１ミクロン（1μ）の深さを切り込
むのに１ジユール／cm²のエネルギー密度を要す
る。

先の特許出願では、角膜の表面を刻むために、
制御されたパターンで、その表面にレーザビーム
を走査し、その表面に新たな曲率を添え、光学上
の欠陥のある眼の光学的矯正を達成する技術が開
示されている。

しかしながら、斯かる技術を実行するための走
査及び走査制御には、比較的複雑で且つ高価であ
るという欠点がある。

そこで、本発明の目的は角膜の外面を外科手術
するために改良された装置および技術を提供する
ことにある。

本発明の他の目的は、角膜の外面の外科治療に
よる眼の光学的特性を外科的に矯正する装置及び
技術を単純化し、そのコストを下げることであ
る。

本発明の特別な目的は、眼の近視、遠視およ
び／または乱視状態を減らす外科技術および装置
を提供することである。

本発明の他の特別な目的は、角膜移植手術の改
良された外科技術を提供することである。

本発明のさらなる特別な目的は、角膜の外科処
置における紫外線照射を安全に行う自動装置を提
供することである。

本発明のもう一つの目的は、走査技術又は走査
装置を用いることなく上述の目的を達成すること
である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、角膜、即ち、上皮、ボーマン
膜、および基質レベルを光分解により除去するこ
とができる程度のエネルギーで照射される紫外線
によつて特徴づけられる無走査レーザに対して、
眼球の位置を効果的に固定する装置を用いて、上
述の目的を達成する。

照射フラツクス密度と露光時間は、所望の除去
深さに到達するように制御される。

先の出願で開示した走査処理とは異なり、本発
明の刻み動作は、与えられた処理中に、投影され
たレーザスポツトのサイズの変化を制御すること
によつて行なわれ、そのスポツトサイズの範囲
は、治療すべき全範囲を覆う最大値から、予定さ
れた最小許容値までである。

１つの実施例として、光学的投影路上の可変焦
点レンズは、スポツトサイズを変化させる手段で
あり、そして、他の実施例としては、指標マスク
または鏡が採用されている。この２つの実施例で
は、スポツトサイズの機能であるその重要な時間
の割り当ては、光学的に欠陥のある角膜の曲率を
予め探知し、最終的に望むべき光学的に正常な角
膜に成るようにすることである。

スポツトサイズの制御は、環状曲率の矯正を行
うだけでなく、乱視を減少させる円筒状矯正に関
しても開示され、さらには、角膜移植処置との関
係についても説明されている。

以下本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。

〔実施例〕

次に本発明の実施例について図面を参照して説
明する。

第１図において、クランプ手段１０は、治療す
る眼１１が固定レーザ装置１３からのビーム出力
の中心軸線１２′の下向きに曲げられた部分に整
列するように、（顔を上にして横たわつた）患者
の頭部を固定する。上記固定レーザ装置１３はテ
ーブルやその他の基体１３′に支持されている。
眼１１へのレーザビーム照射のための光学系は、
可逆モータ１５を有するズームレンズ装置１４を
含んでおり、それによつて眼１１でのレーザのス
ポツトサイズは、レーザ作用を受けるべき角膜前
面領域に対応して、所定の最小径から３あるいは
3.5mm半径の最大径まで変化させることができる。
キヤビネツト１６は、レーザ装置のための電源を
含む。更に、キヤビネツト１６は、後により明確
になるように、軸１２での露出及びビーム（スポ
ツト）サイズをコントロールするためのプログラ
マブル・マイクロプロセツサ手段を含んでいる。

望ましくは、クランプ手段１０は参照番号１７
で示された患者のこめかみの領域で患者の頭部を
安定させる頭部固定手段を有しており、眼球保持
手段（第２図の１８）は角膜の硬化領域で眼１１
の周囲をおさえている。また、望ましくは、光学
固定手段２０が、前記テーブルあるいは基体１
３′に調節可能に固定されている。光学固定手段
２０は注視十字線およびレンズを有しており、治
療していない眼１１′が十字線を見ることができ
る。手段２０の注視線２１は軸１２に平行であ
り、調節手段（図示せず）は、患者のひとみ間距
離のために必要な調節可能なオフセツトを提供
し、軸１２からの手段２０の特殊な取付オフセツ
トに適合できる。他方の眼球１１′の治療のため
に、眼球１１は同様な固定手段で、他の固定手段
（図示せず）および対応の調節可能なオフセツト
手段とともで、固定可能である。あるいは、固定
手段２０は、ズームレンズ装置１４の反対側で修
正オフセツトで調節可能に取り付けることもでき
る。眼球１１′の治療のために、クランプ手段１
０は、その後治療される眼１１′と軸１２を一線
に並べる範囲でレーザ１３に対して横方向に割り
出し動作し、これにより固定手段を使うために眼
球１１が位置決めされる。

第２図の眼球保持手段１８は、きよう膜―角膜
領域を介して眼を保持するような輪郭の空気浸透
性物質の収れんする軸方向端壁２３を有する中空
環を含んでいる。真空ポンプへの側部接続口２４
が壁２３に眼を保持させる。外部突起すなわちフ
ランジ手段２５は、第２図の連結の文字で示唆さ
れた手段（簡単化のために第１図には図示せず）
を介してレーザ１３およびズームレンズ装置１４
に固定手段１８を離して接続する。

レーザ１３は、望ましくは紫外線、すなわち実
質的に400ナノメータより短かい波長を発生する
のがよい。ガスレーザは、弗化ネオンレーザで
351nm、窒素レーザで337nm、塩化ネオンレーザ
で308nm、弗化クリプトンレーザで248nm、弗化
アルゴンレーザで193nm、および弗素レーザで
157nmの波長を発生し、このレンジでクリスタル
レーザを含む他のレーザに適用された周波数２逓
倍技術が更に他のソースを提供する。

ドイツのゲツテインゲンのラムダ社（Lambda
Physik GmbH）の現在商用のレーザの一つ、例
えば弗化アルゴンレーザモデルEMG―103がレー
ザ１３用に充分であり、この製品では、バルス当
りの最大エネルギーは200ミリジユリーであり、
パルス繰り返しレード200個秒、３×10⁵シヨツト
（パルス）が、このパルスレートで定格電力の半
分に減らす前に包含ガスの単一型で可能である
が、本発明の使用には全定格電力は要求されな
い。パルス幅は約15ナノ秒であり、代表的ビーム
形は方形である。しかしながら、図示のとおり、
マスク２６の開口はレーザビームを円形断面に減
少させる。レンズ１４の光学素子は、水晶、弗化
カルシウム、弗化マグネシウム、あるいはレーザ
ビーム調整に適したその他の物質からなる。

第３図は、ズームレンズ装置１４の設定によつ
て変化されるレーザ出力の作用を説明するための
図である。既に述べたように、ズームレンズ装置
１４によつて眼１１でのスポツトサイズは、参照
符号２８で示した最小直径から参照符号２９で示
した最大直径まで変化させることができる。第３
図はその他の複数の中間円形スポツトサイズを示
しているが、ズームレンズ装置１４のズーム調整
は連続的に変化させることが可能であるので、ズ
ーム調整の際の連続的な変化中でのズームパルス
の間欠的な伝達が、各パルスがわずかに異なるス
ポツトサイズで投射されることを意味することを
除けば、異なる直径の不連続な円形スポツトを予
想する必要はない。

第４図及び第５図は、近視を解消するための眼
の外表面３０の光学的な修正除去に本発明を適用
する場合を示している。近視は、外表面３０の曲
率半径が、遠い物体の場合に、網膜で結像するに
は、短すぎることを意味している。他方、破線３
１は、ジオプター（屈折率の単位）減少効果を得
るために角膜の外表面が修正されるべき最終の湾
曲を示している。カーブ３１を得るには、最小の
所望の光分解は外方境界２９で、最大は中心であ
る。これは、予め決められた一連のレーザパルス
において、（レンズ１４の調整を経て）投射スポ
ツトサイズを順次変化させるべく、マイクロプロ
セツサをプログラミングすることにより達成でき
る。スポツトサイズを最小（28）から最大（29）
まで拡大しても、最大（29）から最小（28）まで
小さくしても結果は同じである。もちろん、各レ
ーザパルス即ち“シヨツト”に関して、角膜の除
去のための浸透（即ち深さ）は、伝達されるエネ
ルギ密度の関数となり、それ故、除去のための浸
透を所定に増大するために必要なパルス数は、投
射スポツトの直径が大きい程、大きい。

第５図は連続的に減少させた直径D₁，D₂，D₃
…D_oでの一連のレーザスポツト投射の漸進的な
除去効果を示すための簡略図である。最小のエネ
ルギー密度は最大直径D₁で、浸透は直径D₁のス
ポツト領域全体に渡つて均一ではあるが、最小の
浸透を得ることができる。直径を減少させた次の
ステツプD₂ではより大きなエネルギー密度とな
り、浸透は第１のシヨツトとの共通な領域に対し
て、第１のシヨツトの浸透に累加されたものとな
る。累加的な浸透効果は、連続的に減少された直
径のシヨツト毎に続き、その結果、新しいより大
きな曲率半径が投射スポツトサイズの段階的な減
少によつて現われる。しかしながら、十分に大き
な数のレーザパルスの場合は（それ故、不連続な
ステツプであつても）、個々のステツプは不連続
でないものとみなされ、十分滑かな新しい球面状
外表面が角膜に形成される。これは、特に、薄い
上皮層が新表面の滑かな保護被覆として広がる、
手術後２日以降に確実となる。

第１図〜第５図に関する前述の説明は、エキシ
マレーザーによつて例証されたパルス状のレーザ
ーを前提としている。しかし、現用の適当なエネ
ルギーレベルでかつ紫外波長で放射する他のレー
ザーも知られている。これらの他のレーザーは制
御された期間だけ継続的に放射するであろう。例
えば、適当な有機染料を用いた有機染料レーザー
は、266nmで動作する連続波で四倍周波数のネオ
ジムYAGレーザーのような紫外レーザー源によ
つてポンプされるとき、380nmの領域においてレ
ーザーの放射を生成するように作られ得る。この
場合において、380nmの有機染料レーザーの放射
は、カリウム−ジユテリウム−リン酸塩（KDP）
結晶、又はカリウム−チタニウム−リン酸塩
（KTP）結晶のような適当な非直線性の結晶によ
つて周波数を２倍にされ、放射波長が190nmにさ
れ得る。第１図〜第５図はさらに他の場合をも示
し、それにおいては、キヤビネツト１６内でのプ
ログラムによつて予め定められた処理期間、軸１
２上の紫外レーザーの放射は連続波の性質をもつ
ものとし、一方、キヤビネツト１６でのプログラ
ムによつてズームレンズ装置１４を連続的に駆動
させて投射スポツトの寸法に予め定めた経時変化
を与え、これにより処理時間の経過中に曲率に関
して曲線３０から曲線３１への近視矯正用変更を
与える。この結果、スポツトの寸法（眼１１で
の）は、最小（28）から最大（29）へと連続的に
膨張するか、または最大（29）から最小（28）へ
と連続的に減縮することになる。

第６図及び第７図の実施例においては、角膜の
前面に同様な近視矯正用曲率変更を与えるため、
第１図のズームレンズ技術の代りにマスク技術が
用いられている。このようなマスク技術は、レン
ズ１４の代りに、適当なプログラムされた可変の
絞り膜を連続的に変化させる。しかし、図示の例
においては、単一の精密なマスクプレート３５が
用いられる。このマスクプレート３５は矩形であ
り、直交した２つの軸Ｘ−Ｙの各々又は両方にお
いて可動な座標装置に搭載（図示しない装置によ
つて）されている。プレート３５に格子状に配さ
れた各マスク開口は円形であり、かつそれらの寸
法は増加的に変化している。こうして第１列のマ
スク開口の径は最初の開口３６から最後の開口３
６′までその順に漸次減少している。隣りの例に
おいては、最初と最後の開口は３７と３７′で示
され、これらの開口の径も漸次減少している。第
３列においても、開口３８から開口３８′にかけ
て径が漸次減少している。最後の列においてもま
た開口３９から最小の開口３９′にかけて径が漸
次減少している。Ｘ−Ｙ座標駆動系４０は、マイ
クロプロセツサ４１の制御下で、マスクプレート
３５を連続的にＸおよび又はＹ方向に位置移動さ
せてその位置修正を行うものである。ここでマイ
クロプロセツサ４１は、個々のマスク開口の寸法
でのエキシマレーザーの「シヨツト」の数を割り
当てる（即ち、CWレーザーの場合には、様々に
制御されたパルスの持続時間を割り当てる）ため
のプログラム可能な装置を有し、これによつて、
眼１１の光学的性能を予想的に修正する与えられ
た所望の除去即ち“彫刻”を行なう。図示のよう
に、対の光電素子４１と４１′，４２と４２′は、
レーザー投射軸１２に指標づけられるように各マ
スク開口を間にしている。即ちこれらの光電素子
は、与えられたマスク開口３７″（第７図）の両
側のＸ方向格子線やそのマスク開口３７″の両側
のＹ方向格子線のような格子線を検知し、これに
よりマイクロプロセツサ４１に目的をインターロ
ツクすることを保証し、同期ライン４５にて表わ
された次のレーザーパルスを発射する前にマスク
開口の軸１２上での位置を修正する。

第８図及び第９図の構成において、近視矯正用
彫刻は、マスク円板５０の角度的な指標にもとづ
く位置移動（指標軸５０′について）を介し、異
なる領域の連続したマスク開口の一方から他方へ
移動する。即ち、円板５０は周辺に連続的に配列
された、最大開口５１から最小開口５２までのマ
スク開口を有する。開口５１のために５３で示さ
れた半径方向のマークは、与えられた開口がレー
ザー投射軸１２上の位置に修正的に指示される角
度と一致する。円板５０は環状リング５４に搭載
される。この環状リング５４は円板５０の中央の
目印を付けた位置にカウンターボアを形成されて
いる。リング５４はまた回転駆動信号発生器５６
の制御下で適当な手段５５によつてエツジドライ
ブ（即ち、周縁に力を加えることによる駆動）さ
れる。さらに、プログラム可能なマイクロプロセ
ツサ５７は、与えられたマスク開口に対するレー
ザーパルスの所定の割り当てのために回転式駆動
系５５，５６を制御することができるものであ
り、光電素子５９が個々の与えられたマスク開口
領域のために個々の半径方向マークに一致する
と、同期ライン５８を介したレーザーパルス同期
信号にもとづき、角膜輪郭の所望の矯正を達成す
る。

第１０図及び第１１図は、第８図の装置が遠視
の眼の角膜６０に矯正の彫刻を施すのに適してい
ることを示し、外表面の曲率が減少して新しい輪
郭６１（第１０図）を得ていることを意味する。
ここで、第８図のマスク円板５０の代りに、異な
るマスク円板６２を用いている。このマスク円板
６２において、互いに或る角度を成したマークの
各位置（例えば６３）のため、半径が例えば3.5
mmの基礎開口は或る角度を成して配列された環状
の開口列の各々の外縁を規定する。これらの環状
の開口は径が漸次変化する中央の不透明のマスク
スポツトによつて作られる。こうして、最小環状
領域６３′（径方向にのびたマーク６３に対応し
ている）では、中央の不透明のスポツトは基礎開
口の径に近い円形であり、第１の、即ち、最小環
状領域６３′を作る。次のマーク６４では、わず
かに太い環状領域６４′の内径はわずかに狭い面
積の中央の不透明のスポツトによつて定められ
る。等角度（円板６２の座標軸に関し）ずれるに
したがつて同様な差が生じ、これは角度位置６５
で最大環状開口６５′になるまで継続する。この
角度位置６５では中央の不透明のマスクの径は最
小となる。第８図の位置決め・制御装置に関連し
た円板６２の使用において、マイクロプロセツサ
５７はレーザーパルス環状開口の個々の寸法に割
り当て、したがつて角膜の最大の累加的な除去の
ための浸入は広い範囲で生じるが、最小の浸入は
狭い範囲に生じ、これにより矯正された新たな輪
郭６１の範囲を減少させる。

第１２図，第１３図、及び第１４図の構成は、
さらに本発明の上述の原理が角膜の矯正彫刻に用
いることができ、所望の最終的な曲率のフレネル
タイプの分布を達成し、遠視の矯正又は図示のよ
うな近視の矯正をなし得ることを示す。このよう
な手術（即ちフレネルタイプ）は、看者の判断に
おいて、単一の円滑に展開した矯正曲率が必然的
に深いカツトの周辺領域で組織の過度の除去を必
要とするときに用いられる。深すぎるカツトを回
避するため、第１２図及び第１３図は、第４図に
３１で示すような最終的に減少した曲率表面が７
０で制限された箇所内で環状に増加することを示
す。これらの環状部の外側のもの７２において
は、カツトの曲率及び深さは、連続する曲線７１
（即ち、フレネル・ステツプなく）を発生するよ
うに適用される。しかし中間の環状領域７３は、
角膜の削除の量をより少なくしつつ曲線７１の連
続性を効果的に達成する。最後に、内側の円形領
域７４は、角膜組織の最小の除去で曲線７１を効
果的に得る。

中心部における組織の除去が第１２図及び第１
３図のフレネルカツト７４に対してΔ74で示され
ており、また、中心部における組織の除去は比較
的なめらかに展開された修正された単一曲面７１
で同様な光学的修正を達成すべく必要とされる最
大の除去深さΔ71のほんの小さな断片である。第
１４図は異なる環状体７２，７３，７４に対して
上述の大きさのフレネルタイプカツトを達成する
ため、第８図の円板５０を交換して、第８図のシ
ステムと調和するタイプの指標の回転マスク円板
７５を示す。（位置７６′において）環状マスク７
６の最も大きな領域で開始し、円板７５の最初の
120゜の扇形に進み、マスク円板の開口部の連続
が、一定の領域の中央マスクスポツトの理由で、
外側円周の直径をしだいに減少させることに関連
して、半径が減少する方向に進むことが理解され
よう。（第８図の）プログラム可能手段（マイク
ロプロセツサ）５７は、外側環状部７２内で一点
鎖線７１の達成のため、この最初の扇形の環状マ
スク開口部のプログラムされた分布を用い、レー
ザパルススポツトの位置決めのための制御として
機能することが理解されよう。中間環状部７３内
で曲線７１′を確立することにおいて、環状マス
ク開口部の連続がマスク円板７５の第２の扇形
（図示せず）を同様に達成することが理解されよ
う。そして、最後に、しだいに減少する円形の開
口部の指標可変の連続を介して、最も大きい領域
（円周７４）のマスク開口部の直径で始め、第３
の扇形を通して、位置７８′で最も小さい開口部
７８に減少して、（第１の扇形の）位置７６′に近
づけ、曲線７１″が軸線１２上のレーザスポツト
のプログラムされた投射によつて内側円形領域７
４内で確立される。

第１５図及び第１６図のダイヤグラムは、長方
形のビーム部分の幅が累積除去の円柱プロフイー
ルを作るため変化させられる長方形ビーム部分で
パルス状の除去レーザによつて、乱視のための修
正の展開における本発明の可変孔あるいは目盛マ
スク技術を示す。これは可変幅のスリツトあるい
は絞りで、そしてスリツトの多数の寸法が位置さ
れた方向を回転する機能で、即ち、特別の乱視の
円筒デイオプターの強さ及び角度の従来の測定に
基づいて、レーザビームをマスクすることによつ
て行うことができる。しかしながら、第１５図に
示す形状において、マスクはしだいに異なる幅の
連続の長方形スリツト開口部を備える長尺板８０
である。第１６図に示す断片において、これらの
開口部は最も大きな領域の開口部８１から最も小
さな開口部８１′に進んでいる。そして、これら
開口部のおのおのの対称の中心軸線は開口部８１
に対する８２としてマークで示されている。好ま
しくは、このようなすべてのマークは等しい広が
りである。

長尺板８０は回転可能なマスク支持円板あるい
はリング８４の一端を形成する手段８３によつて
案内されたスライドである。そして、案内手段８
３はリング８４の直径上に対称のスロツトの縦方
向の軸線８６に位置する。手動操作手段８５は、
リング８４上のヘリのマスクに対して固定指示マ
スク８７を介しての観察によつて、（レーザー投
射線１２の近くに長尺板８０の斜めの方向を選択
的に与えるためリング８４に対するエツジドライ
ブカツプリングを備えている。両方向の滑動信号
発生器８８は、特別の指標マスク開口部に適用で
きるマスク８２の軌跡をたどる光学変換器９０に
よつて適当に同期され、レーザーパルス制御で位
置する等位のスライド８０に対しマイクロプロセ
ツサ８９の制御下にある。上記のマスク開口部は
レーザービーム投射線１２上に確かに存在でき
る。

乱視と球面修正両方に必要な目に対するレーザ
手術に対する発明の使用において、第１５図及び
第１６図に示すように乱視の修正は２つの手順の
第１番目であることが好ましい。このことは乱視
誤差は一般に球面誤差ほど厳しくないので有利に
考えられている。その結果円柱状曲面除去の少な
いデイオプターが続く球面修正手順のために含ま
れている。なおそのうえ、第１の手順で乱視をの
ぞくかあるいは実質的に除くことが実質的な球面
に角膜の前表面を構成する。この実質的な球面は
（生れながらに近視あるいは遠視である）さらに
確かに修正的に正常視力のため望むプロフイール
（または球面）に調刻される。特に、この発明の
ようにすべての除去レーザスポツト（流行の効果
的なマスク開口部のすべて）が含む目の光学線上
に効果的に集められる。

角膜組織の可変深さの特徴からかなり離れて
（第４図及び第１０図）、本発明は角膜の単一の無
傷の領域上に、角膜移植の反応の準備中に所定の
深さの除去を与える。第１７図及び第１８図にお
いて目１１の角膜は、直径Ｄ、例えば、７mmの同
じ領域にマスクされるレーザーパルスの連続にさ
らされ、パルスレーザスポツトの連続は、この場
合、角膜移植の反応及び位置に対して曲線基部あ
るいはくぼみのつけられた曲面９５を生成するよ
うに見えるであろう。選択的に、第１７図及び第
１８図において、目１１の角膜は、一定の直径Ｄ
上の同様のマスクを介して、またレーザービーム
の与えられた継続（露光時間）が浸透の望む深さ
を達成するための除去の割合(b)において、除去(a)
するような強度の一定（CW）のレーザ露光にさ
らされる。

さらに角膜移植の手順に対して、上述の装置
は、移植される角膜の挿入の準備において、そし
てくぼみ９５内で、さらに有益に見えるであろ
う。寄付された目は、第２図において、１８で示
すように可逆的に固定保持されている。“可逆的
（reversible）”によつて、フランジ２５の方法に
より、寄付された目の上皮あるいは内皮のどちら
かがレーザービーム１２に中心に向う露光に対し
て設けられていることがわかり、寄付された目で
後者の位置に対して、角膜硬化のため必要としな
い虹彩及び他の領域が、角膜手術に対してはじめ
て除去されることが理解できる。好ましい手順は
寄付された角膜のくぼみの内側をレーザ作用にさ
らすことが最初である。このような作用は寄付さ
れた基質内で所定の深さに少なくとも組織を除去
するに十分な（くぼみ95の直径を超える円形領域
の時間CWのばくろによつて、あるいは多くのパ
ルスレーザースポツトによつて達成された）広が
りである。そのうえ、保持手段１８の配設は（そ
して特に仕上げられた角膜の作業単位）寄付され
た角膜の凸状の外側をレーザー作用にさらすため
逆にされる。外側上のレーザー作用は２つの段階
からなる。まず、（くぼみ９５の直径を超える）
円形領域の多くのレーザーパルスが時間CWさら
され、これによつて少なくとも上皮を好ましくは
くぼみ９５の深さT₂を超え移植厚みT₁を達成す
る深さに切去する。次に、スキヤナー（図示せ
ず、ただし、出願中の特許出願552983に開示され
ている型のものである）が希望する移植となる円
形の十分な切断まで、連続のレーザーパルスが連
続的に円形のくぼみ９５内に正確に受けるため設
計された円の周囲に沿つて進むように線切断モー
ドで作用される。移植において寄付された基質は
患者の希む基質で十分に自由に内皮に接触するよ
うに位置される。そしてその移植は縫合される。
縫糸の除去後、眼１１の外側表面とその移植部９
６は、第１８図に示される外観を有し、移植部は
患者の角膜の隣接領域を越えて突き出し、移植部
のこの突き出し表面は患者の眼の彫られない隣接
組織で望ましい同じ高さに境界に一致した最終輪
郭を彫る上述のレーザーによつて変形されても良
い。更に、外科の決定次第で、そのような最終切
り傷は眼の光学的性能に予め定められた変化をも
たらす又はもたらさない彎曲を与えるということ
を理解されたい。

上述の方法と装置は、すべての述べた目的を達
し、角膜彎曲に帰因する眼の異常を修正するため
の制御された手順をすぐに与えることがわかる。
レーザービーム処置の除去し易い侵入は、角膜の
厚さの比較的害のない断片を維持し、どんな侵入
深さでも、自然な組織隆起が、手術後の数日内
で、彫られた領域の保護上皮範囲を与える。与え
られた寸法と形状でパルスの数と関連したレーザ
ービーム寸法と形状（円、環又は矩形）のプログ
ラム可能な調整は、彎曲内の予言できかつ制御さ
れた変化を生じ、円柱誤差や球状誤差が削除又は
実質上縮小され、患者を強く慰めと便益を与え
る。

発明が種々の記述した実施例とモードに対し詳
しく述べてきたが、変形が本発明の範囲から逸脱
しないでなされるものと理解されたい。例えば、
乱視修正が達成されるべき角度を予めセツトする
ための手動操作手段８５のような上述したもの
は、自動駆動をするための角度入力データが本発
明者が1985年１月16日に出願した同時係属特許出
願番号691923信に記載されたような診断装置又は
方法によつて生成される、つまり乱視修正角度を
自動的に駆動セツテイングすることによつてなさ
れてもよい。

又、例として、乱視の修正を円筒状に彫ること
によつて達成することは、第１５図及び第１６図
の指標スロツト技術を必ずしも必要としない。第
１の他に採りうる方法（第１９図）のように、ス
ロツト幅の変化は、投射されたレーザービーム１
２の軸が常に中心に置かれる可変幅開口部の向か
い合つた側板１０１−１０２を差動的に駆動する
ためのマイクロプロセツサ制御の手段１００によ
つて、電気機械的に達成されても良く、板１０１
―１０２は、（対の矢１０３によつて示唆される
ように）乱視が直されるべき角度に回転を調節で
きる環状基台１０４にスライド可能に据えられて
いる。第２の他に採りうる方法（第２０図）のよ
うに、円筒形ズームレンズ装置１０５は、可変幅
の線に投射されたレーザービーム１２の形を成立
させるために（対の矢１０６によつて示唆される
ように）マイクロプロセツサ出力によつてモータ
駆動され、上記線は、ズーム装置１０５に対し環
状に据えたリム１０８に対するヘリ駆動装置１０
７によつて、乱視が直されるべき角度にセツト可
能である。

第２１図から第２６図は、発明の異なつた態様
を示し、レーザー除去角膜彎曲を達成するための
スポツト形の色々に述べられた連続が反射技術に
よつてもたらされる。そして、これら図中の部品
の同一視が第６，７，８，９，１１及び１４図中
の部品と一致するので、同じ数が適当に100連続
で使用されている。

第２１図及び第２２図の実施例において、石英
のような透明板１３５は、連続した楕円形の反射
領域によつて特徴づけられ、それら多数の軸が平
行に方向づけられ、それぞれ板１３５の２次元
（Ｘ−Ｙ）の指示できる位置の各々にさし込まれ
ている。板１３５上の楕円形反射領域のグリツド
状レイアウトの各々に対し、伴う楕円の寸法が増
加して変化する。従つて、第１の列の初めと終り
の領域１３６と１３６′の反射楕円に対し、それ
ぞれ、その領域は次第に縮小し、次の隣接の列、
初めと終りの領域１３７と１３７′において、そ
れぞれ、反射楕円がそれらの漸進的な縮小を続
け、第３の列において、その漸進が領域１３８か
ら１３８′へ縮小するように続き、そして最後列
は、また更に、１３９から最も小さい１３９′へ
縮小する。板１３５の指示変位に対する支持は、
レーザー出力ビーム直線１２′に対する傾斜した
面に関連してその反射側に置くと理解し、その傾
斜は、望ましくは、特定の楕円の中央が直線１
２′と交差するために指示されたとき、楕円の
各々の長軸が直線１２′に対し45°となつており、
と同時に、特定の楕円の中央が直線１２′と交差
するために指示されたとき、各楕円の短軸が直線
１２′と90゜となり、かつ長／短軸スパンが√２：
１である。この好ましい関係は、各楕円―指示位
置に対し、レーザービームの反射１２が直線１
２′に対し90゜となり、この反射が伴つた楕円の短
軸スパンに等しい直径の円となることを決定す
る。Ｘ−Ｙ座標駆動系１４０とマイクロプロセツ
サ１４１ａは第６及び７図において述べたように
実行し、板１３５上の（反射楕円間の）光学的読
取可能なグリツド線は、各反射楕円の正確な位置
調整を保証するために、対の光電素子１４１−１
４１′と１４２−１４２′を容易にし、次のレーザ
ーパルスを発射する前に、軸１２′の中心に置か
れる。

第２１図の装置の自動化された走行は、指示板
１３５の完全な２次座標プログラムにおいて、眼
の光軸から増加する半径の作用して増加するよう
な密度で、手術される全円形角膜領域の中央部に
最大密度の除去エネルギーを伝えることがわかる
だろう。彎曲変化が従つて近視修正の特質であ
る。

第２３及び２４図の実施例は、第８及び９図と
対応しており、従つて、反射楕円の周辺を取り囲
んで分配されたパターンが指標円板すなわちデイ
スク１５０上にあり、板１５０は適当に透明で石
英からなる。望ましくは、すべての楕円の中心
は、指標円板１５０′のまわりの１つの幾何学的
な円上にあり、指標円板１５０′は、レーザー軸
１２と眼に対する（反射された）投射軸１２′間
が直角の関系を二等分するよう方向づけられ、軸
１２は眼１１の光軸と一直線に合わせられ、また
望ましくは、楕円の各々の長軸は板１５の指標中
央へ半径方向に方向づけられ、かつまた、すべて
の長／短軸関係は√２：１である。回転式に指標
された第２３／２４図の装置の自動化された走行
は、直角に指標された第２１／２２図の装置の様
に同じ角膜除去結果を生じることがあり、その結
果は再び近視修正である。

部分的に示されている第２５図は別の円形反射
板１６２（第２４図の板１５０の代わり）を示
し、回転指示及びレーザパルス発生のためのマイ
クロプロセツサにおけるプログラミングが第１０
図に示されている人間の角膜の湾曲部に遠視矯正
をもたらす。第２５図の各反射だ円は一定長の外
周縁のだ円環状部がある角度間隔をおいて連続し
ており、連続する範囲は指示位置１６３における
最小だ円環状部１６３′から指示位置１６５にお
ける最大だ円環状部１６５′までである。言い換
えれば、第２５図の反射用だ円部の連続は、板１
６２が１段階回転する間の一定の外径及び変化す
る内径の環状照射を表わし、外径における角膜の
最大除去深度を表わし、しかも目１１の光学軸に
関して半径を減少させるにつれて次第に除去深度
が減少される。すべてのだ円部は、指示されただ
円反射体へのレーザビームの入射角45゜を考慮し
て、長軸と短軸との比は√２：１である。

第２６図の配置は、第１２図，第１３図をも参
照して、角膜に彫り込んだような矯正を施し、要
求された最終の曲率のフレネルタイプの分布を達
成し、第１５図と同様、遠視矯正あるいは近視矯
正のいずれかが可能である。除去深度が深すぎて
しまうことを避けるために、最終の削減された湾
曲面は、第４図に参照番号３１（第１３図では一
点鎖線７１）にて示すように、参照番号７０で限
定された円形領域内で環状増加分において達成さ
れ、湾曲面７１はステツプ７２−７３−７４でも
たらされる。

第２６図に示すように、透明板１７５は第２図
におけるデイスク１５０の代替物として作用し、
反射用のだ円環状部を角度間隔をおいて段階的に
移行させた連続部が設けられ、その始めは位置１
７６′における最大かつ最も厚いだ円環状部１７
６であり、時計方向に進むと次のだ円環状部は一
定寸法の内側制限用だ円部１７７にもとづいて寸
法、厚みがやや減少する。段階の縦断面７２−７
３−７４（第１３図）を参照して、同一の内側制
限用だ円部１７７にもとづく反射用だ円環状部
は、デイスク１７５の第１の120゜の角度セクト内
に配列されており、これらは外側のだ円周縁が最
後の最小だ円環状部（図示せず）に向けて漸減す
る。そして、マイクロプロセツサ５７（第８図）
は、外側の環状部７２内で湾曲面７１を除去によ
り得られるように第１セクタにおけるだ円反射部
のあらかじめ定められた配置を利用してレーザパ
ルスシヨツトの位置決めを制御するように作用す
ることは言うまでも無い。反射用だ円環状部の同
様な連続部が、中間の環状部７３内に湾曲部７
１′を形成するために、デイスク１７５の第２の
120゜のセクタ（図示せず）上に同様に指示可能に
設けられることは言うまでも無い。湾曲部７１″
は、進むにつれて縮小するだ円領域の指示に有効
な連続部を通して、照射軸１２′上であらかじめ
定められたレーザシヨツト照射により内側円形領
域７４内に形成される。湾曲部７１″の形成は、
最も大きな短軸側スパン（図示しないが、中央の
円形領域７４の直径に等しい）のだ円形部で始ま
り、第１セクタの位置１７６′に隣接する位置１
７８′における最小の反射用だ円形部１７８に向
かつて第３の120゜のセクタの間中減小する。

デイスク１７５の１回転が、照射軸１２′上に
適宜定められたパルス状のレーザを送出するとい
う状況においては、連続してフレネルステツプ７
２−７３−７４を形成する。なお、マイクロ回路
技術に有効な高精度の光環元技術や金属付着技術
を利用することは、全フレネルタイプの除去パタ
ーンの全環状部分成分の漸進性の形成において１
枚のデイスク（図示せず）の段階的駆動の手助け
となることは言うまでもない。このような成果を
得るための反射用だ円パターンをつくるために、
第２７図は近視の矯正のためにすべての複雑な反
射用だ円の短軸側の寸法変化の方向性を概略的に
示し、第２８図は同様に遠視の矯正のためにすべ
ての複雑な反射用だ円の短軸側の寸法変化の方向
性を概略的に示している。

第２７図において、ある与えられた円形のデイ
スク（第２３図におけるデイスク１５０の代わり
に利用できる）の360゜の範囲を所望の数ｎにて
360゜／ｎの間隔で指示可能なステツプに分割する
こと、また方位角上の配分の増加毎に縦軸（例え
ば、縦線２０を記入することにより、時定の各指
示位置における複雑な複数の反射用だ円形部にそ
れぞれ必要な短軸側のスパンを確定する交点（例
えば、線１２０の位置におけるａ−ｂ−ｃ−ｄ−
ｅ）が５箇所に得られる。第２７図関連の成果
は、すべての外径（領域７２，７３，７４）が変
化するのに対して内径は一定のままであることか
ら近視の減小となる。一方、第２８図関連の成果
は、すべての内径（図示されない領域７２′，７
３′，７４′）が変化するのに対して外径は一定の
ままで位置１２１に交点a′−b′−c′−d′−e′−f′
を
記入しており、遠視の減少となる。

以上述べてきたように、位置付けられた反射領
域を介してのレーザ照射は、遠視あるいは近視を
処理するためめの基本的には球面の曲率矯正に関
連している。しかしながら、同様な原理は乱視矯
正にも適用できることは明らかである。この場
合、漸進する指示反射領域のパターンは幅が漸進
的に変化する長方形であり、進行方向に最も狭い
長方形パターンの中心延長軸の互いに反対側に対
称的に形成される。第１６図の図面は上記のよう
なパターン生成を説明することを考慮しており、
段階的に可動の長尺板８０は透明な板（石英板の
ような）で、長方形８１から８１′までの直列部
分は反射用で、しかもある中心線８２から次まで
を指示する中心線間の間隔は等しい。更に、レー
ザービーム軸１２′（第１５図）は、中心の直線
８６と各々の指示された位置との交点に指向され
る。長尺板８０がガイドリング８４（第１５図）
で支持され、そしてまた第２３図においてデイス
ク１５０として説明された傾斜板に支持される
と、ガイドリング８４（８５においてセツト調整
により）の角度方向は、目における長方形スポツ
トの入射において幅の変化の範囲を表わすことに
なる。しかし、所望の累積による除去は、マイク
ロプロセツサに適当な角度修正要素を入れること
によりいくつかのあるいはすべてのあらかじめ選
択された角度方向に行われる。角度修正は方位角
の単純な三角形作用である。

本発明による上述した反射の利用は、反射の個
個のパターンがレーザビーム区画エリア（直線１
２′上）の一部分上に作用し、しかも、反射パタ
ーンは透明板（石英のような）上に設置される
か、形成されるか、さもなければ置かれてる。あ
る与えられたレーザビーム出力のうち一部は反射
されず、ほぼ軸１２′上を更に直進する。この直
進した分のエネルギーは治療には利用されないの
で、適当な手段（図示せず）によりトラツプ及び
分散させても良い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の動作要素の一般的配置を示す
斜視図、第２図は第１図の装置で使用されている
眼球保持手段を示す概略断面図、第３図，第４図
および第５図は、近視状態を矯正するために、第
１図の装置で行なわれる角膜を切開して刻む状態
を示す概略図、第６図は本発明の他の実施例の構
成を示す概略図、第７図は第６図の実施例で使用
される指標マスク、第８図は第６図を具体化した
概略図、第９図は第８図の実施例に使用される指
標マスクの切欠き、第１０図および第１１図は遠
視状態を矯正するために本発明の使用を示す概略
図、第１２図，第１３図および第１４図の角膜表
面の前面にフレネル型の光学的矯正等高線を示す
概略図、第１５図および第１６図の各々は乱視矯
正のための実施例の装置および特徴を示す概略
図、第１７図および第１８図は本発明に係る角膜
移植に係る実施例を示す概略図、第１９図および
第２０図は第１５図および第１６図の実施例に対
する異なる他の実施例を示す概略図、第２１図か
ら第２６図までは第６，７，８，９，１１および
１４図に各々対応する他の実施例を示す概略図、
第２７図および第２８図は反射鏡の原理模型を示
すグラフである。１０…クランプ手段、１１…眼、１２…下向き
に曲げられた部分、１２′…中心軸線、１３…固
定レーザ装置、１４…ズームレンズ装置、１５…
可逆モータ、１６…キヤビネツト、１７…頭部固
定手段、１８…眼球保持手段、２０…光学固定手
段、２１…注視軸、２３…収れんする軸方向端
壁、２４…側部接続口、２５…フランジ手段、２
８…最小直径、２９…最大直径（外部境界）、３
０…外表面（を表をす曲線）、３１…破線（最終
曲率を表わす）、３５…マスクプレート、３７，
３７′…開口、４０…Ｘ−Ｙ座標駆動系、４１…
マイクロプロセツサ、４１，４１′…光電素子、
４２，４２′…光電素子、４３，４３′…格子線、
４４，４４′…格子線、４５…同期ライン、５０
…マスク円板、５１…最大開口、５２…最小開
口、５３…径方向マーク、５４…環状リング、５
５…駆動装置、５６…回転駆動信号発生器、５５
−５６…回転駆動系、５７…マイクロプロセツ
サ、５８…同期ライン、５９…光電素子、６０…
角膜、６１…新たな輪郭、６２…円板、６３…角
度マーク、６３′…最小環状マスク領域、６４…
次のマーク、６４′…わずかに太い環状マスク、
６５′…最大環状開口、６５…角度位置、７０…
外部境界線、７１…一点鎖線（で示される連続し
た曲線）、７２…外側環状部、７３…中間環状部、
７４…内側環状部（フレネルカツト）、７５…回
転マスク円板、７６…環状マスク、７８…最小開
口、８０…長尺板、８１…最大開口、８１′…最
小開口、８２…マーク、８３…案内手段、８４…
リング、８５…手動操作手段、８７…固定指示マ
ーク、８８…横方向駆動信号発生器、８９…マイ
クロプロセツサ、９０…光電素子、９５…くぼ
み、９６…移植部、９７…最終輪郭、１００…ス
ロツト幅駆動手段、１０１，１０２…側板、１０
４…環状基台、１０５…円筒形ズームレンズ装
置、１０７…駆動装置、１０８…リム、１３５…
透明板、１４０…Ｘ−Ｙ座標駆動系、１４１ａ…
マイクロプロセツサ、１４１−１４１′…光電素
子、１４２−１４２′…光電素子、１５０…指標
円板、１５０′…指標円板、１６２…反射板、１
６３′…最小だ円環状部、１６３，１６５…指示
位置、１６５′…最大だ円環状部、１７５…透明
板、１７６…最大だ円環状部、１７６′…位置、
１７７…内側だ円、１７８…最小反射だ円、１７
８′…位置。

Claims

【特許請求の範囲】１眼の角膜の前表面を曲率修正手術するための
彫刻装置において、電磁スペクトルの紫外線領域
の出力ビームを発生するレーザ手段と、角膜上の
で前記ビーム照射断面積を可変的に制限するため
の制御可能な手段とを有し、領域変化は、少なく
とも除去すべき最大曲率修正領域を含む範囲をお
おい、眼の光軸と一致するビーム投射軸に関して
対称であり、レーザスポツト投射強度は、角膜の
基質領域の予め定められた最大除去深さの数分の
１を単位時間に除去するように制限されており、
上記レーザ手段と上記制御可能な手段とに接続さ
れ、角膜にジオプター変化を生じるように、角膜
でのレーザビーム照射を上記ビームの断面領域の
変化に関連づけられる制御手段を有する上記彫刻
装置。２特許請求の範囲第１項の彫刻装置において、
上記制御手段は、さらに、上記レーザ手段と上記
制御可能な手段とに接続され、ジオプター変化の
曲率修正領域に隣接する外側環状領域においてビ
ーム断面変化をもたらすように角膜でのレーザビ
ーム照射に関連づけられており、(a)ジオプター変
化の境界線で基質除去深さから(b)上記環状領域の
外側制限で実質的に零深さに、段階的な放射状の
外側変化を生じさせることを特徴とする彫刻装
置。３患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する選
択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果たす
領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を行
う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトルの
紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、角膜上の上記ビームスポツト断面積を可変的
に設定するためのズーム駆動手段をもつズームレ
ンズを含む上記光軸上の光学手段とを有し、上記
スポツトの面積変化は、除去されるべき最大領域
以内にあり、かつ眼の光軸と一致するビーム投射
軸に関して対称であり、レーザビーム投射強度
は、角膜の基質領域の予め定められた最大除去量
の数分の１を単位時間に除去するように制限され
ており、上記レーザ手段と上記ズーム駆動手段と
を、角膜上へのレーザビーム照射の積算時間が角
膜にジオプター減少変化を生じるような制限され
たスポツト面積の変化に関連づけられるように、
整合させる制御接続部を備えたプログラム可能な
手段を有する上記彫刻装置。４特許請求の範囲第３項の彫刻装置において、
上記ズームレンズは、上記出力ビームを上記ビー
ム駆動手段の設定の変化に応じて変化する制限さ
れた円形断面積に変換する変化性を有し、それに
よつて、ジオプター減少変化が近視修正となるこ
とを特徴とする彫刻装置。５特許請求の範囲第３項の彫刻装置において、
上記ズームレンズは、上記出力ビームを光軸を介
して延びる制限された直線に変換する変化性を有
し、上記直線は、上記ズーム駆動手段の設定の変
化に応じて変化する幅をもち、それによつて、ジ
オプター減少変化が乱視修正となることを特徴と
する彫刻装置。６特許請求の範囲第３項の彫刻装置において、
上記ズームレンズは、上記出力ビームを光軸を介
して延びる制限された直線に変換する変化性を有
し、上記直線は、上記ズーム駆動手段の設定の変
化に応じて変化する幅をもち、それによつて、ジ
オプター減少変化が乱視修正となり、上記ズーム
レンズは、光軸をもち、その光軸の周りに選択的
に全体的な回転のために取り付けられ、それによ
つて、上記直線の角度方位が要求される乱視修正
のそれに従つて設定されることを特徴とする彫刻
装置。７眼の角膜の前表面を曲率修正手術するための
彫刻装置において、電磁スペクトルの紫外線領域
の出力ビームを発生するレーザ手段と、上記ビー
ムを反射し、角膜上の上記ビーム照射面積を可変
的に制限する反射手段とを有し、該反射手段は、
その反射面積を変化させる駆動手段を含み、反射
面積変化範囲は、少なくとも除去されるべき最大
曲率修正領域を含み、眼の光軸と一致するビーム
照射軸に関して対称であり、ビームスポツト照射
強度は、角膜の基質領域の予め定められた最大除
去深さの数分の１を単位時間に除去するように制
限されており、上記レーザ手段と上記駆動手段と
を、角膜にジオプター変化を生じるように、角膜
でのレーザビーム照射を反射されたスポツト面積
の変化に関連づけられるように、整合させる制御
接続部を備えたマイクロプロセツサを含む手段を
有する上記彫刻装置。８特許請求の範囲第７項の彫刻装置において、
上記反射手段は、角膜を中心円形領域と複数の同
形の大きい領域とで照射するように動作し、上記
各照射領域は同心円をなし、これによつて、上記
ジオプター変化が近視修正となることを特徴とす
る彫刻装置。９特許請求の範囲第７項の彫刻装置において、
上記反射手段は、角膜を曲率修正の上記最大領域
と複数の同形の小さい領域とで照射するように動
作し、上記照射領域は環状で、徐々に内径が変化
することによつて特徴づけられており、それによ
つて、ジオプター変化が遠視修正となることを特
徴とする彫刻装置。１０特許請求の範囲第９項の彫刻装置におい
て、反射面積変化範囲は、上記最大曲率修正領域
より大きく、それによつて、上記最大曲率修正領
域を囲むレーザビーム投射の外側環を決定し、上
記駆動手段は、また、上記外側環の外側直径を、
上記外側直径変化が(i)上記曲率修正領域の外側直
径で実質的に開始し、(ii)外側直径が拡大するよう
に、変化することを特徴とする彫刻装置。１１特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を眼の光軸上に中心が
置かれ、上記最大領域に及ぶ狭い長四角領域で照
射するように動作し、複数の上記反射手段は、さ
らに、角膜を同形で大きい領域で照射するように
動作し、上記各照射領域は長四角形で、上記狭い
領域の長さ方向に関して対称に幅が変化するよう
にし、これによつて、上記ジオプター変化が乱視
修正となることを特徴とする上記彫刻装置。１２特許請求の範囲第１１項の彫刻装置におい
て、上記照射領域の長さ方向は可変であることを
特徴とする彫刻装置。１３特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さい領域とで照射するように動作し、
上記照射領域は円形環状で、外径は一定で内径は
一定の最小内径迄変化しており、これによつて、
上記ジオプター変化が上記一定の外径と上記一定
の最小内径とによつて限定された彫刻されたフレ
ネル環による近視修正となることを特徴とする彫
刻装置。１４特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さい領域とで照射するように動作し、
しかも、上記照射領域は円形環状で、一定の内径
と、該内径と上記最大領域の外径との間の中間で
変化する外径を有し、これによつて、上記ジオプ
ター変化が上記内径と上記外径とによつて限定さ
れた彫刻されたフレネル環による遠視修正となる
ことを特徴とする彫刻装置。１５特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、上記反射要素は、徐々に領域が
変化しており、上記反射要素をレーザビームの光
軸に順次整列させるように指定するためのマイク
ロプロセツサで制御される手段を有することを特
徴とする彫刻装置。１６特許請求の範囲第１５項の彫刻装置におい
て、上記反射要素は、間隔をおいて一直線上に整
列されていることを特徴とする彫刻装置。１７特許請求の範囲第１５項の彫刻装置におい
て、上記反射要素は、回転軸の周りに間隔をおい
てあけられた整列されていることを特徴とする彫
刻装置。１８特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が可変開口ダイアフラムからな
り、該ダイアフラムはダイアフラム開口の周囲の
連続環状領域にレーザビームを反射するように配
置された反射側面を備えていることを特徴とする
彫刻装置。１９特許請求の範囲第７項の彫刻装置におい
て、該レーザビームの該反射手段への入射角は
45゜であり、その反射領域は、長軸対短軸の比が
√２：１であり、レーザビームは楕円の中心に長
軸に対して45゜の角度をもつて入射されることを
特徴とする彫刻装置。２０患者の眼の角膜の外表面を手術するための
彫刻装置において、電磁スペクトルの紫外線領域
の出力ビームを発生する手段と、角膜上の該ビー
ム照射面積を可変的に制限するマスク手段とを有
し、該マスク手段は、そのマスクされる面積を変
化させる駆動手段を含み、該マスク面積変化範囲
が除去されるべき最大領域内にあり、かつ眼の光
軸と一致するビーム投射軸に関して対称であり、
そのビームスポツト投射強度が角膜の基質領域の
予め定められた最大除去量の数分の１を単位時間
に除去するように制限されており、上記マスク手
段は、角膜を上記最大領域と複数の同形の小さい
領域とで照射するように動作し、上記照射領域は
円形環で、内径が変化し、上記照射領域は、さら
に、遠視修正曲率変化を生じさせるべき領域のた
めの一定の外径を有し、上記曲率変化領域は、上
記最大領域より小さく、それによつて、上記曲率
変化領域の外側のレーザビーム投射の環状領域を
制限し、上記マスク手段は、さらに、上記環状領
域内で、角膜を曲率変化と変化する外径との領域
に隣接する一連の円形環状領域で照射するように
動作し、上記レーザ手段と上記駆動手段とを、上
記角膜上へのレーザ照射が角膜へ遠視修正ジオプ
ター変化を、近接した照射されない角膜組織への
変化がなめらかに囲む環と共に、生じるようなマ
スクされたスポツト面積の変化に関連づけられる
ように、整合させる制御接続部を備えたマイクロ
プロセツサを含む手段を有する上記彫刻装置。２１患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する
選択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果た
す領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を
行う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトル
の紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、角膜上の上記ビームスポツト断面積を可変的
に設定するためのズーム駆動手段をもつズームレ
ンズを含む上記光軸上の光学手段とを有し、上記
スポツトの面積変化は、除去されるべき最大領域
以内にあり、かつ眼の光軸と一致するビーム投射
軸に関して対称であり、レーザビーム投射強度
は、角膜の基質領域の予め定められた最大除去量
の数分の１を除去するように制限されており、上
記レーザ手段と上記ズーム駆動手段とを、角膜上
へのレーザビーム照射の積算時間が角膜にジオプ
ター減少変化を生じるような制限されたスポツト
面積の変化に関連づけられるように、整合させる
制御接続部を備えたマイクロプロセツサを含む手
段を有する上記彫刻装置。２２特許請求の範囲第２１項の彫刻装置におい
て、上記ズームレンズは、上記出力ビームを上記
ビーム駆動手段の設定の変化に応じて変化する制
限された円形断面積に変化する変化性を有し、そ
れによつて、ジオプター減少変化が近視修正とな
ることを特徴とする彫刻装置。２３特許請求の範囲第２１項の彫刻装置におい
て、上記ズームレンズは、上記出力ビームを光軸
を介して延びる制限された直線に変換する変化性
を有し、上記直線は、上記ズーム駆動手段の設定
の変化に応じて変化する幅をもち、それによつ
て、ジオプター減少変化が乱視修正となることを
特徴とする彫刻装置。２４特許請求の範囲第２１項の彫刻装置におい
て、上記ズームレンズは、上記出力ビームを光軸
を介して延びる制限された直線に変換する変化性
を有し、上記直線は、上記ズーム駆動手段の設定
の変化に応じて変化する幅をもち、それによつ
て、ジオプター減少変化が乱視修正となり、上記
ズームレンズは、光軸をもち、その光軸の周りに
選択的に全体的な回転のために取り付けられ、そ
れによつて、上記直線の角度方位が要求される乱
視修正のそれに従つて設定されることを特徴とす
る彫刻装置。２５患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する
選択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果た
す領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を
行う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトル
の紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、角膜上の該ビーム照射断面積を可変的に制限
するマスク手段とを有し、該マスク手段は、該マ
スク手段によつてマスクされる断面積を変化させ
る駆動手段を含み、該マスク面積変化が除去され
るべき最大領域内の面積範囲にあり、かつ眼の光
軸と一致するビーム投射軸に関して対称であり、
そのレーザビーム投射強度が角膜の基質の予め定
められた最大除去量の数分の１を単位時間に除去
するように制限されており、上記レーザ手段と上
記駆動手段とを、上記角膜上へのレーザビーム照
射が角膜へジオプター変化を生じるような断面積
の変化に関連づけられるように、整合させる制御
接続部を備えたマイクロプロセツサを含む手段を
有する上記彫刻装置。２６特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段が角膜を長四角の上記最大領
域と複数の幅の小さい領域とで照射するように動
作し、これによつて、上記ジオプター変化が乱視
修正となることを特徴とする彫刻装置。２７特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段が角膜を長四角の上記最大領
域と複数の幅の小さい領域とで照射するように動
作し、これによつて、上記ジオプター変化が乱視
修正となり、上記領域の長手方向の向きが可変で
あることを特徴とする彫刻装置。２８特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、各照射領域は円形環状で外形は一定
であり、内径が変化し、これによつて、上記ジオ
プター変化が遠視修正となるようにしたことを特
徴とする彫刻装置。２９特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、各照射領域は円形環状で、一定の内
径と、該内径と上記最大領域との間の中間で変化
する外径を有し、これによつて、上記ジオプター
変化が上記内径と上記外径とによつて限定された
彫刻されたフレネル環による近視修正であること
を特徴とする彫刻装置。３０特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、上記各照射領域は円形環状で、外径
は一定で内径は一定の最小内径迄徐々に変化して
おり、これによつて、上記ジオプター変化が該一
定外径と該一定の最小内径によつて限定された彫
刻されたフレネル環による遠視修正であることを
特徴とする彫刻装置。３１特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御さ
れる手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次整
列するように指示するために接続されていること
を特徴とする彫刻装置。３２特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御さ
れる手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次整
列するように指示するために接続されており、上
記窓は間隔をおいて一直線上に整列されているこ
とを特徴とする彫刻装置。３３特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御さ
れる手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次整
列するように指示するために接続されており、上
記窓は間隔をおいて円形に整列されていることを
特徴とする彫刻装置。３４特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を円形の上記最大領
域と円形の複数の同形の小さい領域と照射するよ
うに動作し、これによつて、上記ジオプター変化
が近視修正となることを特徴とする彫刻装置。３５特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されていることを特徴とする彫
刻装置。３６特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されており、上記窓は間隔をお
いて一直線上に整列されていることを特徴とする
彫刻装置。３７特許請求の範囲第２５項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されており、上記窓は間隔をお
いて円形に整列されていることを特徴とする彫刻
装置。３８患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する
選択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果た
す領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を
行う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトル
の紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、角膜上の該ビーム照射断面積を可変的に制限
するマスク手段とを有し、該マスク手段は、該マ
スク手段によつてマスクされる断面積を変化させ
る駆動手段を含み、該マスク面積変化が除去され
るべき最大領域内の面積範囲にあり、かつ眼の光
軸と一致するビーム投射軸に関して対称であり、
そのレーザビーム投射強度が角膜の基質の予め定
められた最大除去量の数分の１を単位時間に除去
するように制限されており、上記レーザ手段と上
記駆動手段とを、上記角膜上へのレーザビーム照
射が角膜へジオプター変化を生じるような断面積
の変化に関連づけられるように、整合させる制御
接続部を備えたプログラム可能な手段を有する上
記彫刻装置。３９特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段が角膜を長四角の上記最大領
域と複数の幅の小さい領域とで照射するように動
作し、これによつて、上記ジオプター変化が乱視
修正となることを特徴とする彫刻装置。４０特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段が角膜を長四角の上記最大領
域と複数の幅の小さい領域とで照射するように動
作し、これによつて、上記ジオプター変化が乱視
修正となり、上記領域の長手方向の向きが可変で
あることを特徴とする彫刻装置。４１特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、各照射領域は円形環状で外形は一定
であり、内径が変化し、これによつて、上記ジオ
プター変化が遠視修正となるようにしたことを特
徴とする彫刻装置。４２特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、各照射領域は円形環状で、一定の内
径と、該内径と上記最大領域との間の中間で変化
する外径を有し、これによつて、上記ジオプター
変化が上記内径と上記外径とによつて限定された
彫刻されたフレネル環による近視修正であること
を特徴とする彫刻装置。４３特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を上記最大領域と複
数の円形の小さな領域とで照射するように動作
し、しかも、上記各照射領域は円形環状で、外径
は一定で内径は一定の最小内径迄徐々に変化して
おり、これによつて、上記ジオプター変化が該一
定外径と該一定の最小内径によつて限定された彫
刻されたフレネル環による遠視修正であることを
特徴とする彫刻装置。４４特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザービームを透過
させ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた
不透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御
される手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次
整列するように指示するために接続されているこ
とを特徴とする彫刻装置。４５特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御さ
れる手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次整
列するように指示するために接続されており、上
記窓は間隔をおいて一直線上に整列されているこ
とを特徴とする彫刻装置。４６特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記マイクロプロセツサで制御さ
れる手段は、これら窓をレーザビーム軸に順次整
列するように指示するために接続されており、上
記窓は間隔をおいて円形に整列されていることを
特徴とする彫刻装置。４７特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、角膜を円形の上記最大領
域と円形の複数の同形の小さい領域と照射するよ
うに動作し、これによつて、上記ジオプター変化
が近視修正となることを特徴とする彫刻装置。４８特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されていることを特徴とする彫
刻装置。４９特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されており、上記窓は間隔をお
いて一直線上に整列されていることを特徴とする
彫刻装置。５０特許請求の範囲第３８項の彫刻装置におい
て、上記マスク手段は、(a)レーザビームを透過さ
せ、かつ(b)面積の変化した、一連の窓を備えた不
透明板を含み、上記プログラム可能な手段は、こ
れら窓をレーザビーム軸に順次整列するように指
示するために接続されており、上記窓は間隔をお
いて円形に整列されていることを特徴とする彫刻
装置。５１患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する
選択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果た
す領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を
行う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトル
の紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、上記光軸上の上記ビームを反射し、角膜上の
該ビーム照射断面積を可変的に制限する反射手段
を含む光学手段であつて、その反射面積を変化さ
せる駆動手段を含み、該反射面積変化が除去され
るべき最大領域内で反射されたビーム断面領域を
発生する範囲上にあり、かつ眼の光軸と一直線上
に適合されたビーム投射軸に関して対称であり、
その投射されたビーム強度が角膜の基質の予め定
められた最大除去量の数分の１を単位時間に除去
するように制限されており、上記レーザ手段と上
記駆動手段とを、上記角膜上でのレーザビーム照
射が角膜へジオプター変化を生じるような反射さ
れたビーム断面積の変化に関連づけられるよう
に、整合させる制御接続部を備えたマイクロプロ
セツサを含む手段とを有する上記彫刻装置。５２特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、該レーザビームの該反射手段への入射角は
45゜であり、その反射領域は、長軸対短軸の比が
√２：１である楕円であり、レーザビームは楕円
の中心に長軸に対し45゜の角度をもつて入射され
ることを特徴とする彫刻装置。５３特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を照射されたビームの
光軸上に中心が置かれ、上記最大領域に及ぶ狭い
長四角領域で照射するように動作し、上記反射手
段は、さらに、角膜を複数の同形の大きな領域で
照射するように動作し、上記各照射領域は、長四
角で該狭い領域の長さ方向に関して対称に幅が変
化するようにし、これによつて、上記ジオプター
変化が乱視修正となることを特徴とする彫刻装
置。５４特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を照射されたビームの
光軸上に中心が置かれ、上記最大領域に及ぶ狭い
長四角領域で照射するように動作し、上記反射手
段は、さらに、角膜を複数の同形の大きな領域で
照射するように動作し、上記各照射領域は、長四
角で該狭い領域の長さ方向に関して対称に幅が変
化するようにし、これによつて、上記ジオプター
変化が乱視修正となるようにし、上記領域の長さ
方向の向きが可変であることを特徴とする彫刻装
置。５５特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さな領域とで照射するように動作し、
しかも、上記各照射領域は円形環状で、外径は一
定で内径は一定の最小内径迄変化しており、これ
によつて、上記ジオプター変化が上記一定の外径
と上記一定の最小内径とによつて限定された彫刻
されたフレネル環による遠視修正であることを特
徴とする彫刻装置。５６特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さな領域とで照射するように動作し、
しかも、上記各照射領域は円形環状で、一定の内
径と、該内径と上記最大領域の外径との間の中間
で変化する外径を有し、これによつて、上記ジオ
プター変化が上記内径と上記外径によつて限定さ
れた彫刻されたフレネル環による近視修正である
ことを特徴とする彫刻装置。５７特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
いることを特徴とする彫刻装置。５８特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
おり、上記反射要素は間隔をおいて一直線上に整
列されていることを特徴とする彫刻装置。５９特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
おり、上記反射要素が回転軸の周りに間隔をおい
て整列されていることを特徴とする彫刻装置。６０特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が可変開口ダイアフラムからな
り、該ダイアフラムはダイアフラム開口の周囲の
連続環状領域にレーザビームを反射するように配
置された反射側面を備えていることを特徴とする
彫刻装置。６１特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が、角膜を同心の中心円形領域
および複数の同形の大きい領域とで照射するよう
に動作し、これによつて、上記ジオプター変化が
近視修正であることを特徴とする彫刻装置。６２特許請求の範囲第５１項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が、角膜を最大領域および複数
の同形の小さい領域で照射するように動作し、上
記各照射領域は、環であつて、上記最大領域内で
内径が変化し、これによつて、上記ジオプター変
化が遠視修正であることを特徴とする彫刻装置。６３患者の眼の角膜の前表面を基質へ浸透する
選択的除去によつて、角膜の光学的に機能を果た
す領域内の組織の容積除去を達成する眼科手術を
行う彫刻装置において、光軸上に電磁スペクトル
の紫外線領域の出力ビームを発生するレーザ手段
と、上記光軸上の上記ビームを反射し、角膜上の
該ビーム照射断面積を可変的に制限する反射手段
を含む光学手段であつて、その反射面積を変化さ
せる駆動手段を含み、該反射面積変化が除去され
るべき最大領域内で反射されたビーム断面領域を
発生する範囲上にあり、かつ眼の光軸と一直線上
に適合されたビーム投射軸に関して対称であり、
その投射されたビーム強度が角膜の基質の予め定
められた最大除去量の数分の１を単位時間に除去
するように制限されており、上記レーザ手段と上
記駆動手段とを、上記角膜上でのレーザビーム照
射が角膜へジオプター変化を生じるような反射さ
れたビーム断面積の変化に関連づけられるよう
に、整合させる制御接続部を備えたプログラム可
能な手段とを有する上記彫刻装置。６４特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を照射されたビームの
光軸上に中心が置かれ、上記最大領域に及ぶ狭い
長四角領域で照射するように動作し、上記反射手
段は、さらに、角膜を複数の同形の大きな領域で
照射するように動作し、上記各照射領域は、長四
角で該狭い領域の長さ方向に関して対称に幅が変
化するようにし、これによつて、上記ジオプター
変化が乱視修正となることを特徴とする彫刻装
置。６５特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を照射されたビームの
光軸上に中心が置かれ、上記最大領域に及ぶ狭い
長四角領域で照射するように動作し、上記反射手
段は、さらに、角膜を複数の同形の大きな領域で
照射するように動作し、上記各照射領域は、長四
角で該狭い領域の長さ方向に関して対称に幅が変
化するようにし、これによつて、上記ジオプター
変化が乱視修正となるようにし、上記領域の長さ
方向の向きが可変であることを特徴とする彫刻装
置。６６特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さな領域とで照射するように動作し、
しかも、上記各照射領域は円形環状で、外径は一
定で内径は一定の最小内径迄変化しており、これ
によつて、上記ジオプター変化が上記一定の外径
と上記一定の最小内径とによつて限定された彫刻
されたフレネル環による遠視修正であることを特
徴とする彫刻装置。６７特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段は、角膜を上記最大領域と複数
の同形の小さな領域とで照射するように動作し、
しかも、上記各照射領域は円形環状で、一定の内
径と、該内径と上記最大領域の外径との間の中間
で変化する外径を有し、これによつて、上記ジオ
プター変化が上記内径と上記外径によつて限定さ
れた彫刻されたフレネル環による近視修正である
ことを特徴とする彫刻装置。６８特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
いることを特徴とする彫刻装置。６９特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
おり、上記反射要素は間隔をおいて一直線上に整
列されていることを特徴とする彫刻装置。７０特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が一連の反射要素を表面に有す
る透明板を含み、該反射要素は徐々に面積が変化
しており、上記マイクロプロセツサで制御される
手段は、各反射要素を上記レーザビームの光軸に
順次整列させるように指定するために接続されて
おり、上記反射要素が回転軸の周りに間隔をおい
て整列されていることを特徴とする彫刻装置。７１特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が可変開口ダイアフラムからな
り、該ダイアフラムはダイアフラム開口の周囲の
連続環状領域にレーザビームを反射するように配
置された反射側面を備えていることを特徴とする
彫刻装置。７２特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が、角膜を同心の中心円形領域
および複数の同形の大きい領域とで照射するよう
に動作し、これによつて、上記ジオプター変化が
近視修正であることを特徴とする彫刻装置。７３特許請求の範囲第６３項の彫刻装置におい
て、上記反射手段が、角膜を最大領域および複数
の同形の小さい領域で照射するように動作し、上
記各照射領域は、環であつて、上記最大領域内で
内径が変化し、これによつて、上記ジオプター変
化が遠視修正であることを特徴とする彫刻装置。