JPH026344B2 - - Google Patents
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- JPH026344B2 JPH026344B2 JP56069145A JP6914581A JPH026344B2 JP H026344 B2 JPH026344 B2 JP H026344B2 JP 56069145 A JP56069145 A JP 56069145A JP 6914581 A JP6914581 A JP 6914581A JP H026344 B2 JPH026344 B2 JP H026344B2
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Description
本発明はフエニルアセトニトリル誘導体の新規
な製造法に関する。更に詳しくは本発明は一般式 ［式中Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、R′はアルキル基、アルケ
ニル基、置換基としてニトロ基を有するアリール
基またはアラルキル基を示す。］で表わされるフ
エニルアセトニトリル誘導体及び一般式 ［式中R′は前記に同じ。］で表わされるフエニル
アセトニトリル誘導体の新規な製造法に関する。 上記一般式(1)及び(2)で表わされるフエニルアセ
トニトリル誘導体は医薬、染料中間体及び各種化
学薬品の合成原料として有用な化合物であり、従
来より種々の方法が開発されている。例えば一般
式 ［式中Ｒは前記に同じ。］で表わされるフエニル
アセトニトリル誘導体または式 で示されるフエニルアセトニトリルと一般式 R′X (5) ［式中Ｘはハロゲン原子を示す。R′は前記に同
じ。］で表わされるハロゲン化合物とを適当な溶
媒中ナトリウムアミド、金属ナトリウム、ナトリ
ウムアルコキシド等の塩基の存在下に反応させる
方法 〔A.C.Cope、H.L.Holmes、and H.O.House、
Org.React.、９、107（1957）参照〕、一般式(3)の
化合物または式(4)の化合物と一般式(5)の化合物と
を水酸化アルカリ水溶液中第４級アンモニウム塩
の存在下に反応させる方法〔M.Makosza、B.
Serafin、Rocz.Chem.、39、1223、1401（1965）
参照〕等が知られている。しかしながらこれらの
方法はいずれも工業的に不利な方法である。即ち
前者の方法では、塩基が高価であり且つ取扱いが
困難であり、また用いられる溶媒も完全に脱水さ
れている必要があり、しかも目的化合物の収率は
せいぜい70〜80％程度に止まる。また後者の方法
では、触媒として用いられる第４級アンモニウム
塩が水酸化アルカリ水溶液中で不安定であり反応
の進行と共に分解されるので、反応終了後第４級
アンモニウム塩を定量的に回収し得ず、また斯か
る分解物が目的化合物に混入されるために目的化
合物の純度も不充分であり、しかもその収率も80
％程度に止まる。 本発明者は斯かる現状に鑑みフエニルアセトニ
トリル誘導体を簡便な操作により高収率且つ高純
度で得るべく鋭意研究を重ねてきた。その結果上
記一般式(3)で表わされるフエニルアセトニトリル
誘導体または式(4)で示されるフエニルアセトニト
リルと一般式(5)で表わされるハロゲン化合物とを
反応させる際に、反応系内に一般式 R1O（C2H4O）nR2 (6) ［式中R1及びR2は同一または相異なつて水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基を、ｍは４〜460の整数をそれぞ
れ示す。］で表わされる化合物を存在させた場合
には、上記反応が好適に進行して本発明の所期の
目的を達成し得ることを見い出した。本発明は斯
かる知見に基づき完成されたものである。 本発明の方法によれば温和な条件下に且つ簡便
な操作により目的とするフエニルアセトニトリル
誘導体を90％以上、場合によつては95％以上とい
う高収率でしかも95％以上の高純度で得ることが
できる。また本発明の方法では、用いられる一般
式(6)で表わされる化合物が安価であり、毒性は殆
んどなく取扱いも容易であり、しかも反応系内で
は安定であり定量的に回収でき、再使用も可能で
ある。それ故本発明の方法は工業的に極めて有利
な方法であるということができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式(3)で表わされるフエニルアセトニトリル誘導体
及び式(4)で示されるフエニルアセトニトリルはい
ずれも公知の化合物である。一般式(3)においてＲ
で示されるアルキル基にはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、tert−
ブチル、ｎ−アミル、iso−アミル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル基等が包含さ
れ、アリール基にはフエニル、ｏ−メチルフエニ
ル、ｐ−メチルフエニル、クロロフエニル、ジク
ロロフエニル、ニトロフエニル、ニトロクロロフ
エニル等が包含され、アラルキル基にはベンジ
ル、α−メチルベンジル、ジフエニルメチル、α
−クロロベンジル、２−フエニルエチル、３−フ
エニルプロピル等が包含される。一般式(3)のフエ
ニルアセトニトリル誘導体としては具体的にはフ
エニルアセトニトリル、２−フエニルプロピオニ
トリル、２−フエニルブチロニトリル、２−フエ
ニルヘキサンニトリル、２−フエニルデカンニト
リル、２−フエニル−３−メチルペンタンニトリ
ル、２，３−ジフエニルプロピオニトリル、２，
３−ジフエニルブチロニトリル、ジフエニルアセ
トニトリル、ナフチルアセトニトリル、２，６−
ジクロロフエニルアセトニトリル、ｏ−メチルフ
エニルアセトニトリル等を例示できる。 本発明に於て他の一方の出発原料として用いら
れる一般式(5)で表わされるハロゲン化合物はいず
れも公知の化合物である。一般式(5)において
R′で示されるアルキル基にはメチル、エチル、
ｎ−プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、sec
−ブチル、ｎ−アミル、iso−アミル、ｎ−ヘキ
シル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル基等が包含さ
れ、アルケニル基にはアリル、メタアリル、クロ
チル基等が包含され、アリール基には２−ニトロ
フエニル、４−ニトロフエニル、２，４−ジニト
ロフエニル、３−クロロ−４−ニトロフエニル、
２−ニトロ−４−クロロフエニル、３−ブロモ−
４−ニトロフエニル、３−メチル−４−ニトロフ
エニル、２−ニトロ−４−メトキシフエニル基等
が包含され、またアラルキル基にはベンジル、２
−フエニルエチル、ｐ−メチルベンジル、３−フ
エニルプロピル、ナフチルメチル基等が包含され
る。一般式(5)のハロゲン化合物としては具体的に
は塩化メチル、塩化エチル、塩化ｎ−プロピル、
塩化iso−プロピル、塩化ｎ−ブチル、塩化ｎ−
アミル、塩化iso−アミル、塩化ｎ−ヘキシル、
塩化ｎ−ヘプチル、塩化ｎ−ペンチル、塩化ｎ−
オクチル、塩化ベンジル、塩化ｐ−メチルベンジ
ル、塩化２−フエニルエチル、塩化３−フエニル
プロピル、塩化ナフチルメチル、２，４−ジニト
ロクロロベンゼン、２−ニトロクロロベンゼン、
４−ニトロクロロベンゼン、３，４−ジクロロニ
トロベンゼン、２，５−ジクロロニトロベンゼ
ン、２−メトキシ−３−クロロニトロベンゼン、
２−メチル−３−クロロニトロベンゼン等の塩化
物やこれらの化合物の塩素原子を弗素原子、臭素
原子または沃素原子で置き換えた化合物を例示で
きる。 本発明では一般式(3)で表わされるフエニルアセ
トニトリル誘導体または式(4)で示されるフエニル
アセトニトリルと一般式(5)で表わされるハロゲン
化合物との反応を一般式(6)で表わされる化合物の
存在下に行なうことを必須としている。一般式(6)
においてR1及びR2で示されるアルキル基にはメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル、iso−
アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル、
ｎ−セチル、ｎ−ステアリル基等が、アルケニル
基にはｎ−オレイル基等が、アリール基にはフエ
ニル、ｎ−オクチルフエニル、ｎ−ノニルフエニ
ル、ナフチル基等が、またアラルキル基にはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等がそれぞれ包含される。一般式(6)で表わさ
れる化合物としては具体的にはポリエチレングリ
コール−200、−300、−400、−600、−1000、−1500、
−1540、−2000、−4000、−6000、−20000、これら
のモノまたはジメチルエーテル、モノまたはジエ
チルエーテル、モノまたはジプロピルエーテル、
モノまたはジブチルエーテル、モノまたはジペン
チルエーテル、モノまたはジヘキシルエーテル、
モノまたはジヘプチルエーテル、モノまたはジオ
クチルエーテル、モノまたはジノニルエーテル、
モノまたジデシルエーテル、モノラウリルエーテ
ル、モノセチルエーテル、モノステアリルエーテ
ル、モノオレイルエーテル、モノオクチルフエニ
ルエーテル、モノノニルフエニルエーテル、モノ
フエニルエーテル、モノナフチルエーテル、モノ
ベンジルエーテル、モノフエニルエチルエーテ
ル、ラウリルメチルエーテル、ラウリルエチルエ
ーテル、ラウリルプロピルエーテル、ラウリルブ
チルエーテル、セチルメチルエーテル、セチルエ
チルエーテル、セチルプロピルエーテル、セチル
ブチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ス
テアリルエチルエーテル、ステアリルプロピルエ
ーテル、ステアリルブチルエーテル、オレイルメ
チルエーテル、オレイルエチルエーテル、オレイ
ルプロピルエーテル、オレイルブチルエーテル、
オクチルフエニル・メチルエーテル、オクチルフ
エニル・エチルエーテル、オクチルフエニル・プ
ロピルエーテル、オクチルフエニル・ブチルエー
テル、ノニルフエニル・メチルエーテル、ノニル
フエニル・エチルエーテル、ノニルフエニル・プ
ロピルエーテル、ノニルフエニル・ブチルエーテ
ル、ジフエニルエーテル、ジナフチルエーテル、
ジベンジルエーテル、ジフエニルエチルエーテル
等を例示できる。これらのうちでポリエチレング
リコール（PEG）−400−ジメチルエーテル、
PEG−400−ジエチルエーテル、PEG−400−ジ
−ｎ−プロピルエーテル、PEG−400−ジ−ｎ−
ブチルエーテル、PEG−600−ジメチルエーテ
ル、PEG−600−ジエチルエーテル、PEG−600
−ジ−ｎ−プロピルエーテル、PEG−600−ジ−
ｎ−ブチルエーテル、PEG−1000−ジメチルエ
ーテル及びPEG−1000−ジエチルエーテルが特
に好適である。斯かる一般式(6)の化合物の使用量
としては特に限定されず用いられる化合物の種類
等に応じて適宜選択すればよいが、一般には一般
式(3)の化合物または式(4)の化合物に対して１モル
％以上反応系内に存在させればよい。 一般式(3)のフエニルアセトニトリル誘導体と一
般式(5)のハロゲン化合物とを反応させて一般式(1)
のフエニルアセトニトリル誘導体を得る反応にお
いて、両者の使用割合としては特に限定されない
が、通常前者に対して後者を0.1〜1.5モル倍モル
量、好ましくは等モル〜1.1倍モル量用いるのが
よい。また式(4)のフエニルアセトニトリルと一般
式(5)のハロゲン化合物とを反応させて一般式(2)の
フエニルアセトニトリル誘導体を得る反応におい
て、両者の使用割合としては特に限定されない
が、通常前者に対して後者を２〜５倍モル量、好
ましくは２〜2.5倍モル量用いるのがよい。 一般式(3)のフエニルアセトニトリル誘導体また
は式(4)のフエニルアセトニトリルと一般式(5)のハ
ロゲン化合物との反応は一般には水酸化アルカリ
水溶液中にて行なわれる。斯かる水酸化アルカリ
としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等を挙げることがき、該水溶液中の水酸化アル
カリ濃度は通常40〜65％範囲内にあればよい。該
反応は通常30〜100℃程度、好ましくは30〜70℃
にて行なわれ、一般には２〜８時間程度で反応は
終了する。斯くして目的とする一般式(1)及び(2)の
化合物が製造される。 斯くして得られる目的化合物は通常の分離手
段、例えば蒸留、再結晶等により反応混合物から
容易に単離、精製される。 以下に実施例を挙げる。 実施例 １ 下記第１表記載の通り、一般式(3)の化合物0.2
モル、一般式(6)の化合物所定量、85％水酸化カリ
ウム66ｇ（１モル）及び水28ｇの混合液を所定の
温度で激しく撹拌しながら、一般式(5)の化合物
0.21モルとベンゼン40mlとの混合液を２時間要し
て滴下し、更に同温度で所定時間撹拌後室温まで
冷却した。ベンゼン50mlを加え、分離後ベンゼン
層を約５％塩酸水溶液で抽出する（50ml×４回）。
次にベンゼン層を水洗後硫酸ナトリウムで乾燥す
る。ベンゼンを留去し、残渣を減圧蒸留し、目的
とする一般式(1)の化合物を得る。その結果（収率
及び純度）を第２表に示す。尚第１表における一
般式(6)の化合物の種類を示す記号は次の化合物を
意味する。 ：PEG−600−Bu2 ：PEG−1000−Et2
な製造法に関する。更に詳しくは本発明は一般式 ［式中Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、R′はアルキル基、アルケ
ニル基、置換基としてニトロ基を有するアリール
基またはアラルキル基を示す。］で表わされるフ
エニルアセトニトリル誘導体及び一般式 ［式中R′は前記に同じ。］で表わされるフエニル
アセトニトリル誘導体の新規な製造法に関する。 上記一般式(1)及び(2)で表わされるフエニルアセ
トニトリル誘導体は医薬、染料中間体及び各種化
学薬品の合成原料として有用な化合物であり、従
来より種々の方法が開発されている。例えば一般
式 ［式中Ｒは前記に同じ。］で表わされるフエニル
アセトニトリル誘導体または式 で示されるフエニルアセトニトリルと一般式 R′X (5) ［式中Ｘはハロゲン原子を示す。R′は前記に同
じ。］で表わされるハロゲン化合物とを適当な溶
媒中ナトリウムアミド、金属ナトリウム、ナトリ
ウムアルコキシド等の塩基の存在下に反応させる
方法 〔A.C.Cope、H.L.Holmes、and H.O.House、
Org.React.、９、107（1957）参照〕、一般式(3)の
化合物または式(4)の化合物と一般式(5)の化合物と
を水酸化アルカリ水溶液中第４級アンモニウム塩
の存在下に反応させる方法〔M.Makosza、B.
Serafin、Rocz.Chem.、39、1223、1401（1965）
参照〕等が知られている。しかしながらこれらの
方法はいずれも工業的に不利な方法である。即ち
前者の方法では、塩基が高価であり且つ取扱いが
困難であり、また用いられる溶媒も完全に脱水さ
れている必要があり、しかも目的化合物の収率は
せいぜい70〜80％程度に止まる。また後者の方法
では、触媒として用いられる第４級アンモニウム
塩が水酸化アルカリ水溶液中で不安定であり反応
の進行と共に分解されるので、反応終了後第４級
アンモニウム塩を定量的に回収し得ず、また斯か
る分解物が目的化合物に混入されるために目的化
合物の純度も不充分であり、しかもその収率も80
％程度に止まる。 本発明者は斯かる現状に鑑みフエニルアセトニ
トリル誘導体を簡便な操作により高収率且つ高純
度で得るべく鋭意研究を重ねてきた。その結果上
記一般式(3)で表わされるフエニルアセトニトリル
誘導体または式(4)で示されるフエニルアセトニト
リルと一般式(5)で表わされるハロゲン化合物とを
反応させる際に、反応系内に一般式 R1O（C2H4O）nR2 (6) ［式中R1及びR2は同一または相異なつて水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基を、ｍは４〜460の整数をそれぞ
れ示す。］で表わされる化合物を存在させた場合
には、上記反応が好適に進行して本発明の所期の
目的を達成し得ることを見い出した。本発明は斯
かる知見に基づき完成されたものである。 本発明の方法によれば温和な条件下に且つ簡便
な操作により目的とするフエニルアセトニトリル
誘導体を90％以上、場合によつては95％以上とい
う高収率でしかも95％以上の高純度で得ることが
できる。また本発明の方法では、用いられる一般
式(6)で表わされる化合物が安価であり、毒性は殆
んどなく取扱いも容易であり、しかも反応系内で
は安定であり定量的に回収でき、再使用も可能で
ある。それ故本発明の方法は工業的に極めて有利
な方法であるということができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式(3)で表わされるフエニルアセトニトリル誘導体
及び式(4)で示されるフエニルアセトニトリルはい
ずれも公知の化合物である。一般式(3)においてＲ
で示されるアルキル基にはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、tert−
ブチル、ｎ−アミル、iso−アミル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル基等が包含さ
れ、アリール基にはフエニル、ｏ−メチルフエニ
ル、ｐ−メチルフエニル、クロロフエニル、ジク
ロロフエニル、ニトロフエニル、ニトロクロロフ
エニル等が包含され、アラルキル基にはベンジ
ル、α−メチルベンジル、ジフエニルメチル、α
−クロロベンジル、２−フエニルエチル、３−フ
エニルプロピル等が包含される。一般式(3)のフエ
ニルアセトニトリル誘導体としては具体的にはフ
エニルアセトニトリル、２−フエニルプロピオニ
トリル、２−フエニルブチロニトリル、２−フエ
ニルヘキサンニトリル、２−フエニルデカンニト
リル、２−フエニル−３−メチルペンタンニトリ
ル、２，３−ジフエニルプロピオニトリル、２，
３−ジフエニルブチロニトリル、ジフエニルアセ
トニトリル、ナフチルアセトニトリル、２，６−
ジクロロフエニルアセトニトリル、ｏ−メチルフ
エニルアセトニトリル等を例示できる。 本発明に於て他の一方の出発原料として用いら
れる一般式(5)で表わされるハロゲン化合物はいず
れも公知の化合物である。一般式(5)において
R′で示されるアルキル基にはメチル、エチル、
ｎ−プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、sec
−ブチル、ｎ−アミル、iso−アミル、ｎ−ヘキ
シル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル基等が包含さ
れ、アルケニル基にはアリル、メタアリル、クロ
チル基等が包含され、アリール基には２−ニトロ
フエニル、４−ニトロフエニル、２，４−ジニト
ロフエニル、３−クロロ−４−ニトロフエニル、
２−ニトロ−４−クロロフエニル、３−ブロモ−
４−ニトロフエニル、３−メチル−４−ニトロフ
エニル、２−ニトロ−４−メトキシフエニル基等
が包含され、またアラルキル基にはベンジル、２
−フエニルエチル、ｐ−メチルベンジル、３−フ
エニルプロピル、ナフチルメチル基等が包含され
る。一般式(5)のハロゲン化合物としては具体的に
は塩化メチル、塩化エチル、塩化ｎ−プロピル、
塩化iso−プロピル、塩化ｎ−ブチル、塩化ｎ−
アミル、塩化iso−アミル、塩化ｎ−ヘキシル、
塩化ｎ−ヘプチル、塩化ｎ−ペンチル、塩化ｎ−
オクチル、塩化ベンジル、塩化ｐ−メチルベンジ
ル、塩化２−フエニルエチル、塩化３−フエニル
プロピル、塩化ナフチルメチル、２，４−ジニト
ロクロロベンゼン、２−ニトロクロロベンゼン、
４−ニトロクロロベンゼン、３，４−ジクロロニ
トロベンゼン、２，５−ジクロロニトロベンゼ
ン、２−メトキシ−３−クロロニトロベンゼン、
２−メチル−３−クロロニトロベンゼン等の塩化
物やこれらの化合物の塩素原子を弗素原子、臭素
原子または沃素原子で置き換えた化合物を例示で
きる。 本発明では一般式(3)で表わされるフエニルアセ
トニトリル誘導体または式(4)で示されるフエニル
アセトニトリルと一般式(5)で表わされるハロゲン
化合物との反応を一般式(6)で表わされる化合物の
存在下に行なうことを必須としている。一般式(6)
においてR1及びR2で示されるアルキル基にはメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル、iso−
アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル、
ｎ−セチル、ｎ−ステアリル基等が、アルケニル
基にはｎ−オレイル基等が、アリール基にはフエ
ニル、ｎ−オクチルフエニル、ｎ−ノニルフエニ
ル、ナフチル基等が、またアラルキル基にはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等がそれぞれ包含される。一般式(6)で表わさ
れる化合物としては具体的にはポリエチレングリ
コール−200、−300、−400、−600、−1000、−1500、
−1540、−2000、−4000、−6000、−20000、これら
のモノまたはジメチルエーテル、モノまたはジエ
チルエーテル、モノまたはジプロピルエーテル、
モノまたはジブチルエーテル、モノまたはジペン
チルエーテル、モノまたはジヘキシルエーテル、
モノまたはジヘプチルエーテル、モノまたはジオ
クチルエーテル、モノまたはジノニルエーテル、
モノまたジデシルエーテル、モノラウリルエーテ
ル、モノセチルエーテル、モノステアリルエーテ
ル、モノオレイルエーテル、モノオクチルフエニ
ルエーテル、モノノニルフエニルエーテル、モノ
フエニルエーテル、モノナフチルエーテル、モノ
ベンジルエーテル、モノフエニルエチルエーテ
ル、ラウリルメチルエーテル、ラウリルエチルエ
ーテル、ラウリルプロピルエーテル、ラウリルブ
チルエーテル、セチルメチルエーテル、セチルエ
チルエーテル、セチルプロピルエーテル、セチル
ブチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ス
テアリルエチルエーテル、ステアリルプロピルエ
ーテル、ステアリルブチルエーテル、オレイルメ
チルエーテル、オレイルエチルエーテル、オレイ
ルプロピルエーテル、オレイルブチルエーテル、
オクチルフエニル・メチルエーテル、オクチルフ
エニル・エチルエーテル、オクチルフエニル・プ
ロピルエーテル、オクチルフエニル・ブチルエー
テル、ノニルフエニル・メチルエーテル、ノニル
フエニル・エチルエーテル、ノニルフエニル・プ
ロピルエーテル、ノニルフエニル・ブチルエーテ
ル、ジフエニルエーテル、ジナフチルエーテル、
ジベンジルエーテル、ジフエニルエチルエーテル
等を例示できる。これらのうちでポリエチレング
リコール（PEG）−400−ジメチルエーテル、
PEG−400−ジエチルエーテル、PEG−400−ジ
−ｎ−プロピルエーテル、PEG−400−ジ−ｎ−
ブチルエーテル、PEG−600−ジメチルエーテ
ル、PEG−600−ジエチルエーテル、PEG−600
−ジ−ｎ−プロピルエーテル、PEG−600−ジ−
ｎ−ブチルエーテル、PEG−1000−ジメチルエ
ーテル及びPEG−1000−ジエチルエーテルが特
に好適である。斯かる一般式(6)の化合物の使用量
としては特に限定されず用いられる化合物の種類
等に応じて適宜選択すればよいが、一般には一般
式(3)の化合物または式(4)の化合物に対して１モル
％以上反応系内に存在させればよい。 一般式(3)のフエニルアセトニトリル誘導体と一
般式(5)のハロゲン化合物とを反応させて一般式(1)
のフエニルアセトニトリル誘導体を得る反応にお
いて、両者の使用割合としては特に限定されない
が、通常前者に対して後者を0.1〜1.5モル倍モル
量、好ましくは等モル〜1.1倍モル量用いるのが
よい。また式(4)のフエニルアセトニトリルと一般
式(5)のハロゲン化合物とを反応させて一般式(2)の
フエニルアセトニトリル誘導体を得る反応におい
て、両者の使用割合としては特に限定されない
が、通常前者に対して後者を２〜５倍モル量、好
ましくは２〜2.5倍モル量用いるのがよい。 一般式(3)のフエニルアセトニトリル誘導体また
は式(4)のフエニルアセトニトリルと一般式(5)のハ
ロゲン化合物との反応は一般には水酸化アルカリ
水溶液中にて行なわれる。斯かる水酸化アルカリ
としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等を挙げることがき、該水溶液中の水酸化アル
カリ濃度は通常40〜65％範囲内にあればよい。該
反応は通常30〜100℃程度、好ましくは30〜70℃
にて行なわれ、一般には２〜８時間程度で反応は
終了する。斯くして目的とする一般式(1)及び(2)の
化合物が製造される。 斯くして得られる目的化合物は通常の分離手
段、例えば蒸留、再結晶等により反応混合物から
容易に単離、精製される。 以下に実施例を挙げる。 実施例 １ 下記第１表記載の通り、一般式(3)の化合物0.2
モル、一般式(6)の化合物所定量、85％水酸化カリ
ウム66ｇ（１モル）及び水28ｇの混合液を所定の
温度で激しく撹拌しながら、一般式(5)の化合物
0.21モルとベンゼン40mlとの混合液を２時間要し
て滴下し、更に同温度で所定時間撹拌後室温まで
冷却した。ベンゼン50mlを加え、分離後ベンゼン
層を約５％塩酸水溶液で抽出する（50ml×４回）。
次にベンゼン層を水洗後硫酸ナトリウムで乾燥す
る。ベンゼンを留去し、残渣を減圧蒸留し、目的
とする一般式(1)の化合物を得る。その結果（収率
及び純度）を第２表に示す。尚第１表における一
般式(6)の化合物の種類を示す記号は次の化合物を
意味する。 ：PEG−600−Bu2 ：PEG−1000−Et2
【表】
【表】
【表】
尚上記反応において、一般式(6)の化合物を回収
するために、塩酸の抽出液は20mlのベンゼンで一
度抽出した後、水層に水酸化ナトリウム60ｇを加
え、ベンゼンで抽出する（50ml×３回）。乾燥後
ベンゼンを窒素気流下に減圧留去し、さらに１mm
Ｈｇ、110〜120℃で１時間処理すると残渣として
一般式(6)の化合物が99％以上の回収率で回収でき
る。 実施例 ２ 下記第３表記載の通り、一般式(4)の化合物0.2
モル、一般式(6)の化合物所定量、一般式(5)の化合
物0.5モル、85％水酸化カリウム198ｇ（３モル）
及び水84ｇの混合液を所定の温度で所定時間激し
く撹拌後室温まで冷却した。ベンゼン50mlを加
え、分離後ベンゼン層を約５％塩酸水溶液で抽出
する（50ml×４回）。次にベンゼン層を水洗後硫
酸ナトリウムで乾燥する。ベンゼンを留去し、残
渣を減圧蒸留し、目的とする一般式(2)の化合物を
得る。その結果（収率及び純度）を第４表に示
す。尚第３表における一般式(6)の化合物の種類を
示す記号は次の化合物を意味する。 ：PEG−600−Bu2 ：PEG−1000−Et2 ：PEG−1000
するために、塩酸の抽出液は20mlのベンゼンで一
度抽出した後、水層に水酸化ナトリウム60ｇを加
え、ベンゼンで抽出する（50ml×３回）。乾燥後
ベンゼンを窒素気流下に減圧留去し、さらに１mm
Ｈｇ、110〜120℃で１時間処理すると残渣として
一般式(6)の化合物が99％以上の回収率で回収でき
る。 実施例 ２ 下記第３表記載の通り、一般式(4)の化合物0.2
モル、一般式(6)の化合物所定量、一般式(5)の化合
物0.5モル、85％水酸化カリウム198ｇ（３モル）
及び水84ｇの混合液を所定の温度で所定時間激し
く撹拌後室温まで冷却した。ベンゼン50mlを加
え、分離後ベンゼン層を約５％塩酸水溶液で抽出
する（50ml×４回）。次にベンゼン層を水洗後硫
酸ナトリウムで乾燥する。ベンゼンを留去し、残
渣を減圧蒸留し、目的とする一般式(2)の化合物を
得る。その結果（収率及び純度）を第４表に示
す。尚第３表における一般式(6)の化合物の種類を
示す記号は次の化合物を意味する。 ：PEG−600−Bu2 ：PEG−1000−Et2 ：PEG−1000
【表】
【表】
尚上記反応において、一般式(6)の化合物を回収
するために、塩酸の抽出液は20mlのベンゼンで一
度抽出した後、水層に水酸化ナトリウム60ｇを加
え、ベンゼンで抽出する（50ml×３回）。乾燥後
ベンゼンを窒素気流下に減圧留去し、さらに１mm
Ｈｇ、110〜120℃で１時間処理すると残渣として
一般式(6)の化合物が99％以上の回収率で回収でき
る。 実施例 ３ 下記第５表記載の一般式(3)の化合物、一般式(5)
の化合物及び一般式(6)の化合物を用い、実施例１
と同様にして目的とする一般式(1)の化合物を得
る。結果を第６表に示す。
するために、塩酸の抽出液は20mlのベンゼンで一
度抽出した後、水層に水酸化ナトリウム60ｇを加
え、ベンゼンで抽出する（50ml×３回）。乾燥後
ベンゼンを窒素気流下に減圧留去し、さらに１mm
Ｈｇ、110〜120℃で１時間処理すると残渣として
一般式(6)の化合物が99％以上の回収率で回収でき
る。 実施例 ３ 下記第５表記載の一般式(3)の化合物、一般式(5)
の化合物及び一般式(6)の化合物を用い、実施例１
と同様にして目的とする一般式(1)の化合物を得
る。結果を第６表に示す。
【表】
【表】
【表】
実施例 ４
Ｒが水素原子である一般式(3)の化合物（0.2モ
ル）、下記第７表に示す一般式(6)の化合物４ミリ
モル、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）及び水
38ｇの混合液を30℃で激しく撹拌しながら、臭化
イソプロピル0.21モルとベンゼン40mlとの混合液
を２時間要して滴下し、更に同温度で４時間撹拌
後室温まで冷却した。以下実施例１と同様に処理
して、目的とする一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原
子、R′：イソプロピル基）を得る。結果（収率
及び純度）を第７表に併せて示す。
ル）、下記第７表に示す一般式(6)の化合物４ミリ
モル、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）及び水
38ｇの混合液を30℃で激しく撹拌しながら、臭化
イソプロピル0.21モルとベンゼン40mlとの混合液
を２時間要して滴下し、更に同温度で４時間撹拌
後室温まで冷却した。以下実施例１と同様に処理
して、目的とする一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原
子、R′：イソプロピル基）を得る。結果（収率
及び純度）を第７表に併せて示す。
【表】
比較例 １
Ｒが水素原子である一般式(3)の化合物23.4ｇ
（0.2モル）、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）、
エチレングリコール40ml及び臭化エチル22.9ｇ
（0.21モル）の混合液を30℃で24時間撹拌した。
冷却後、ガスクロマトグラフ分析により、得られ
る一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原子、R′：エチ
ル基）の収率を調べたところ、13％であつた。ま
た一般式(2)の化合物（R′：エチル基）は痕跡量
しか生成していなかつた。 比較例 ２ Ｒが水素原子である一般式(3)の化合物23.4ｇ
（0.2モル）、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）、
水28ｇ、ジオキサン40ml及び臭化エチル22.9ｇ
（0.21モル）の混合液を30℃で24時間撹拌した。
冷却後、ガスクロマトグラフ分析により、得られ
る一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原子、R′：エチ
ル基）の収率を調べたところ、10％であつた。ま
た一般式(2)の化合物（R′：エチル基）は痕跡量
しか生成していなかつた。
（0.2モル）、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）、
エチレングリコール40ml及び臭化エチル22.9ｇ
（0.21モル）の混合液を30℃で24時間撹拌した。
冷却後、ガスクロマトグラフ分析により、得られ
る一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原子、R′：エチ
ル基）の収率を調べたところ、13％であつた。ま
た一般式(2)の化合物（R′：エチル基）は痕跡量
しか生成していなかつた。 比較例 ２ Ｒが水素原子である一般式(3)の化合物23.4ｇ
（0.2モル）、85％水酸化カリウム66ｇ（１モル）、
水28ｇ、ジオキサン40ml及び臭化エチル22.9ｇ
（0.21モル）の混合液を30℃で24時間撹拌した。
冷却後、ガスクロマトグラフ分析により、得られ
る一般式(1)の化合物（Ｒ：水素原子、R′：エチ
ル基）の収率を調べたところ、10％であつた。ま
た一般式(2)の化合物（R′：エチル基）は痕跡量
しか生成していなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 R1O（C2H4O）nR2 ［式中R1及びR2は同一または相異なつて水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基を、ｍは４〜460の整数をそれぞ
れ示す。］で表わされる化合物の存在下に一般式 ［式中Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基を示す。］で表わされるフエニ
ルアセトニトリル誘導体と一般式 R′X ［式中R′はアルキル基、アルケニル基、置換基
としてニトロ基を有するアリール基またはアラル
キル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ示す。］
で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 ［式中Ｒ及びR′は前記に同じ。］で表わされるフ
エニルアセトニトリル誘導体を得ることを特徴と
するフエニルアセトニトリル誘導体の製造法。 一般式 R1O（C2H4O）nR2 ［式中R1及びR2は同一または相異なつて水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基を、ｍは４〜460の整数をそれぞ
れ示す。］で表わされる化合物の存在下に一般式 で示されるフエニルアセトニトリルと一般式 R′X ［式中R′はアルキル基、アルケニル基、置換基
としてニトロ基を有するアリール基またはアラル
キル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ示す。］
で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 ［式中R′は前記に同じ。］で表わされるフエニル
アセトニトリル誘導体を得ることを特徴とするフ
エニルアセトニトリル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6914581A JPS57185252A (en) | 1981-05-07 | 1981-05-07 | Production of phenylacetonitrile derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6914581A JPS57185252A (en) | 1981-05-07 | 1981-05-07 | Production of phenylacetonitrile derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57185252A JPS57185252A (en) | 1982-11-15 |
| JPH026344B2 true JPH026344B2 (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=13394188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6914581A Granted JPS57185252A (en) | 1981-05-07 | 1981-05-07 | Production of phenylacetonitrile derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57185252A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PT924196E (pt) * | 1997-12-17 | 2003-11-28 | Aventis Pharma Gmbh | Procedimento para a alquilacao de derivados de alquil- ou benzilciano em presenca de trialquilaminas ou -fosfinas |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| HU164015B (ja) * | 1971-05-31 | 1973-12-28 |
-
1981
- 1981-05-07 JP JP6914581A patent/JPS57185252A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57185252A (en) | 1982-11-15 |
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