JPH026352A - 光ファイバの樹脂被覆方法及び装置 - Google Patents
光ファイバの樹脂被覆方法及び装置Info
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- JPH026352A JPH026352A JP63156923A JP15692388A JPH026352A JP H026352 A JPH026352 A JP H026352A JP 63156923 A JP63156923 A JP 63156923A JP 15692388 A JP15692388 A JP 15692388A JP H026352 A JPH026352 A JP H026352A
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、光ファイバに樹脂被覆を施す光ファイバの樹
脂被覆方法及び装置に関し、特に、高分子材料の塗布を
均一にして製造性。
脂被覆方法及び装置に関し、特に、高分子材料の塗布を
均一にして製造性。
品質を向上させるようにしたものである。
〈従来の技術〉
光伝送用媒体として使用させる光学ガラスファイバ（以
下、光ファイバという）は、通常その直径が１５０μｍ
以下であり、また、材質的にも脆いことから、製造中あ
るいはケーブル化の工程において、または保管中におい
て、その表面に傷が発生し易く、さらに、この傷が応力
集中源となって外部から力が加わった場合に容易に破断
してしまうという欠点を有している。したがって、光フ
ァイバをそのまま光伝送用媒体として使用するのは極め
て困難であるので、従来から光ファイバの表面に樹脂被
覆を施して被覆光ファイバとし、光ファイバ製造直後の
初期強度の維持を図るとともに長期使用に耐えうるよう
にしている。
下、光ファイバという）は、通常その直径が１５０μｍ
以下であり、また、材質的にも脆いことから、製造中あ
るいはケーブル化の工程において、または保管中におい
て、その表面に傷が発生し易く、さらに、この傷が応力
集中源となって外部から力が加わった場合に容易に破断
してしまうという欠点を有している。したがって、光フ
ァイバをそのまま光伝送用媒体として使用するのは極め
て困難であるので、従来から光ファイバの表面に樹脂被
覆を施して被覆光ファイバとし、光ファイバ製造直後の
初期強度の維持を図るとともに長期使用に耐えうるよう
にしている。
この被覆光ファイバに使用されている樹脂被覆材料は、
例えば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂
などの熱硬化型樹脂や、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどの紫外
線硬化型樹脂、その他、放射線硬化型樹脂などの高分子
材料（以下、単に樹脂という）であるが、この樹脂を光
ファイバに塗布し、硬化させて１１脂被覆を形成する工
程の一例を第４図に示す。
例えば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂
などの熱硬化型樹脂や、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどの紫外
線硬化型樹脂、その他、放射線硬化型樹脂などの高分子
材料（以下、単に樹脂という）であるが、この樹脂を光
ファイバに塗布し、硬化させて１１脂被覆を形成する工
程の一例を第４図に示す。
第４図に示すように、光ファイバ母材１の先端を加熱炉
により加熱・溶融しつつ線引きして形成された光ファイ
バ３は、第１の加圧式グイ（以下、加圧ダイという）４
Ａに挿通されろことによりその外周表面に被覆材料であ
る樹脂が塗布され、さらに第１の硬化炉５Ａに挿通され
ることにより塗布された樹脂が硬化され、１層被覆光フ
ァイバ６Ａが形成されろ。この第１層被覆光ファイバ６
Ａは、続いて第２の加圧ダイ４Ｂに挿通されてその外周
表面に２層目の被覆材料である樹脂が塗布され、さらに
第２の硬化炉５Ｂに挿通されろことにより２ｒｆＪ目の
ｍ１ｌｌが硬化され、２Ｒ被覆光ファイバ６Ｂが形成さ
れる。そして、２層被覆光ファイバ６Ｂはキャプスタン
７を介して巻取機８に巻取られる。
により加熱・溶融しつつ線引きして形成された光ファイ
バ３は、第１の加圧式グイ（以下、加圧ダイという）４
Ａに挿通されろことによりその外周表面に被覆材料であ
る樹脂が塗布され、さらに第１の硬化炉５Ａに挿通され
ることにより塗布された樹脂が硬化され、１層被覆光フ
ァイバ６Ａが形成されろ。この第１層被覆光ファイバ６
Ａは、続いて第２の加圧ダイ４Ｂに挿通されてその外周
表面に２層目の被覆材料である樹脂が塗布され、さらに
第２の硬化炉５Ｂに挿通されろことにより２ｒｆＪ目の
ｍ１ｌｌが硬化され、２Ｒ被覆光ファイバ６Ｂが形成さ
れる。そして、２層被覆光ファイバ６Ｂはキャプスタン
７を介して巻取機８に巻取られる。
ここで、加圧ダイ４Ａ、４Ｂに対して、ある圧力により
樹脂を供給している樹脂圧力供給装置９の一例を第５図
に示す。同図に示すように、樹脂圧力供給装置９はｊＭ
ｌｌｌｌｏを貯留する加圧タンク９ａと、この加圧タン
ク９ａ内の圧力をＦＡ整する例えば、減圧弁からなる圧
力調！２！器９ｂと、加圧タンク９ａ中の樹脂ｌＯを加
圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ）に送る樹脂供給管９Ｃとを有し
ており、圧力！１ｇ整器９ｂを介して加圧タンク９ａに
導入される高圧ガスにより、加圧タンク９ａ内の樹脂は
樹脂供給管９Ｃを通して加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ）に供
給されている。
樹脂を供給している樹脂圧力供給装置９の一例を第５図
に示す。同図に示すように、樹脂圧力供給装置９はｊＭ
ｌｌｌｌｏを貯留する加圧タンク９ａと、この加圧タン
ク９ａ内の圧力をＦＡ整する例えば、減圧弁からなる圧
力調！２！器９ｂと、加圧タンク９ａ中の樹脂ｌＯを加
圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ）に送る樹脂供給管９Ｃとを有し
ており、圧力！１ｇ整器９ｂを介して加圧タンク９ａに
導入される高圧ガスにより、加圧タンク９ａ内の樹脂は
樹脂供給管９Ｃを通して加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ）に供
給されている。
かかる被覆光ファイバ製造工程においては、被覆材とし
ての樹脂の塗布は、線引速度（以下、線速という）が変
化しても常に均一な塗布径を保持することが要求される
ので、加圧ダイ４Ａ、４Ｂ内の樹脂圧力を最適値にする
必要がある。したがって、従来においては、予め実験に
より最適圧力値を求めておき、加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ
ｌ内に設けた圧力センサにより加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ
）内の圧力をモニタしながら圧力調整器９ｂによって設
定される供給圧力を制御するか、又は、この供給圧力を
簡易的に製造予定線速におけろ最適値に固定する方法が
採られている。
ての樹脂の塗布は、線引速度（以下、線速という）が変
化しても常に均一な塗布径を保持することが要求される
ので、加圧ダイ４Ａ、４Ｂ内の樹脂圧力を最適値にする
必要がある。したがって、従来においては、予め実験に
より最適圧力値を求めておき、加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ
ｌ内に設けた圧力センサにより加圧ダイ４Ａ（又は４Ｂ
）内の圧力をモニタしながら圧力調整器９ｂによって設
定される供給圧力を制御するか、又は、この供給圧力を
簡易的に製造予定線速におけろ最適値に固定する方法が
採られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、前述したように、加圧ダイへの樹脂の供
給圧力をダイ内の樹脂圧力を圧力センサによりモニタし
ながら制御する場合には、ダイ内の圧力センサを直接Ｉ
Ｎ脂と接触させなければならないのでその保守が大変で
あり、また、塗布状態そのものではなく単にダイ内の圧
力をモニタしているのみなので、例えば樹脂の物性が当
初の実験時と変化したような場合には塗布状態が良好に
保てないという問題がある。一方、加圧ダイへの樹脂の
供給圧力を簡易的に固定した場合には、設備は単純とな
るので保守が大変であるという問題は生じないが、やは
り、線速、樹脂の物性等が変化した場合には良好な塗布
状態が保持できないという問題がある。
給圧力をダイ内の樹脂圧力を圧力センサによりモニタし
ながら制御する場合には、ダイ内の圧力センサを直接Ｉ
Ｎ脂と接触させなければならないのでその保守が大変で
あり、また、塗布状態そのものではなく単にダイ内の圧
力をモニタしているのみなので、例えば樹脂の物性が当
初の実験時と変化したような場合には塗布状態が良好に
保てないという問題がある。一方、加圧ダイへの樹脂の
供給圧力を簡易的に固定した場合には、設備は単純とな
るので保守が大変であるという問題は生じないが、やは
り、線速、樹脂の物性等が変化した場合には良好な塗布
状態が保持できないという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑み、線速、樹脂の物性等が
変化した場合にも良好な塗布状態を保持することができ
る光ファイバの樹脂被覆方法及び装置を提供することを
目的とする。
変化した場合にも良好な塗布状態を保持することができ
る光ファイバの樹脂被覆方法及び装置を提供することを
目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明にかかる光ファイバの製造方
法は、光ファイバ母材を加熱線引きして得た光ファイバ
の外周表面に高分子材料を加圧式ダイにより塗布し、続
いて硬化炉により当該高分子材料を硬化することにより
被覆光ファイバを製造する光ファイバの樹脂被覆方法に
おいて、上記加圧式ダイの直下にて高分子材料塗布直後
の光ファイバの輝度を測定し、この輝度の測定値に応じ
て上記加圧式ダイの圧力を制御することを特徴とし、ま
た、光ファイバの樹脂被覆装置は、光ファイバ母材を加
熱線引きして得た光ファイバの外周表面に高分子材料を
塗布する加圧式ダイと、この加圧式ダイにより塗布され
た高分子材料を硬化する硬化炉とを有する光ファイバの
Ｖ！！脂被覆被覆装置いて、上記加圧式ダイの直下にて
高分子材料塗布直後の光ファイバの輝度を測定する輝度
センサと、この輝度センサによる測定値に応じて上記加
圧式ダイの圧力を制御する制御手段とを設けたことを特
徴とする。
法は、光ファイバ母材を加熱線引きして得た光ファイバ
の外周表面に高分子材料を加圧式ダイにより塗布し、続
いて硬化炉により当該高分子材料を硬化することにより
被覆光ファイバを製造する光ファイバの樹脂被覆方法に
おいて、上記加圧式ダイの直下にて高分子材料塗布直後
の光ファイバの輝度を測定し、この輝度の測定値に応じ
て上記加圧式ダイの圧力を制御することを特徴とし、ま
た、光ファイバの樹脂被覆装置は、光ファイバ母材を加
熱線引きして得た光ファイバの外周表面に高分子材料を
塗布する加圧式ダイと、この加圧式ダイにより塗布され
た高分子材料を硬化する硬化炉とを有する光ファイバの
Ｖ！！脂被覆被覆装置いて、上記加圧式ダイの直下にて
高分子材料塗布直後の光ファイバの輝度を測定する輝度
センサと、この輝度センサによる測定値に応じて上記加
圧式ダイの圧力を制御する制御手段とを設けたことを特
徴とする。
本発明は、加圧ダイへの樹脂の供給圧力が線引中に変化
して高すぎたり低すぎたりして塗布状態が不良になると
、加圧ダイ直下の光ファイバの輝度が高くなるという新
たな知見に基づいてなされたものである。このように、
塗布状態が不良になった場合に光ファイバの輝度が変化
するのは、次の原理によるものと推定される。
して高すぎたり低すぎたりして塗布状態が不良になると
、加圧ダイ直下の光ファイバの輝度が高くなるという新
たな知見に基づいてなされたものである。このように、
塗布状態が不良になった場合に光ファイバの輝度が変化
するのは、次の原理によるものと推定される。
第２図に示すように、光ファイバ母材１は加熱炉２で加
熱線引きされるときに炉内のヒータから光を受け、この
光の一部は線引きされた光ファイバ３中を伝播する。
熱線引きされるときに炉内のヒータから光を受け、この
光の一部は線引きされた光ファイバ３中を伝播する。
一方、光ファイバ３が加圧ダイ４において樹脂１０が塗
布される場合において、良好な塗布状態、具体的には均
一な塗布径が維持され塗布された樹脂被覆の傷心が小さ
い状態ではダイ出口部Ｅ付近における光ファイバの振動
は非常に小さいが、加圧ダイ内の樹脂圧力が適切でなく
なって樹脂１０の塗布が不良になる場合には、樹脂１０
の流れが不安定になっており、ダイ出口部Ｅにおける光
ファイバ３に振動が生じる。
布される場合において、良好な塗布状態、具体的には均
一な塗布径が維持され塗布された樹脂被覆の傷心が小さ
い状態ではダイ出口部Ｅ付近における光ファイバの振動
は非常に小さいが、加圧ダイ内の樹脂圧力が適切でなく
なって樹脂１０の塗布が不良になる場合には、樹脂１０
の流れが不安定になっており、ダイ出口部Ｅにおける光
ファイバ３に振動が生じる。
このように光ファイバ３に振動が生じると、上述したよ
うに加熱炉２から光ファイバ３内を伝播されてきた光の
一部が散乱し、この結果光ファイバの輝度が高まること
になると予想される。
うに加熱炉２から光ファイバ３内を伝播されてきた光の
一部が散乱し、この結果光ファイバの輝度が高まること
になると予想される。
すなわち、第３図に示すように、加圧ダイ４内の樹脂圧
力がＲ適範囲ａにあって塗布状態が良好に保たれる場合
には、加圧ダイ直下の光ファイバの輝度は安定してほぼ
一定となるが、樹脂圧力が低い範囲すあるいは高い範囲
Ｃにあって塗布状態が不良になると、加圧ダイ直下の光
ファイバの輝度が高くなる。
力がＲ適範囲ａにあって塗布状態が良好に保たれる場合
には、加圧ダイ直下の光ファイバの輝度は安定してほぼ
一定となるが、樹脂圧力が低い範囲すあるいは高い範囲
Ｃにあって塗布状態が不良になると、加圧ダイ直下の光
ファイバの輝度が高くなる。
く実 施 例〉
以下、本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図には本発明方法を実施するための樹脂被覆装蓋を
備えた被覆光ファイバの製造工程を示す、なお、第４図
と同一部材には同一符号を付して重複した説明は省略す
る。
備えた被覆光ファイバの製造工程を示す、なお、第４図
と同一部材には同一符号を付して重複した説明は省略す
る。
第１図に示すように、本実施例においては、加圧ダイ４
Ａ、４Ｂの直下に輝度センサ１１をそれぞれ設けてこれ
ら輝度センサ１１によりダイ直下のファイバの輝度を測
定するとともに、この測定値に応じて樹脂圧力供給装置
９を制御する演算＠１１２を配設している。
Ａ、４Ｂの直下に輝度センサ１１をそれぞれ設けてこれ
ら輝度センサ１１によりダイ直下のファイバの輝度を測
定するとともに、この測定値に応じて樹脂圧力供給装置
９を制御する演算＠１１２を配設している。
このような本実施例の樹脂被覆装置においては、樹脂塗
布直後の光ファイバの輝度を測定することにより、塗布
状態が良好か不良かの判断を行い、良好な塗布状態を維
持することができろように樹脂の供給圧力を適正に保つ
ことができろ。すなわち、輝度の測定値及び圧力の変化
より、第３図に示す最適範囲ａからｂあるいはＣにずれ
たと判断された場合に、樹脂圧力供給装置９の圧力調整
器（第５図参照）を制御して圧力が最適範囲ａに入るよ
うにしている。
布直後の光ファイバの輝度を測定することにより、塗布
状態が良好か不良かの判断を行い、良好な塗布状態を維
持することができろように樹脂の供給圧力を適正に保つ
ことができろ。すなわち、輝度の測定値及び圧力の変化
より、第３図に示す最適範囲ａからｂあるいはＣにずれ
たと判断された場合に、樹脂圧力供給装置９の圧力調整
器（第５図参照）を制御して圧力が最適範囲ａに入るよ
うにしている。
このように加圧ダイ内のｆＭ脂正圧力最適範囲に保たれ
ると、被覆傷心の小さい均一径の塗布が行われるように
なり、被覆光ファイバの品質が著しく向上する。
ると、被覆傷心の小さい均一径の塗布が行われるように
なり、被覆光ファイバの品質が著しく向上する。
上記構成の装置により、直径３５鵜の光フアイバ母材を
用いて直径１２５μｍの光ファイバに線引し、２層樹脂
被覆を行った。この際、線引速度を５０〜３００ ｍ／
ｍ ｉ ｎに亘って変化させたが、光ファイバの径が１
２５±０．３μｍ１１層目樹脂塗布径が２００±１μｍ
、２層目樹脂塗布径が２５０±１μｍと非常に良好な塗
布状態の被覆光ファイバを得ることができた。
用いて直径１２５μｍの光ファイバに線引し、２層樹脂
被覆を行った。この際、線引速度を５０〜３００ ｍ／
ｍ ｉ ｎに亘って変化させたが、光ファイバの径が１
２５±０．３μｍ１１層目樹脂塗布径が２００±１μｍ
、２層目樹脂塗布径が２５０±１μｍと非常に良好な塗
布状態の被覆光ファイバを得ることができた。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によると、加圧ダイ直下の
光ファイバの輝度の変化を測定することにより塗布状態
が良好かどうかを判断し、これに応じて樹脂の供給圧力
を適正に制卸するようにしているので、線速が変化した
り、樹脂の物性が変化したりした場合にも常に良好な塗
布状態が保たれ、光ファイバの製造性及び品質を著しく
向上することができる。
光ファイバの輝度の変化を測定することにより塗布状態
が良好かどうかを判断し、これに応じて樹脂の供給圧力
を適正に制卸するようにしているので、線速が変化した
り、樹脂の物性が変化したりした場合にも常に良好な塗
布状態が保たれ、光ファイバの製造性及び品質を著しく
向上することができる。
第１図は本発明の実施例の被覆光ファイバの製造工程を
示す説明図、第２図は本発明の原理を示す説明図、第３
図は加圧ダイ圧力とダイ直下のファイバの蝉度との関係
を示すグラフ、第４図は従来技術にかかる被覆光ファイ
バの製造工程を示す説明図、第５図はその樹脂圧力供給
装置の構成の一例を示す構成図である。 図 面 中、 １は光ファイバ母材、 ２は加熱炉、 ３は光ファイバ、 ４Ａ、４Ｂは加圧ダイ、 ５Ａ、５Ｂは硬化炉、 ６Ａは１層被覆光ファイバ、 ６Ｂは２層被覆光ファイバ、 ９は樹脂圧力供給装置、 １１は輝度センサ、 １２は演！！Ｌ器である。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
示す説明図、第２図は本発明の原理を示す説明図、第３
図は加圧ダイ圧力とダイ直下のファイバの蝉度との関係
を示すグラフ、第４図は従来技術にかかる被覆光ファイ
バの製造工程を示す説明図、第５図はその樹脂圧力供給
装置の構成の一例を示す構成図である。 図 面 中、 １は光ファイバ母材、 ２は加熱炉、 ３は光ファイバ、 ４Ａ、４Ｂは加圧ダイ、 ５Ａ、５Ｂは硬化炉、 ６Ａは１層被覆光ファイバ、 ６Ｂは２層被覆光ファイバ、 ９は樹脂圧力供給装置、 １１は輝度センサ、 １２は演！！Ｌ器である。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
Claims (2)
- （１）光ファイバ母材を加熱線引きして得た光ファイバ
の外周表面に高分子材料を加圧式ダイにより塗布し、続
いて硬化炉により当該高分子材料を硬化することにより
被覆光ファイバを製造する光ファイバの樹脂被覆方法に
おいて、上記加圧式ダイの直下にて高分子材料塗布直後
の光ファイバの輝度を測定し、この輝度の測定値に応じ
て上記加圧式ダイの圧力を制御することを特徴とする光
ファイバの樹脂被覆方法。 - （２）光ファイバ母材を加熱線引きして得た光ファイバ
の外周表面に高分子材料を塗布する加圧式ダイと、この
加圧式ダイにより塗布された高分子材料を硬化する硬化
炉とを有する光ファイバの樹脂被覆装置において、上記
加圧式ダイの直下にて高分子材料塗布直後の光ファイバ
の輝度を測定する輝度センサと、この輝度センサによる
測定値に応じて上記加圧式ダイの圧力を制御する制御手
段とを設けたことを特徴とする光ファイバの樹脂被覆装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156923A JP2571825B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 光ファイバの樹脂被覆方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156923A JP2571825B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 光ファイバの樹脂被覆方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026352A true JPH026352A (ja) | 1990-01-10 |
| JP2571825B2 JP2571825B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=15638329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63156923A Expired - Lifetime JP2571825B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 光ファイバの樹脂被覆方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2571825B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000008166A (ko) * | 1998-07-10 | 2000-02-07 | 윤종용 | 광섬유의 코팅물질 수거장치 |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP63156923A patent/JP2571825B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000008166A (ko) * | 1998-07-10 | 2000-02-07 | 윤종용 | 광섬유의 코팅물질 수거장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2571825B2 (ja) | 1997-01-16 |
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