JPH0263715A - 非干渉制御型tダイギャップ制御装置 - Google Patents
非干渉制御型tダイギャップ制御装置Info
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- JPH0263715A JPH0263715A JP63214794A JP21479488A JPH0263715A JP H0263715 A JPH0263715 A JP H0263715A JP 63214794 A JP63214794 A JP 63214794A JP 21479488 A JP21479488 A JP 21479488A JP H0263715 A JPH0263715 A JP H0263715A
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- G05D5/02—Control of dimensions of material of thickness, e.g. of rolled material
- G05D5/03—Control of dimensions of material of thickness, e.g. of rolled material characterised by the use of electric means
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- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
- B29C48/07—Flat, e.g. panels
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- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
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- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92504—Controlled parameter
- B29C2948/92609—Dimensions
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
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- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は押出成形機に用いられるTダイのギャップを制
御するための非干渉制御型Tダイギャップ制御装置に関
する。
御するための非干渉制御型Tダイギャップ制御装置に関
する。
[従来の技術]
一般に、紙、アルミ箔、及びプラスチック等の基材に樹
脂フィルムをコーティングするためのラミネーター等と
して使用されるTダイリップを有する押出成形機では、
品質向上及び省樹脂化等のためのフィルム膜圧を高精度
に制御する必要がある。ラミネートプロセスにおいて、
Tダイリップのギャップ量を調整してTダイリップから
の溶融樹脂の流量を調整してフィルム膜圧を制御してい
る。
脂フィルムをコーティングするためのラミネーター等と
して使用されるTダイリップを有する押出成形機では、
品質向上及び省樹脂化等のためのフィルム膜圧を高精度
に制御する必要がある。ラミネートプロセスにおいて、
Tダイリップのギャップ量を調整してTダイリップから
の溶融樹脂の流量を調整してフィルム膜圧を制御してい
る。
従来、Tダイからお溶融樹脂の流量調整を行う際には、
リップ部に設けられた複数の調整用ボルトを駆動して、
リップ部のギャップ量を調整することによって、流量調
整を行っている。
リップ部に設けられた複数の調整用ボルトを駆動して、
リップ部のギャップ量を調整することによって、流量調
整を行っている。
このようなTダイリップのギャップ量調整の方式として
、調整用ボルトを加熱・冷却して、調整用ボルトの熱膨
張によりリップ部のギャップ量を2J整するいわゆる「
ヒートボルト方式」及び1台乃至複数台のサーボモータ
を用いて調整用ボルトを順次駆動して、リップ部のギャ
ップ量を調整するいわゆる「サーボモータ方式」が知ら
れている。
、調整用ボルトを加熱・冷却して、調整用ボルトの熱膨
張によりリップ部のギャップ量を2J整するいわゆる「
ヒートボルト方式」及び1台乃至複数台のサーボモータ
を用いて調整用ボルトを順次駆動して、リップ部のギャ
ップ量を調整するいわゆる「サーボモータ方式」が知ら
れている。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、Tダイの樹脂流動部は、ノズル構造となって
いるため、フィルム膜圧の計測結果からリップ部のギャ
ップ量を決定する際には、樹脂流動特性及び各調整用ボ
ルト間の駆動量の相互干渉を考慮しなければ、高精度に
リップ部のギャップ量を制御することができず、従来の
「ヒートボルト方式」の場合、加熱或は冷却量を高精度
に調整することができず、しかも応答性が極めて低いか
ら、高精度にリップ部を制御できないという問題点があ
る。
いるため、フィルム膜圧の計測結果からリップ部のギャ
ップ量を決定する際には、樹脂流動特性及び各調整用ボ
ルト間の駆動量の相互干渉を考慮しなければ、高精度に
リップ部のギャップ量を制御することができず、従来の
「ヒートボルト方式」の場合、加熱或は冷却量を高精度
に調整することができず、しかも応答性が極めて低いか
ら、高精度にリップ部を制御できないという問題点があ
る。
また、「サーボモータ方式」では、サーボモタを用いて
順次:A繁用ボルトを駆動しているため、複数の調整用
ボルトの構造的な相互干渉を受け、リップ部のギャップ
量を高精度に制御できず、その結果、樹脂流量制御に支
障を来たすという問題点がある。
順次:A繁用ボルトを駆動しているため、複数の調整用
ボルトの構造的な相互干渉を受け、リップ部のギャップ
量を高精度に制御できず、その結果、樹脂流量制御に支
障を来たすという問題点がある。
さらに、通常、リップ部は1m以上の巾を有しているた
め、そのリップ部の平面度等の加工精度により、必然的
に加工誤差が生じる。このため、その加工誤差或は、加
熱時におけるリップ部の熱膨脹二等により、固有必然的
なギャップ量のアンバランスを禁じ得ず、単なる非干渉
制御下では、均一なフィルム膜厚を実現することが、困
難であるという問題もあった。
め、そのリップ部の平面度等の加工精度により、必然的
に加工誤差が生じる。このため、その加工誤差或は、加
熱時におけるリップ部の熱膨脹二等により、固有必然的
なギャップ量のアンバランスを禁じ得ず、単なる非干渉
制御下では、均一なフィルム膜厚を実現することが、困
難であるという問題もあった。
そこで、本発明の技術的課題は、上記欠点に鑑み、高精
度にTダイリップのギャップ量を制御することのできる
非干渉制御型Tダイギャップ制御装置を提供することで
ある。
度にTダイリップのギャップ量を制御することのできる
非干渉制御型Tダイギャップ制御装置を提供することで
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、膜材料を被膜材に流出させるリップ部
を有するリップ構造体に圧力を与えて、前記リップ部の
ギャップ量を増減するn (n≧2)個の駆動手段と、 該n個の駆動手段に各々対応するn箇所の前記膜材料の
膜厚値を実測する膜厚実測手段と、該膜厚実測手段より
検出された膜厚実測値と予め定められた目標膜厚値とか
ら膜厚偏差を求め、該膜厚偏差に基づいて、前記リップ
部のギャップ量における目標変位ベクトル(Δy)を演
算するリップ開度量演算手段と、 該目標変位ベクトル(Δy)を基準入力値として、該基
準入力値(Δy)に対応する前記n個の駆動手段への操
作量 (U)を、前記リップ構造体の剛性マトリクス(
G)に基づいた非干渉制御アルゴリズムにより演算する
操作量演算手段とを有する非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置において、 前記操作量演算手段は、 前記リップ構造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)を
前記目標変位ベクトル(Δy)に変換する圧力/変位変
換マトリックス(Ka)を演算すると共に。
を有するリップ構造体に圧力を与えて、前記リップ部の
ギャップ量を増減するn (n≧2)個の駆動手段と、 該n個の駆動手段に各々対応するn箇所の前記膜材料の
膜厚値を実測する膜厚実測手段と、該膜厚実測手段より
検出された膜厚実測値と予め定められた目標膜厚値とか
ら膜厚偏差を求め、該膜厚偏差に基づいて、前記リップ
部のギャップ量における目標変位ベクトル(Δy)を演
算するリップ開度量演算手段と、 該目標変位ベクトル(Δy)を基準入力値として、該基
準入力値(Δy)に対応する前記n個の駆動手段への操
作量 (U)を、前記リップ構造体の剛性マトリクス(
G)に基づいた非干渉制御アルゴリズムにより演算する
操作量演算手段とを有する非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置において、 前記操作量演算手段は、 前記リップ構造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)を
前記目標変位ベクトル(Δy)に変換する圧力/変位変
換マトリックス(Ka)を演算すると共に。
該圧力/変位変換マトリックス(Ka)と、前記駆動手
段に人力される操作量ベクトル(Δu)を前記リップ構
造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)に変換するため
の操作量/圧力変換マトリクス(k p)との積(Ka
・kp)の逆マトリクス(Ka・kp)−1を演算する
初期マトリクス演算部と、 該初期マトリクス演算部より出力される逆マトリクス(
Ka・kp)−1を受け、該逆マトリクス(Ka・kp
)−’に基づいて、前記基準入力値(Δy)に対応する
初期操作量(Δu)を、非干渉制御アルゴリズムにより
演算する操作量演算部と を仔することを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置が得られる。
段に人力される操作量ベクトル(Δu)を前記リップ構
造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)に変換するため
の操作量/圧力変換マトリクス(k p)との積(Ka
・kp)の逆マトリクス(Ka・kp)−1を演算する
初期マトリクス演算部と、 該初期マトリクス演算部より出力される逆マトリクス(
Ka・kp)−1を受け、該逆マトリクス(Ka・kp
)−’に基づいて、前記基準入力値(Δy)に対応する
初期操作量(Δu)を、非干渉制御アルゴリズムにより
演算する操作量演算部と を仔することを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置が得られる。
また、本発明によれば、前記量制御型Tダイギヤツブ制
御装置において、 前記操作量演算手段は、 前記目標変位ベクトル(Δy)と、前記初期操作量(Δ
u)に基づいて駆動された前記リップ部を実測して得ら
れる実Δllj変位ベクトル(Δym)との偏差から、
該偏差を補償するように、前記逆マトリクス(Ka・k
p)−1を繰返し修正した修正逆マトリクス(Ka′
・kp’)−’Φに、−1を演算する修正マトリクス演
算部を有し、 前記操作量演算部は、前記修正マトリクス演算部より出
力される修正逆マトリクス (Kakp’)−’・K1
−1を受け、該修正逆マトリクス(Ka ・kp’)利
・K1−1に基づいて、前記目標変位ベクトル(Δy)
に対応する修正操作量(Δu+)を非干渉制御アルゴリ
ズムにより演算することを特徴とする非干渉制御型Tダ
イギャップ制御装置が得られる。
御装置において、 前記操作量演算手段は、 前記目標変位ベクトル(Δy)と、前記初期操作量(Δ
u)に基づいて駆動された前記リップ部を実測して得ら
れる実Δllj変位ベクトル(Δym)との偏差から、
該偏差を補償するように、前記逆マトリクス(Ka・k
p)−1を繰返し修正した修正逆マトリクス(Ka′
・kp’)−’Φに、−1を演算する修正マトリクス演
算部を有し、 前記操作量演算部は、前記修正マトリクス演算部より出
力される修正逆マトリクス (Kakp’)−’・K1
−1を受け、該修正逆マトリクス(Ka ・kp’)利
・K1−1に基づいて、前記目標変位ベクトル(Δy)
に対応する修正操作量(Δu+)を非干渉制御アルゴリ
ズムにより演算することを特徴とする非干渉制御型Tダ
イギャップ制御装置が得られる。
また、本発明によれば、前記非干渉制御型Tダイギャッ
プ制御装置において、 前記リップ部の固有形状誤差における予め定められた許
容ギャップ量誤差と、実測された当該リップ部の実測ギ
ャップ量誤差との偏差から、ギャップ量固有誤差ベクト
ル(Δe)を求め、該ギャップ量固有誤差ベクトル(Δ
e)を前記目標変位ベクトル(Δy)に加算した補正基
準入力値(Δy+Δe)を、前記操作量演算手段に基準
入力値として与える固有形状誤差補正手段 を設けたことを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置が得られる。
プ制御装置において、 前記リップ部の固有形状誤差における予め定められた許
容ギャップ量誤差と、実測された当該リップ部の実測ギ
ャップ量誤差との偏差から、ギャップ量固有誤差ベクト
ル(Δe)を求め、該ギャップ量固有誤差ベクトル(Δ
e)を前記目標変位ベクトル(Δy)に加算した補正基
準入力値(Δy+Δe)を、前記操作量演算手段に基準
入力値として与える固有形状誤差補正手段 を設けたことを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置が得られる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
−Tダイの構造説明−
まず、第1図を参照してTダイの構造について説明する
。
。
Tダイはリップ構造体2及び駆動構造体3を備えている
。リップ構造体2は長手方向(X方向)に延びるリップ
部4を備えており、このリップ部4で形成されるギャッ
プから樹脂フィルム膜5が流出される。
。リップ構造体2は長手方向(X方向)に延びるリップ
部4を備えており、このリップ部4で形成されるギャッ
プから樹脂フィルム膜5が流出される。
リップ構造体2の一面(前面)には、図示のように、複
数のベローズ6a〜6pが配設されており、これら、ベ
ローズ6a〜6pはそれぞれリップ構造体2に形成され
た給気孔7a〜7hに連通している。即ち、ベローズ6
a及び6bが給気孔に、ベローズ6C及び6dが給気孔
7bに連通され、以下同様にしてベローズ60及び6p
が給気孔7hに連通している。これら給気孔7a〜7h
には、コンプレッサ等の空圧制御系(図示しない)のよ
り、加圧空気が供給される。
数のベローズ6a〜6pが配設されており、これら、ベ
ローズ6a〜6pはそれぞれリップ構造体2に形成され
た給気孔7a〜7hに連通している。即ち、ベローズ6
a及び6bが給気孔に、ベローズ6C及び6dが給気孔
7bに連通され、以下同様にしてベローズ60及び6p
が給気孔7hに連通している。これら給気孔7a〜7h
には、コンプレッサ等の空圧制御系(図示しない)のよ
り、加圧空気が供給される。
駆動構造体3は複数の分割板体3a〜3hに分割されて
おり、各分割板体3a〜3hには、それぞれベローズ6
a〜6pの一端が取付けられている。即ち、分割板体3
aにはベローズ6a及び6bの一端が、分割板体3bに
はベローズ6C及び6dの一端が取付けられ、以下同様
にして分割板体3hにはベローズ60〜6pの一端が取
付けられている。
おり、各分割板体3a〜3hには、それぞれベローズ6
a〜6pの一端が取付けられている。即ち、分割板体3
aにはベローズ6a及び6bの一端が、分割板体3bに
はベローズ6C及び6dの一端が取付けられ、以下同様
にして分割板体3hにはベローズ60〜6pの一端が取
付けられている。
駆動構造体3の一端(下端)、即ち、各分割板体3a〜
3hの下端は、図示のように、リップ構造体2のリップ
部4に取付けられており、駆動構造体3を駆動させるこ
とにより、弾性変形部4aによりリップ部4のギャップ
量が増減する。
3hの下端は、図示のように、リップ構造体2のリップ
部4に取付けられており、駆動構造体3を駆動させるこ
とにより、弾性変形部4aによりリップ部4のギャップ
量が増減する。
つまり、各給気孔7a〜7hを介して、空圧制御系から
の空気等をベローズ6a〜6pに送り(即ち、ベローズ
6a〜6pに与える空力を変え)、ベローズ6a〜6p
を伸張或は収縮する。これにより、各分割板体3a〜3
hを駆動し、リップ部4のギャップ量を増減している。
の空気等をベローズ6a〜6pに送り(即ち、ベローズ
6a〜6pに与える空力を変え)、ベローズ6a〜6p
を伸張或は収縮する。これにより、各分割板体3a〜3
hを駆動し、リップ部4のギャップ量を増減している。
このように、このTダイ1をリップ部4の長手方向(X
方向)にリップ部4を複数(m個)のゾーン(第1図で
は8ゾーン)に分け、このゾーン毎にリップ部4のギャ
ップ量が増減している。
方向)にリップ部4を複数(m個)のゾーン(第1図で
は8ゾーン)に分け、このゾーン毎にリップ部4のギャ
ップ量が増減している。
−制御装置の構造−
次に、第2図を参照して、駆動構造体3を制御する制御
装置20について説明する。
装置20について説明する。
制御装置20は、記憶域21と演算域22及び電圧指令
値出力域23とから主に構成され、更に、実際のフィル
ム膜厚を計測するフィルム膜厚プロファイルセンサ24
が設けられている。記憶域21は、目標プロファイル記
憶部25.樹脂流量特性記憶部26.非干渉制御マトリ
クス記憶部27゜圧力/変位変換マトリクス記憶部28
.操作量/圧力変換マトリクス記憶部2つ、実Ig1プ
ロファイル記憶部30.及びギャップ量誤差ベクトル記
憶部31とからなり、また、演算域22は、膜厚誤差演
算部32.リップ開度量演算部33.マトリクス演算部
34.及び操作量演算部35から構成されている。さら
に、電圧指令値出力域23には、空圧制御系に接続され
る電圧指令値出力部36が設けられている。
値出力域23とから主に構成され、更に、実際のフィル
ム膜厚を計測するフィルム膜厚プロファイルセンサ24
が設けられている。記憶域21は、目標プロファイル記
憶部25.樹脂流量特性記憶部26.非干渉制御マトリ
クス記憶部27゜圧力/変位変換マトリクス記憶部28
.操作量/圧力変換マトリクス記憶部2つ、実Ig1プ
ロファイル記憶部30.及びギャップ量誤差ベクトル記
憶部31とからなり、また、演算域22は、膜厚誤差演
算部32.リップ開度量演算部33.マトリクス演算部
34.及び操作量演算部35から構成されている。さら
に、電圧指令値出力域23には、空圧制御系に接続され
る電圧指令値出力部36が設けられている。
次に、制御装置20の動作説明をする。
まず、プロファイルセンサ24により、リップ部4のゾ
ーン毎に実際のフィルム膜厚を実API L、実all
lプロファイル記憶部30に出力する。目標プロファイ
ル記憶部25には、リップ部4の各ゾーンに対応したフ
ィルム膜厚目標値が予め格納されている。実71−1プ
ロフアイル記憶部30に格納されたフィルム膜厚実測値
は、目標プロファイル記憶部25に格納されたフィルム
膜厚目標値と、リップ部4のゾーン毎にタイミングを合
せて、偏差演算部32に出力される。偏差演算部32は
、フィルム膜厚実測値とフィルム膜厚目標値とから膜厚
偏差を求め、リップ開度量演算部33に出力する。
ーン毎に実際のフィルム膜厚を実API L、実all
lプロファイル記憶部30に出力する。目標プロファイ
ル記憶部25には、リップ部4の各ゾーンに対応したフ
ィルム膜厚目標値が予め格納されている。実71−1プ
ロフアイル記憶部30に格納されたフィルム膜厚実測値
は、目標プロファイル記憶部25に格納されたフィルム
膜厚目標値と、リップ部4のゾーン毎にタイミングを合
せて、偏差演算部32に出力される。偏差演算部32は
、フィルム膜厚実測値とフィルム膜厚目標値とから膜厚
偏差を求め、リップ開度量演算部33に出力する。
同時に、樹脂流量特性記憶部26からは、樹脂流量、樹
脂の流体圧力により定まる物性定数 及びTダイの巾等
を考慮した粘度を示す樹脂流量特性値が、リップ開度演
算部33に出力される。リップ開度演算部33は、膜厚
偏差及び樹脂流量特性に基づいて、リップ部のギャップ
量におけるゾ−ン毎の目標変位ベクトル(Δy)を演算
する5電圧指令値演算部35は、目標変位ベクトル(Δ
y)を基準入力値として受けると共に、非干渉制御マト
リクス記憶部27に格納された逆マトリクス(Ka・K
p)−1を、リップ部4のゾーン毎にタイミングを合せ
て人力し、空圧制御系への初期電圧ベクトル(Δu)を
非干渉人力演算して、電圧指令値出力部36に出力する
。或は、逆マトリクス(Ka・Kp)−1を繰返し修正
した修正逆マトリクス(Ka・Kp)−’・Kl−1を
用いて非干渉人力演算してもよい。
脂の流体圧力により定まる物性定数 及びTダイの巾等
を考慮した粘度を示す樹脂流量特性値が、リップ開度演
算部33に出力される。リップ開度演算部33は、膜厚
偏差及び樹脂流量特性に基づいて、リップ部のギャップ
量におけるゾ−ン毎の目標変位ベクトル(Δy)を演算
する5電圧指令値演算部35は、目標変位ベクトル(Δ
y)を基準入力値として受けると共に、非干渉制御マト
リクス記憶部27に格納された逆マトリクス(Ka・K
p)−1を、リップ部4のゾーン毎にタイミングを合せ
て人力し、空圧制御系への初期電圧ベクトル(Δu)を
非干渉人力演算して、電圧指令値出力部36に出力する
。或は、逆マトリクス(Ka・Kp)−1を繰返し修正
した修正逆マトリクス(Ka・Kp)−’・Kl−1を
用いて非干渉人力演算してもよい。
尚、非干渉制御マトリクス記憶部27に格納される逆マ
トリクス(Ka・Kp)−’或いは、修正逆マトリクス
(Ka・K p )1・K1−1は、圧力/変位変換マ
トリクス記憶部28及び操作量/圧力変換マトリクス記
憶部29から、それぞれ呼び出された圧力/変位変換マ
トリクスにαと操作量/圧力変換マトリクスKpとを、
マトリクス演算部34にて予め演算される。
トリクス(Ka・Kp)−’或いは、修正逆マトリクス
(Ka・K p )1・K1−1は、圧力/変位変換マ
トリクス記憶部28及び操作量/圧力変換マトリクス記
憶部29から、それぞれ呼び出された圧力/変位変換マ
トリクスにαと操作量/圧力変換マトリクスKpとを、
マトリクス演算部34にて予め演算される。
また、電圧指令値演算部35は、ギャップ量誤差ベクト
ル記憶部31から出力されるリップ構造体26体の持つ
ギャップ量固有誤差ベクトル(Δe)を受け、これによ
、す、目標変位ベクトル(Δy)に代えて、ギャップ量
固有誤差ベクトル(Δe)を補償した補正目標変位ベク
トル(Δy+Δe)を用いて、初期電圧ベクトル(Δu
)を修正した修正電圧ベクトル(Δu+Δue)を電圧
指令値出力部36に出力する。
ル記憶部31から出力されるリップ構造体26体の持つ
ギャップ量固有誤差ベクトル(Δe)を受け、これによ
、す、目標変位ベクトル(Δy)に代えて、ギャップ量
固有誤差ベクトル(Δe)を補償した補正目標変位ベク
トル(Δy+Δe)を用いて、初期電圧ベクトル(Δu
)を修正した修正電圧ベクトル(Δu+Δue)を電圧
指令値出力部36に出力する。
電圧指令値出力部36は、修正電圧ベクトル(Δυ十Δ
ue)を、空圧制御系に出力し、これにより、空圧制御
系から送られる空気等を制御され、ベローズ6a〜6p
に与える空力が変わり、ベローズ6a〜6pを伸張或は
収縮し、各分割板体3a〜3hが駆動して、リップ部4
のギャップ量が、M整される。
ue)を、空圧制御系に出力し、これにより、空圧制御
系から送られる空気等を制御され、ベローズ6a〜6p
に与える空力が変わり、ベローズ6a〜6pを伸張或は
収縮し、各分割板体3a〜3hが駆動して、リップ部4
のギャップ量が、M整される。
非干渉マトリクスの演算方法−
次に、非干渉制御マトリクス記憶部27に格納される非
干渉マトリクスの演算方法の一例を説明する。
干渉マトリクスの演算方法の一例を説明する。
まず、各分割板体3a〜3hに加わるそれぞれのベロー
ズ6a〜6pの駆動トルクベクトルをΔT、リップ部4
のギャップ量の目標変位ベクトルをΔyと置く。
ズ6a〜6pの駆動トルクベクトルをΔT、リップ部4
のギャップ量の目標変位ベクトルをΔyと置く。
ΔT−(ΔTl、 ΔT2.・・・、ΔTll ・・
・ΔT、)” Δy−<ΔY++ ΔY2. ・・・、Δy+、 ・
・・Δy n ) ” このとき、リップ部全体の変形は、次式■で表される。
・ΔT、)” Δy−<ΔY++ ΔY2. ・・・、Δy+、 ・
・・Δy n ) ” このとき、リップ部全体の変形は、次式■で表される。
Δy −G−1ΔT ・・・■ここで
、G−1は、次式で表されるリップ部4を含むリップ構
造体2全体の剛性マトリクスGの逆行列である。
、G−1は、次式で表されるリップ部4を含むリップ構
造体2全体の剛性マトリクスGの逆行列である。
以下余白
次に、各ベローズ6a〜6pに空圧として加えられる空
圧制御系からの圧力ベクトルΔPを、Δp−(ΔPl
+ ΔP2+ ・・・、ΔP、 ・・・ΔP、、)
T と置く。
圧制御系からの圧力ベクトルΔPを、Δp−(ΔPl
+ ΔP2+ ・・・、ΔP、 ・・・ΔP、、)
T と置く。
圧力ベクトルΔPと駆動トルクベクトルΔTとは、はぼ
比例関係を有していることから、その関係を次式■とし
て表すことができる。
比例関係を有していることから、その関係を次式■とし
て表すことができる。
ΔT−mKPT・ΔP ・・・■K P
T−ditg (ΔPTl+ ΔP↑2.・・・、Δ
P Tl。
T−ditg (ΔPTl+ ΔP↑2.・・・、Δ
P Tl。
・・・ ΔP T、)
従って、圧力ベクトル(ΔP)を目標変位ベクトル(Δ
y)に変換する圧力/変位変換マトリックスをにαとお
けば、リップ部4のギャップ量の目標変位ベクトルをΔ
yは、第0式及び第■式より、 Δ y−K α ・ Δ P、 (K α −G
−’KPTン ・・・■と表される。
y)に変換する圧力/変位変換マトリックスをにαとお
けば、リップ部4のギャップ量の目標変位ベクトルをΔ
yは、第0式及び第■式より、 Δ y−K α ・ Δ P、 (K α −G
−’KPTン ・・・■と表される。
次に、空圧制御系へ入力される初期電圧ベクトルΔuを
、 Δu−(ΔP1.Δu 2 + ・・’+ Δu l
+ ”・Δun)” と置き、初期電圧ベク トル(Δu)を圧力ベクトル(Δy)に変換する電圧/
圧力変位変換マトリックスをに、とすれば、上述の第0
式を用いて、 Δy−にα・ΔP ΔP−Kp・Δu K p−diag (ΔP2.ΔP 2 + ”・+
ΔP・・・ ΔP、) と表される。これを変形して、目標変位ベクトル(Δy
)を達成する初期電圧ベクトル(Δu)を求めれば、下
記第0式として表される。
、 Δu−(ΔP1.Δu 2 + ・・’+ Δu l
+ ”・Δun)” と置き、初期電圧ベク トル(Δu)を圧力ベクトル(Δy)に変換する電圧/
圧力変位変換マトリックスをに、とすれば、上述の第0
式を用いて、 Δy−にα・ΔP ΔP−Kp・Δu K p−diag (ΔP2.ΔP 2 + ”・+
ΔP・・・ ΔP、) と表される。これを変形して、目標変位ベクトル(Δy
)を達成する初期電圧ベクトル(Δu)を求めれば、下
記第0式として表される。
Δy−にα・Kp・Δu
、°、Δu−(KaφKp)−’拳Δy ・・・■従
って、この第0式により、非干渉入力演算を行うことが
できる。
って、この第0式により、非干渉入力演算を行うことが
できる。
ここで、Ka・Kpの求めるためには、第0式を変形し
て、 ・・・■ 上記の第0式として表されることから、各チャンネル単
独で人力した場合の各ゾーンの変位特性値を実4#1シ
、これによりにα・Kpを求める方法がある。
て、 ・・・■ 上記の第0式として表されることから、各チャンネル単
独で人力した場合の各ゾーンの変位特性値を実4#1シ
、これによりにα・Kpを求める方法がある。
なお、設計値を用いて、FEM解析等から第■式で表さ
れる剛性マトリッスGを導出して、求める方法もある。
れる剛性マトリッスGを導出して、求める方法もある。
一非干渉マトリクスの繰返し修正方法
次に、マトリクス(Ka−Kp)は、その真値に対する
誤差を有することから、精度を更に高めるために繰返し
修正する場合を説明する。
誤差を有することから、精度を更に高めるために繰返し
修正する場合を説明する。
まず、先に求めたマトリクス(Ka・Kp)に基づき非
干渉入力演算して得られた初期電圧ベクトル(Δu)に
より、実際に得られた実M1変位ベクトルをΔymとす
れば、その非干ン′へ補償された系の挙動は、(Ka′
・Kp・)をモデルとすれば、Δy、−(Ka・Kp
)・(Ka′・K、・)Δy ・・
・■ として表される。
干渉入力演算して得られた初期電圧ベクトル(Δu)に
より、実際に得られた実M1変位ベクトルをΔymとす
れば、その非干ン′へ補償された系の挙動は、(Ka′
・Kp・)をモデルとすれば、Δy、−(Ka・Kp
)・(Ka′・K、・)Δy ・・
・■ として表される。
ここで、第0式により制御された系について、各チャネ
ル単独での目標値入力により、新たに干渉マトリクス(
K、’ )を11定すると、下記の第■式として表、さ
れる。
ル単独での目標値入力により、新たに干渉マトリクス(
K、’ )を11定すると、下記の第■式として表、さ
れる。
よって、実測されたに1′を用いて、第0式に代入すれ
ば、下記の第■式が得られる。
ば、下記の第■式が得られる。
Δuw (Ka’ 串Kp’ )−’・K+ ’ −
’・Δy・・・■ 即ち、(Ka′ ・Kp′)−’・K、’−’が新たに
修正マトリクスとして得られる。
’・Δy・・・■ 即ち、(Ka′ ・Kp′)−’・K、’−’が新たに
修正マトリクスとして得られる。
これにより、経年的特性変化等にも、上述の方式を用い
てることにより、常に精度の高い非干渉制御を実現する
ことができる。
てることにより、常に精度の高い非干渉制御を実現する
ことができる。
一固有誤差補正演算方式一
次に、目標変位ベクトル(Δy)に代えて、ギャップ量
固有誤差ベクトル(Δe)を補償した補正目標変位ベク
トル(Δy+Δe)を、固有誤差補正演算方式を用いて
演算する場合を説明する。
固有誤差ベクトル(Δe)を補償した補正目標変位ベク
トル(Δy+Δe)を、固有誤差補正演算方式を用いて
演算する場合を説明する。
まず、リップ部4の固有形状誤差における所望の許容ギ
ャップm Z4差(最大ギャップ)と、実71p1され
たリップ構造体2の機械的な組立・調整後の実A11l
ギヤツプ量誤差との偏差から得られるギャップ量固有誤
差ベクトルを、Δeとすれば、Δe−(Δel、Δe2
.・・・、Δel、・・・、Δen)と表すことができ
る。
ャップm Z4差(最大ギャップ)と、実71p1され
たリップ構造体2の機械的な組立・調整後の実A11l
ギヤツプ量誤差との偏差から得られるギャップ量固有誤
差ベクトルを、Δeとすれば、Δe−(Δel、Δe2
.・・・、Δel、・・・、Δen)と表すことができ
る。
このΔeを用いて、下記の第0式に示すように、5′「
容ギャップ量誤差(基準ギャップ状態)を実現するため
の基準入力、即ち、基準ギャップを実現するための初期
人力を、予め初期電圧ベクトル(Δu)に加えて補正す
る。
容ギャップ量誤差(基準ギャップ状態)を実現するため
の基準入力、即ち、基準ギャップを実現するための初期
人力を、予め初期電圧ベクトル(Δu)に加えて補正す
る。
Δu、= (Ka・K I) ) −1・Δe ・・
・■なお、繰返しマトリクスを修正した第0式を用いた
場合は、下記の第[相]式により求める。
・■なお、繰返しマトリクスを修正した第0式を用いた
場合は、下記の第[相]式により求める。
Δu、m (Ka’ 拳Kp’ )−’・K1 ’−
’・Δe・・・[株] よって、以上の第0式及び第[相]式より、空圧制御系
への補正された電圧指令値(Δυ+Δue)が次式によ
り表される。
’・Δe・・・[株] よって、以上の第0式及び第[相]式より、空圧制御系
への補正された電圧指令値(Δυ+Δue)が次式によ
り表される。
Δu+Δu、= (Ka ・ Kp)−’* (
Δy +Δ e)・・・■ 実証データ 第3図(1)、(2)に、3軸試作機の順次隣接したc
hi、ch2.ch3において、ch2に一定圧力入力
して静止させ、chi及びch3のみを、0.54μm
の連続的ステップ駆動させた場合のデータを、縦軸にリ
ップ変位ff1y、横軸に時間Sとして表した。
Δy +Δ e)・・・■ 実証データ 第3図(1)、(2)に、3軸試作機の順次隣接したc
hi、ch2.ch3において、ch2に一定圧力入力
して静止させ、chi及びch3のみを、0.54μm
の連続的ステップ駆動させた場合のデータを、縦軸にリ
ップ変位ff1y、横軸に時間Sとして表した。
第3図(1)は、第0式より補正された電圧指令値(Δ
u+Δus)を用いて非干渉制御を行った場合を示し、
ch2は、0.26μmのみ変動するに過ぎず、一方、
第3図(2)は、非干渉制御しない場合を示し、ch2
が1.73μmも干渉されていることが分る。
u+Δus)を用いて非干渉制御を行った場合を示し、
ch2は、0.26μmのみ変動するに過ぎず、一方、
第3図(2)は、非干渉制御しない場合を示し、ch2
が1.73μmも干渉されていることが分る。
第4図に示すとおり、リップ部4の駆動されるゾーン(
j−2〜J+2)における理想のギャップff1(□)
に対し、固有誤差補正<−−−−−>、非干渉マトリク
スの繰返し修正(−−−−)した場合のギャップ量の誤
差は1両者ともに僅かであることが分かる。
j−2〜J+2)における理想のギャップff1(□)
に対し、固有誤差補正<−−−−−>、非干渉マトリク
スの繰返し修正(−−−−)した場合のギャップ量の誤
差は1両者ともに僅かであることが分かる。
[発明の効果]
以上の説明から分るとおり、本発明によれば、高精度に
Tダイリップのギャップ量を制御することのできる非干
渉制御型Tダイギャップ制御装置を提供することができ
る。
Tダイリップのギャップ量を制御することのできる非干
渉制御型Tダイギャップ制御装置を提供することができ
る。
第1図は本発明の実施例に係わるTダイの斜視図、第2
図は第1図のTダイの用いる制御装置のブロック図、第
3図(1)、(2)は第[相]式より補正された電圧指
令値(Δu+Δue)を用いて非干渉制御を行った場合
と、非干渉制御を行わない場合の制御制度を比較した図
、第4図は理想のギャップff1(□)に対し、固有誤
差補正(−−−−−)、非干渉マトリクスの繰返し修正
<−−−−”)した場合のギャップ量の誤差を示す図で
ある。 20・・・制御装置、21・・・記憶域、22・・・演
算域、23・・・電圧指令値出力域23.24・・・フ
ィルム膜厚プロファイルセンサ24.25・・・目標プ
ロファイル記憶部、26・・・樹脂流量特性記憶部、2
7・・非干渉制御マトリクス記憶部、28・・・圧力/
変位変換マトリクス記憶部、29・・・操作量/圧力変
換マトリクス記憶部、30・・・実測プロファイル記憶
部、31・・・ギャップm誤差ベクトル記憶部31.3
2・・・膜厚誤差演算部、33・・・リップ開度m演算
部、34・・・マトリクス演算部、35・・・操作量演
算部、36・・・電圧指令値出力部。 手続補正書(自発) 第4図 、駆す力 ゛ノ゛−ン 平成1年9月1日
図は第1図のTダイの用いる制御装置のブロック図、第
3図(1)、(2)は第[相]式より補正された電圧指
令値(Δu+Δue)を用いて非干渉制御を行った場合
と、非干渉制御を行わない場合の制御制度を比較した図
、第4図は理想のギャップff1(□)に対し、固有誤
差補正(−−−−−)、非干渉マトリクスの繰返し修正
<−−−−”)した場合のギャップ量の誤差を示す図で
ある。 20・・・制御装置、21・・・記憶域、22・・・演
算域、23・・・電圧指令値出力域23.24・・・フ
ィルム膜厚プロファイルセンサ24.25・・・目標プ
ロファイル記憶部、26・・・樹脂流量特性記憶部、2
7・・非干渉制御マトリクス記憶部、28・・・圧力/
変位変換マトリクス記憶部、29・・・操作量/圧力変
換マトリクス記憶部、30・・・実測プロファイル記憶
部、31・・・ギャップm誤差ベクトル記憶部31.3
2・・・膜厚誤差演算部、33・・・リップ開度m演算
部、34・・・マトリクス演算部、35・・・操作量演
算部、36・・・電圧指令値出力部。 手続補正書(自発) 第4図 、駆す力 ゛ノ゛−ン 平成1年9月1日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、膜材料を被膜材に流出させるリップ部を有するリッ
プ構造体に圧力を与えて、前記リップ部のギャップ量を
増減するn(n≧2)個の駆動手段と、 該n個の駆動手段に各々対応するn箇所の前記膜材料の
膜厚値を実測する膜厚実測手段と、該膜厚実測手段より
検出された膜厚実測値と予め定められた目標膜厚値とか
ら膜厚偏差を求め、該膜厚偏差に基づいて、前記リップ
部のギャップ量における目標変位ベクトル(Δy)を演
算するリップ開度量演算手段と、 該目標変位ベクトル(Δy)を基準入力値として、該基
準入力値(Δy)に対応する前記n個の駆動手段への操
作量(U)を、前記リップ構造体の剛性マトリクス(G
)に基づいた非干渉制御アルゴリズムにより演算する操
作量演算手段とを有する非干渉制御型Tダイギヤップ制
御装置において、 前記操作量演算手段は、 前記リップ構造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)を
前記目標変位ベクトル(Δy)に変換する圧力/変位変
換マトリックス(Ka)を演算すると共に、 該圧力/変位変換マトリックス(Ka)と、前記駆動手
段に入力される操作量ベクトル(Δu)を前記リップ構
造体に加えられる圧力ベクトル(ΔP)に変換するため
の操作量/圧力変換マトリクス(kp)との積(Ka・
kp)の逆マトリクス(Ka・kp)^−^1を演算す
る初期マトリクス演算部と、 該初期マトリクス演算部より出力される逆マトリクス(
Ka・kp)^−^1を受け、該逆マトリクス(Ka・
kp)^−^1に基づいて、前記基準入力値(Δy)に
対応する初期操作量(Δu)を、非干渉制御アルゴリズ
ムにより演算する操作量演算部と を有することを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置。 2、第1請求項記載の非干渉制御型Tダイギャップ制御
装置において、 前記操作量演算手段は、 前記目標変位ベクトル(Δy)と、前記初期操作量(Δ
u)に基づいて駆動された前記リップ部を実測して得ら
れる実測変位ベクトル(Δym)との偏差から、該偏差
を補償するように、前記逆マトリクス(Kα・kp)^
−^1を繰返し修正した修正逆マトリクス(Kα′・k
p′)^−^1・K_1^−^1を演算する修正マトリ
クス演算部を有し、 前記操作量演算部は、前記修正マトリクス演算部より出
力される修正逆マトリクス(Kα′・kp′)^−^1
・K_1^−^1を受け、該修正逆マトリクス(Kα′
・kp′)^−^1・K_1^−^1に基づいて、前記
目標変位ベクトル(Δy)に対応する修正操作量(Δu
_1)を非干渉制御アルゴリズムにより演算することを
特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ制御装置。 3、第1又は第2請求項記載の前記非干渉制御型Tダイ
ギャップ制御装置において、 前記リップ部の固有形状誤差における予め定められた許
容ギャップ量誤差と、実測された当該リップ部の実測ギ
ャップ量誤差との偏差から、ギャップ量固有誤差ベクト
ル(Δe)を求め、該ギャップ量固有誤差ベクトル(Δ
e)を前記目標変位ベクトル(Δy)に加算した補正基
準入力値(Δy+Δe)を、前記操作量演算手段に基準
入力値として与える固有形状誤差補正手段 を設けたことを特徴とする非干渉制御型Tダイギャップ
制御装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63214794A JP2609540B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 非干渉制御型tダイギャップ制御装置 |
| EP89116128A EP0357071B1 (en) | 1988-08-31 | 1989-08-31 | Apparatus for carrying out decoupling control of a t-die |
| US07/401,171 US5056030A (en) | 1988-08-31 | 1989-08-31 | Apparatus for carrying out decoupling control of a t-die |
| DE89116128T DE68910442T2 (de) | 1988-08-31 | 1989-08-31 | Vorrichtung zum Ausführen einer entkoppelten Kontrolle einer T-Matrize. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63214794A JP2609540B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 非干渉制御型tダイギャップ制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263715A true JPH0263715A (ja) | 1990-03-05 |
| JP2609540B2 JP2609540B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=16661639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63214794A Expired - Lifetime JP2609540B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 非干渉制御型tダイギャップ制御装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5056030A (ja) |
| EP (1) | EP0357071B1 (ja) |
| JP (1) | JP2609540B2 (ja) |
| DE (1) | DE68910442T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010116842A1 (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-14 | 住友重機械モダン株式会社 | Tダイ用リップ駆動部 |
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| JPH0739128B2 (ja) * | 1991-03-29 | 1995-05-01 | 鬼怒川ゴム工業株式会社 | 連続押出加硫ラインの制御装置 |
| JPH10225973A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Toshiba Mach Co Ltd | 熱変位式自動tダイの制御方法 |
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| US20060138705A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Korba Gary A | Method of making a structured surface article |
| US20060138686A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Ouderkirk Andrew J | Method of making a uniaxially stretched polymeric film having structured surface |
| US20060138702A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Biernath Rolf W | Method of making uniaxially oriented articles having structured surfaces |
| US20060138694A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Biernath Rolf W | Method of making a polymeric film having structured surfaces via replication |
| US20060141219A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Benson Olester Jr | Roll of a uniaxially oriented article having a structured surface |
| US20060141218A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Biernath Rolf W | Uniaxially oriented articles having structured surface |
| US20060204720A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-09-14 | Biernath Rolf W | Uniaxially oriented birefringent article having a structured surface |
| US7418202B2 (en) * | 2005-08-04 | 2008-08-26 | 3M Innovative Properties Company | Article having a birefringent surface and microstructured features having a variable pitch or angles for use as a blur filter |
| US9134471B2 (en) | 2006-06-28 | 2015-09-15 | 3M Innovative Properties Company | Oriented polymeric articles and method |
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| US9579684B2 (en) | 2011-06-07 | 2017-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Slot die position adjustment control |
| EP4259342B1 (en) * | 2020-12-09 | 2026-01-21 | 3M Innovative Properties Company | Slot die position adjustment |
| WO2022229893A1 (en) * | 2021-04-29 | 2022-11-03 | Lohia Mechatronik Private Limited | System and method for mapping the lip adjustment bolts of a flat extrusion die |
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| JPS6050133B2 (ja) * | 1981-11-05 | 1985-11-07 | 東芝機械株式会社 | 口金隙間調整方法 |
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-
1988
- 1988-08-31 JP JP63214794A patent/JP2609540B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
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