JPH0262891B2 - - Google Patents
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- JPH0262891B2 JPH0262891B2 JP61193028A JP19302886A JPH0262891B2 JP H0262891 B2 JPH0262891 B2 JP H0262891B2 JP 61193028 A JP61193028 A JP 61193028A JP 19302886 A JP19302886 A JP 19302886A JP H0262891 B2 JPH0262891 B2 JP H0262891B2
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
A 産業上の利用分野
本発明は、垂直磁気記録媒体、とくにデイスク
基板と磁性層との間に金属間化合物核生成層を備
えた、改良された垂直磁気異方性をもつ薄膜合金
記録デイスクに関するものである。 B 従来技術 垂直磁気記録用の薄膜合金デイスクは、典型的
な場合、基板と、基板上に形成された非磁性中間
層と、この非磁性中間層上に形成されたほぼ垂直
な磁気異方性をもつ整然とした結晶構造の磁性層
を含んでいる。磁性層として使われる材料の一つ
は、〔00.2〕軸、即ち(C)軸がデイスク基板に対し
て垂直に配向した六方最密(HCP)結晶構造を
もつ膜を形成するようにスパツタリングで付着さ
せたコバルト−クロム(CoCr)合金である。垂
直磁気記録媒体製造の重要なフアクターは、
HCP結晶構造のCoCrまたはコバルト−クロム−
X(CoCrX)合金磁性層の配向を制御できること
である。HCP結晶構造のC軸を基板に対してど
の程度垂直に揃えられるのかの度合が、垂直保磁
力や水平保磁力などの磁気特性に強い影響を与え
る。 様々な基板、チタン(Ti)中間層およびCoCr
垂直磁性層を使つて作成された薄膜合金デイスク
の磁気特性は、“フジツー・サイエンテイフイツ
ク・アンド・テクニカル・ジヤーナル”(Fujitsu
Scientific and Technical Journal)第19巻、第
1号の第99乃至126頁に所載の小林等の論文“剛
性デイスク上での高密度垂直磁気記録”(High
Density Perpendicular Magnetic Recording
on Rigid Disks)に記載されている。この論文
では、Ti中間層を使つてCoCr膜の垂直磁気異方
性が大幅に改善されることを開示し、Ti中間層
がCoCr膜から基板の影響を隔離するために、
CoCr膜のC軸方向が改善されると示唆している。
CoCr垂直磁性層に対する中間層として非磁性コ
バルト−タンタル(CoTa)合金をもつ薄膜合金
デイスクが、特開昭59−77620号に開示されてい
る。 また、コバルト−クロム−タンタル
(CoCrTa)などの三元合金を磁性層材料として
使うことも知られている。欧州公開特許第93838
号では、不定形CoTa合金の軟磁性中間層と垂直
磁気異方性をもつCoCrTaの磁性層を備えた垂直
磁気記録用のデイスクが開示されている。厚さ
8000オングストロームのCoCrTa磁性層が厚さ
1000オングストロームのCr中間層に付着された
垂直記録デイスクの磁気特性は、“IEEEトランザ
クシヨンズ・オン・マグネテイツクス”(“IEEE
Transactions on Magnetics”)、第MAG17巻、
第6号、1981年11月の第2547乃至第2549頁に所載
のラングランド(Langland)とアルバート
(Albert)の論文“リング・ヘツドによる垂直異
方性媒体での記録”(Recording on
Perpendicular Anisotropy Media with Ring
Heads)に記載されている。 C 発明が解決しようとする問題点 従来の垂直磁気記録媒体は、垂直磁気異方性の
点で、また十分であるとは言えない。 D 問題点を解決するための手段 本発明は基板に順次形成する中間層若しくは核
生成層と磁性層に特定の材料を使うことによつ
て、記録媒体の垂直磁気異方性を改善する。 具体的に言えば、基板上の核生成層は、タング
ステン(W)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、
チタン(Ti)、バナジウム(V)、イリジウム
(Ir)及びジルコニウム(Zr)から成る群から選
択された第1の成分と、コバルト(Co)、クロム
(Cr)及びコバルト−クロム置換固溶体合金から
成る群から選択された第2の成分とから成る。第
1及び第2の成分は六方結晶構造を有する金属間
化合物を形成するように一定の化学量論的割合で
含まれている。 核生成層上の磁性層は、W、Mo、Nb、Ti及
びVから成る群から選択された元素と、コバルト
と、クロムとの三元合金から成り、且つ基板に対
してC軸が垂直になつている六方最密結晶構造を
有する。そして、核生成層及び磁性層の格子定数
は磁性層の六方結晶配向を増強するようにほぼ整
数倍の関係にある。 E 実施例 本発明に従つた垂直記録媒体としてのデイスク
は、核生成層を利用し、その上に、三元金属間化
合物を含む磁性層を付着させたものである。ここ
では、「金属間化合物」の語は、合金の形をとつ
た簡単な混合物以上のもので、各成分が固定した
化学量論的比率で存在し、組成物を基本的に化学
式で表わすことができるような化学的組成物を指
すものとする。コバルトとタングステンなど2つ
の元素の金属間二元化合物は、コバルト3原子に
対してタングステン1原子という離散的な化学量
論的比率でのみ存在する中間相である。Co3W金
属間化合物は、マグローヒル社より1958年に発行
された“二元合金の組成”(Constitution of
Binary Alloys)の第519頁などに記載されてい
るコバルトとタングステンの状態図に示されてい
る。三元金属間化合物では、第1の成分が単一元
素であり、第2の成分は、合金中の一方の元素が
置換固溶体の形で存在する合金である。たとえ
ば、三元金属間化合物(Co82Cr18)3Wは、Co原子
の一部が置換サイトでCr原子で置換されている
以外は、Co3Wと構造が同じである。第1表に、
核生成層として使用できる二元および三元金属間
化合物のリストを示す。第1表の金属間化合物
は、すべて六方最密結晶構造である。二元金属間
化合物の(六方)格子定数(a0)も第1表に示
す。
基板と磁性層との間に金属間化合物核生成層を備
えた、改良された垂直磁気異方性をもつ薄膜合金
記録デイスクに関するものである。 B 従来技術 垂直磁気記録用の薄膜合金デイスクは、典型的
な場合、基板と、基板上に形成された非磁性中間
層と、この非磁性中間層上に形成されたほぼ垂直
な磁気異方性をもつ整然とした結晶構造の磁性層
を含んでいる。磁性層として使われる材料の一つ
は、〔00.2〕軸、即ち(C)軸がデイスク基板に対し
て垂直に配向した六方最密(HCP)結晶構造を
もつ膜を形成するようにスパツタリングで付着さ
せたコバルト−クロム(CoCr)合金である。垂
直磁気記録媒体製造の重要なフアクターは、
HCP結晶構造のCoCrまたはコバルト−クロム−
X(CoCrX)合金磁性層の配向を制御できること
である。HCP結晶構造のC軸を基板に対してど
の程度垂直に揃えられるのかの度合が、垂直保磁
力や水平保磁力などの磁気特性に強い影響を与え
る。 様々な基板、チタン(Ti)中間層およびCoCr
垂直磁性層を使つて作成された薄膜合金デイスク
の磁気特性は、“フジツー・サイエンテイフイツ
ク・アンド・テクニカル・ジヤーナル”(Fujitsu
Scientific and Technical Journal)第19巻、第
1号の第99乃至126頁に所載の小林等の論文“剛
性デイスク上での高密度垂直磁気記録”(High
Density Perpendicular Magnetic Recording
on Rigid Disks)に記載されている。この論文
では、Ti中間層を使つてCoCr膜の垂直磁気異方
性が大幅に改善されることを開示し、Ti中間層
がCoCr膜から基板の影響を隔離するために、
CoCr膜のC軸方向が改善されると示唆している。
CoCr垂直磁性層に対する中間層として非磁性コ
バルト−タンタル(CoTa)合金をもつ薄膜合金
デイスクが、特開昭59−77620号に開示されてい
る。 また、コバルト−クロム−タンタル
(CoCrTa)などの三元合金を磁性層材料として
使うことも知られている。欧州公開特許第93838
号では、不定形CoTa合金の軟磁性中間層と垂直
磁気異方性をもつCoCrTaの磁性層を備えた垂直
磁気記録用のデイスクが開示されている。厚さ
8000オングストロームのCoCrTa磁性層が厚さ
1000オングストロームのCr中間層に付着された
垂直記録デイスクの磁気特性は、“IEEEトランザ
クシヨンズ・オン・マグネテイツクス”(“IEEE
Transactions on Magnetics”)、第MAG17巻、
第6号、1981年11月の第2547乃至第2549頁に所載
のラングランド(Langland)とアルバート
(Albert)の論文“リング・ヘツドによる垂直異
方性媒体での記録”(Recording on
Perpendicular Anisotropy Media with Ring
Heads)に記載されている。 C 発明が解決しようとする問題点 従来の垂直磁気記録媒体は、垂直磁気異方性の
点で、また十分であるとは言えない。 D 問題点を解決するための手段 本発明は基板に順次形成する中間層若しくは核
生成層と磁性層に特定の材料を使うことによつ
て、記録媒体の垂直磁気異方性を改善する。 具体的に言えば、基板上の核生成層は、タング
ステン(W)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、
チタン(Ti)、バナジウム(V)、イリジウム
(Ir)及びジルコニウム(Zr)から成る群から選
択された第1の成分と、コバルト(Co)、クロム
(Cr)及びコバルト−クロム置換固溶体合金から
成る群から選択された第2の成分とから成る。第
1及び第2の成分は六方結晶構造を有する金属間
化合物を形成するように一定の化学量論的割合で
含まれている。 核生成層上の磁性層は、W、Mo、Nb、Ti及
びVから成る群から選択された元素と、コバルト
と、クロムとの三元合金から成り、且つ基板に対
してC軸が垂直になつている六方最密結晶構造を
有する。そして、核生成層及び磁性層の格子定数
は磁性層の六方結晶配向を増強するようにほぼ整
数倍の関係にある。 E 実施例 本発明に従つた垂直記録媒体としてのデイスク
は、核生成層を利用し、その上に、三元金属間化
合物を含む磁性層を付着させたものである。ここ
では、「金属間化合物」の語は、合金の形をとつ
た簡単な混合物以上のもので、各成分が固定した
化学量論的比率で存在し、組成物を基本的に化学
式で表わすことができるような化学的組成物を指
すものとする。コバルトとタングステンなど2つ
の元素の金属間二元化合物は、コバルト3原子に
対してタングステン1原子という離散的な化学量
論的比率でのみ存在する中間相である。Co3W金
属間化合物は、マグローヒル社より1958年に発行
された“二元合金の組成”(Constitution of
Binary Alloys)の第519頁などに記載されてい
るコバルトとタングステンの状態図に示されてい
る。三元金属間化合物では、第1の成分が単一元
素であり、第2の成分は、合金中の一方の元素が
置換固溶体の形で存在する合金である。たとえ
ば、三元金属間化合物(Co82Cr18)3Wは、Co原子
の一部が置換サイトでCr原子で置換されている
以外は、Co3Wと構造が同じである。第1表に、
核生成層として使用できる二元および三元金属間
化合物のリストを示す。第1表の金属間化合物
は、すべて六方最密結晶構造である。二元金属間
化合物の(六方)格子定数(a0)も第1表に示
す。
【表】
第1表の各三元金属間化合物は、それに対応す
る二元金属間化合物の格子定数とほぼ同じ格子定
数を有する。これは、三元合金中にCrが置換固
溶体の形で存在し、またCoとCrの原子半径がほ
ぼ同じためである。 第1図は本発明によるデイスクの断面図を示し
ている。基板1はシリコンから成り、核生成層2
は厚さ500オングストロームの三元金属間化合物
(Co80Cr20)3Wから成り、磁性層3は厚さ5000オ
ングストロームの三元金属間化合物
(Co80Cr20)90Wから成る。(Co80Cr20)3W核生成層
2は、直流マグネトロン・スパツタリング室でア
ルゴン圧2×10-3トールで様々な基板付着温度で
シリコン基板1にスパツタリングで付着させて作
つた。その際、Co80Cr20とWとをターゲツトとし
て使用した。Co80Cr20ターゲツトとWターゲツト
に加える電力を、化学量論的比率が3:1になる
ように調節した。次にスパツタリング室の真空を
維持しながら、各ターゲツトに加える電力を変え
て、核生成層2上に(Co80Cr20)90W10磁性層3を
スパツタリングで付着させた。第2図は、第1図
のデイスクのヒステリシス・ループである。この
デイスクは、垂直保磁力が1000エルステツド
(Oe)、水平保磁力が75Oeである。 第3図に示すように、様々な基板付着温度すな
わちヒータ電力でのデイスクの作成からみると、
垂直保磁力は一般に電力が大きくなるにつれて直
線的に増加するが、面内保磁力ないし水平保磁力
はほとんど変化しないことがわかる。水平保磁力
とは独立に垂直保磁力を増加できることは、垂直
磁気記録媒体を製造する際にはつきりした利点で
あり、核生成層と磁性層の格子定数が適合関係に
あるためであると考えられている。たとえば、第
1表からわかるように、(Co80Cr20)3W核生成層
の格子定数は、Co3Wとほぼ同じ5.13オングスト
ロームであり、(Co80Cr20)90W10磁性層の格子定
数の約2倍である。 核生成層と磁性層の格子定数(a0)の関係は、
第1表および第4図を参照すると理解できる。第
4図は、シリコン基板上に付着した二元金属間化
合物Co3Wの厚さ100オングストロームの層のX
線回折曲線である。この層は、約43.5度でピーク
X線強度を示す。X線回折曲線(ピーク回折角2θ
を与える)とλ=2DSinθの関係式からCo3W層の
格子定数が求められる。なお、λはX線の波長、
Xはブラツク格子間隔である。ブラツク格子間隔
Dは、格子定数a0と直接に関係づけられる。
Co80Cr20は、格子定数a0=2.52オングストローム
の六方結晶である。第1表からわかるように、核
生成層Co3W、Co3Mo、Co2Nb、Co3V、Cr2Nb
及びCr2Zrは、a0の値がCo80Cr20のほぼ2倍であ
る。核生成層Co3TiとCrIrは、a0の値がCo80Cr20
とほぼ等しい。第4図には、Co82Cr18と
(Co80Cr20)90W10に対してピークX線強度がどこ
にあるかを示す線も示してある。第4図からわか
るように、Co3WとCo82Cr18は比較的近いピーク
回折角を有するが、Co3Wと(Co80Cr20)90W10と
はほとんど同じピーク回折角を有する。Co3Wの
格子定数は、(Co80Cr20)90W10の格子定数のほぼ
2倍である。すなわち磁性層にWを追加すると、
その格子定数が、その下にある核生成層の格子定
数により近づくように変化する。 第5図は、(Co80Cr20)3W核生成層上に付着さ
せた(CoCr)W磁性層中のWの割合が異なる3
種のデイスクの垂直保磁力及び水平保磁力を示し
たものである。すべてのデイスクは秀れた垂直/
水平保磁力を示し、水平保磁力が最小となるのは
W濃度が約10原子%のときである。第5図の各デ
イスクの(Co80Cr20)3W核生成層の厚さは、500
オングストロームであつた。しかし、他のデイス
クは、核生成層の厚さが300乃至1000オングスト
ロームであつたが、磁気特性に大きな影響はなか
つた。 95ワツトで付着させた(Co80Cr20)3W/
(Co80Cr20)90W10層構造(第3図)の配向をX線
回折で測定してC軸の分散を測定した。配向の絶
対測定は、ポリイミド基板上に層構造を付着さ
せ、層構造の透過と反射を検査して行なつた。反
射で得られるX線回折スペクトルは、(0002)面
だけが膜表面に平行なことを示した。透過で得ら
れるX線回折スペクトルは、層表面に垂直な成分
をもつ平面に対して敏感であるが、〔00.2〕軸に
垂直な平面だけが存在することを示した。これら
の結果は、(Co80Cr20)3W核生成層が
(Co80Cr20)90W10磁性層とほぼ完全に格子が一致
していることを示している。 本発明にもとづいて作成した媒体の磁性層にお
いて、CoCr全体に対するCrの割合は14乃至22原
子%であることが望ましい。14原子%未満では磁
化方向は依然として主に平面内であり、22原子%
を起えると磁気モーメントが著しく減少したの
で、これが垂直記録媒体で重要な固溶体合金の範
囲である。 本発明の媒体における核生成層は、Co80Cr20と
Wの2つのターゲツトからスパツタリング付着工
程で適切な3:1の化学量論的比率が得られるよ
うに各ターゲツトにかける電力を制御しつつ、ス
パツタリングによる付着で形成した。また市販の
Co3Wまたは(CoCr)3Wターゲツトを購入して、
単一ターゲツトを使つて核生成層をスパツタ付着
することもできる。 上記の説明と図面は、本発明に従つて垂直記録
媒体の一部を構成することのみに関係し、媒体お
よび媒体製造工程の周知の部分は含まない。たと
えば、薄膜合金デイスクの製造において、スパツ
タリングした炭素膜などの保護膜を磁性層上に設
け、場合によつてはスパツタリングで付着させた
チタン膜などの接着層を保護膜と磁性層との間に
設けることが知られている。さらに、媒体の同じ
側に配置された垂直磁気記録用磁極ヘツドと一緒
に媒体を使う場合、磁束リターン・パスを設ける
ために、核生成層と基板との間にニツケル−鉄
(NiFe)などの軟磁性層を設ける必要がある。 F 発明の効果 本発明の垂直記録媒体は、磁性層のC軸分散が
少ないので、非常に優れた垂直磁気異方性を示
す。これは、核生成層と磁性層の格子定数が適合
していることに基づいていると考えられる。
る二元金属間化合物の格子定数とほぼ同じ格子定
数を有する。これは、三元合金中にCrが置換固
溶体の形で存在し、またCoとCrの原子半径がほ
ぼ同じためである。 第1図は本発明によるデイスクの断面図を示し
ている。基板1はシリコンから成り、核生成層2
は厚さ500オングストロームの三元金属間化合物
(Co80Cr20)3Wから成り、磁性層3は厚さ5000オ
ングストロームの三元金属間化合物
(Co80Cr20)90Wから成る。(Co80Cr20)3W核生成層
2は、直流マグネトロン・スパツタリング室でア
ルゴン圧2×10-3トールで様々な基板付着温度で
シリコン基板1にスパツタリングで付着させて作
つた。その際、Co80Cr20とWとをターゲツトとし
て使用した。Co80Cr20ターゲツトとWターゲツト
に加える電力を、化学量論的比率が3:1になる
ように調節した。次にスパツタリング室の真空を
維持しながら、各ターゲツトに加える電力を変え
て、核生成層2上に(Co80Cr20)90W10磁性層3を
スパツタリングで付着させた。第2図は、第1図
のデイスクのヒステリシス・ループである。この
デイスクは、垂直保磁力が1000エルステツド
(Oe)、水平保磁力が75Oeである。 第3図に示すように、様々な基板付着温度すな
わちヒータ電力でのデイスクの作成からみると、
垂直保磁力は一般に電力が大きくなるにつれて直
線的に増加するが、面内保磁力ないし水平保磁力
はほとんど変化しないことがわかる。水平保磁力
とは独立に垂直保磁力を増加できることは、垂直
磁気記録媒体を製造する際にはつきりした利点で
あり、核生成層と磁性層の格子定数が適合関係に
あるためであると考えられている。たとえば、第
1表からわかるように、(Co80Cr20)3W核生成層
の格子定数は、Co3Wとほぼ同じ5.13オングスト
ロームであり、(Co80Cr20)90W10磁性層の格子定
数の約2倍である。 核生成層と磁性層の格子定数(a0)の関係は、
第1表および第4図を参照すると理解できる。第
4図は、シリコン基板上に付着した二元金属間化
合物Co3Wの厚さ100オングストロームの層のX
線回折曲線である。この層は、約43.5度でピーク
X線強度を示す。X線回折曲線(ピーク回折角2θ
を与える)とλ=2DSinθの関係式からCo3W層の
格子定数が求められる。なお、λはX線の波長、
Xはブラツク格子間隔である。ブラツク格子間隔
Dは、格子定数a0と直接に関係づけられる。
Co80Cr20は、格子定数a0=2.52オングストローム
の六方結晶である。第1表からわかるように、核
生成層Co3W、Co3Mo、Co2Nb、Co3V、Cr2Nb
及びCr2Zrは、a0の値がCo80Cr20のほぼ2倍であ
る。核生成層Co3TiとCrIrは、a0の値がCo80Cr20
とほぼ等しい。第4図には、Co82Cr18と
(Co80Cr20)90W10に対してピークX線強度がどこ
にあるかを示す線も示してある。第4図からわか
るように、Co3WとCo82Cr18は比較的近いピーク
回折角を有するが、Co3Wと(Co80Cr20)90W10と
はほとんど同じピーク回折角を有する。Co3Wの
格子定数は、(Co80Cr20)90W10の格子定数のほぼ
2倍である。すなわち磁性層にWを追加すると、
その格子定数が、その下にある核生成層の格子定
数により近づくように変化する。 第5図は、(Co80Cr20)3W核生成層上に付着さ
せた(CoCr)W磁性層中のWの割合が異なる3
種のデイスクの垂直保磁力及び水平保磁力を示し
たものである。すべてのデイスクは秀れた垂直/
水平保磁力を示し、水平保磁力が最小となるのは
W濃度が約10原子%のときである。第5図の各デ
イスクの(Co80Cr20)3W核生成層の厚さは、500
オングストロームであつた。しかし、他のデイス
クは、核生成層の厚さが300乃至1000オングスト
ロームであつたが、磁気特性に大きな影響はなか
つた。 95ワツトで付着させた(Co80Cr20)3W/
(Co80Cr20)90W10層構造(第3図)の配向をX線
回折で測定してC軸の分散を測定した。配向の絶
対測定は、ポリイミド基板上に層構造を付着さ
せ、層構造の透過と反射を検査して行なつた。反
射で得られるX線回折スペクトルは、(0002)面
だけが膜表面に平行なことを示した。透過で得ら
れるX線回折スペクトルは、層表面に垂直な成分
をもつ平面に対して敏感であるが、〔00.2〕軸に
垂直な平面だけが存在することを示した。これら
の結果は、(Co80Cr20)3W核生成層が
(Co80Cr20)90W10磁性層とほぼ完全に格子が一致
していることを示している。 本発明にもとづいて作成した媒体の磁性層にお
いて、CoCr全体に対するCrの割合は14乃至22原
子%であることが望ましい。14原子%未満では磁
化方向は依然として主に平面内であり、22原子%
を起えると磁気モーメントが著しく減少したの
で、これが垂直記録媒体で重要な固溶体合金の範
囲である。 本発明の媒体における核生成層は、Co80Cr20と
Wの2つのターゲツトからスパツタリング付着工
程で適切な3:1の化学量論的比率が得られるよ
うに各ターゲツトにかける電力を制御しつつ、ス
パツタリングによる付着で形成した。また市販の
Co3Wまたは(CoCr)3Wターゲツトを購入して、
単一ターゲツトを使つて核生成層をスパツタ付着
することもできる。 上記の説明と図面は、本発明に従つて垂直記録
媒体の一部を構成することのみに関係し、媒体お
よび媒体製造工程の周知の部分は含まない。たと
えば、薄膜合金デイスクの製造において、スパツ
タリングした炭素膜などの保護膜を磁性層上に設
け、場合によつてはスパツタリングで付着させた
チタン膜などの接着層を保護膜と磁性層との間に
設けることが知られている。さらに、媒体の同じ
側に配置された垂直磁気記録用磁極ヘツドと一緒
に媒体を使う場合、磁束リターン・パスを設ける
ために、核生成層と基板との間にニツケル−鉄
(NiFe)などの軟磁性層を設ける必要がある。 F 発明の効果 本発明の垂直記録媒体は、磁性層のC軸分散が
少ないので、非常に優れた垂直磁気異方性を示
す。これは、核生成層と磁性層の格子定数が適合
していることに基づいていると考えられる。
第1図は本発明にもとづく垂直磁気記録媒体の
断面図である。第2図は(Co80Cr20)3核生成層上
に形成された(Co80Cr20)90W10磁性層のヒステリ
シス・ループを示す図である。第3図は
(Co80Cr20)3W核生成層上に形成された
(Co80Cr20)90W10磁性層の垂直保磁力および水平
保磁力とヒータ電力との関係を示す図である。第
4図は100オングストロームの厚さのCo3WのX
線回折曲線を示すと共に、そのピークと、
(Co80Cr20)90W10及びCo82Cr18に関するピークを
示す図である。第5図は媒体の垂直保磁力および
水平保磁力と(CoCr)W磁性層中のWの割合と
の関係を示す図である。 1……基板、2……核生成層、3……磁性層。
断面図である。第2図は(Co80Cr20)3核生成層上
に形成された(Co80Cr20)90W10磁性層のヒステリ
シス・ループを示す図である。第3図は
(Co80Cr20)3W核生成層上に形成された
(Co80Cr20)90W10磁性層の垂直保磁力および水平
保磁力とヒータ電力との関係を示す図である。第
4図は100オングストロームの厚さのCo3WのX
線回折曲線を示すと共に、そのピークと、
(Co80Cr20)90W10及びCo82Cr18に関するピークを
示す図である。第5図は媒体の垂直保磁力および
水平保磁力と(CoCr)W磁性層中のWの割合と
の関係を示す図である。 1……基板、2……核生成層、3……磁性層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板と、 上記基板上に形成された核生成層であつて、タ
ングステン、モリブデン、ニオブ、チタン、バナ
ジウム、イリジウム及びジルコニウムから成る群
から選択された第1の成分と、コバルト、クロム
及びコバルト−クロム置換固溶体合金から成る群
から選択された第2の成分とから成り、該第1及
び第2の成分が六方最密結晶構造を有する金属間
化合物を形成するように一定の化学量論的比率で
含まれているものと、 上記核生成層上に形成された磁性層であつて、
タングステン、モリブデン、ニオブ、チタン及び
バナジウムから成る群から選択された元素と、コ
バルトと、クロムとから成る三元合金から成り、
且つ上記基板に対してC軸が垂直になつている六
方最密結晶構造を有するものと を有し、上記核生成層及び上記磁性層の格子定数
が上記磁性層の六方結晶配向を増強するようにほ
ぼ整数倍の関係になつている垂直磁気記録媒体。 2 上記磁性層の三元合金中のコバルトとクロム
との割合が100−y対yであり、yが14乃至22の
範囲にある特許請求の範囲第1項記載の垂直磁気
記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/791,963 US4657824A (en) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | Vertical magnetic recording medium with an intermetallic compound nucleating layer |
| US791963 | 1985-10-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62102419A JPS62102419A (ja) | 1987-05-12 |
| JPH0262891B2 true JPH0262891B2 (ja) | 1990-12-26 |
Family
ID=25155377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61193028A Granted JPS62102419A (ja) | 1985-10-28 | 1986-08-20 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4657824A (ja) |
| EP (1) | EP0220597B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62102419A (ja) |
| DE (1) | DE3668717D1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07101495B2 (ja) * | 1985-07-03 | 1995-11-01 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
| US4749628A (en) * | 1986-04-29 | 1988-06-07 | International Business Machines Corporation | Multilayered vertical magnetic recording medium |
| JP2522246B2 (ja) * | 1986-05-06 | 1996-08-07 | ブラザー工業株式会社 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63300428A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| DE3850824T2 (de) * | 1987-08-06 | 1995-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co | Magnetplatte für waagerechte Aufnahme. |
| JPH01185816A (ja) * | 1988-01-20 | 1989-07-25 | Mitsubishi Electric Corp | 垂直磁気記録媒体 |
| US5063120A (en) * | 1988-02-25 | 1991-11-05 | International Business Machines Corporation | Thin film magentic media |
| JP2728498B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1998-03-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
| JP2834154B2 (ja) * | 1988-10-21 | 1998-12-09 | ストアメディア インコーポレーテッド | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 |
| US5242761A (en) * | 1990-07-03 | 1993-09-07 | Digital Equipment Corporation Japan | Magnetic recording medium comprising NiFe and CoZr alloy crystalline magnetic alloy layers and a Co-Cr vertically magnetizable layer |
| TW390998B (en) | 1996-05-20 | 2000-05-21 | Hitachi Ltd | Magnetic recording media and magnetic recording system using the same |
| US6849326B1 (en) | 2000-10-10 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Niobium alloy seedlayer for magnetic recording media |
| AU2003240813A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-23 | Seagate Technology Llc | Intermediate layer for perpendicular magnetic recording media |
| US8119266B2 (en) * | 2007-01-09 | 2012-02-21 | Konica Minolta Opto, Inc. | Magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium substrate, and method for manufacturing magnetic recording medium |
| JP2010033632A (ja) | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Showa Denko Kk | 磁気記憶媒体および情報記憶装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4079169A (en) * | 1976-11-15 | 1978-03-14 | International Business Machines Corporation | Cobalt base alloy as protective layer for magnetic recording media |
| JPS55122232A (en) * | 1979-03-07 | 1980-09-19 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
| JPS58141433A (ja) * | 1982-02-16 | 1983-08-22 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法 |
| JPS5977620A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-04 | Seiko Epson Corp | 垂直磁気記録媒体 |
| JPS6029927A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| EP0140513A1 (en) * | 1983-08-24 | 1985-05-08 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic recording structures |
-
1985
- 1985-10-28 US US06/791,963 patent/US4657824A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-08-20 JP JP61193028A patent/JPS62102419A/ja active Granted
- 1986-10-14 EP EP86114203A patent/EP0220597B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-14 DE DE8686114203T patent/DE3668717D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0220597A3 (en) | 1988-07-06 |
| DE3668717D1 (de) | 1990-03-08 |
| EP0220597B1 (en) | 1990-01-31 |
| JPS62102419A (ja) | 1987-05-12 |
| US4657824A (en) | 1987-04-14 |
| EP0220597A2 (en) | 1987-05-06 |
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