JPH0263826A - 防曇性シート及びその製造方法 - Google Patents
防曇性シート及びその製造方法Info
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- JPH0263826A JPH0263826A JP63217753A JP21775388A JPH0263826A JP H0263826 A JPH0263826 A JP H0263826A JP 63217753 A JP63217753 A JP 63217753A JP 21775388 A JP21775388 A JP 21775388A JP H0263826 A JPH0263826 A JP H0263826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrophilic
- film
- polymer
- weight
- parts
- Prior art date
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- Laminated Bodies (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は防曇性を有するシート及びその製造方法に関し
、特に良好な表面状態を有するとともに長期間にわたっ
て防曇性を保持する防曇性シート及びその製造方法に関
する。
、特に良好な表面状態を有するとともに長期間にわたっ
て防曇性を保持する防曇性シート及びその製造方法に関
する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕自動車
のウィンドーやサイドミラー、浴場のミラーやウィンド
ー等は湿気にさらされると、その表面が曇り、頻繁に拭
き取る必要がある等不便であった。そこでこれらの物品
の表面に防曇性を付与する種々の試みがなされている。
のウィンドーやサイドミラー、浴場のミラーやウィンド
ー等は湿気にさらされると、その表面が曇り、頻繁に拭
き取る必要がある等不便であった。そこでこれらの物品
の表面に防曇性を付与する種々の試みがなされている。
従来、物品の表面に防曇性を付与する防曇層として、
(イ)界面活性剤を樹脂に練込むことにより防曇性を出
したもの、 (ロ)コロイダルシリカやホスファイト等の無機塩を添
加して防曇性ライフを伸ばしたもの、(ハ)アセチルセ
ルロースのケン化処理等のポリマーの改質により表面の
親水化を行ったもの、等がある。
したもの、 (ロ)コロイダルシリカやホスファイト等の無機塩を添
加して防曇性ライフを伸ばしたもの、(ハ)アセチルセ
ルロースのケン化処理等のポリマーの改質により表面の
親水化を行ったもの、等がある。
しかし上記(イ)、(ロ)の防曇層には、界面活性剤の
滲出により防曇性の寿命が短いという問題がある。さら
に上記(ハ)の防曇層は湿潤時の皮膜強度が乏しく、施
行時に傷ついて防曇性が劣化するという問題がある。
滲出により防曇性の寿命が短いという問題がある。さら
に上記(ハ)の防曇層は湿潤時の皮膜強度が乏しく、施
行時に傷ついて防曇性が劣化するという問題がある。
以上の従来技術の問題点を解決するものとして、本発明
者等は先に支持フィルムと防曇層とを有し、前記防曇層
はポリマーと親水性モノマーとが電子線照射により架橋
したものであることを特徴とする防曇性シートを提案し
た(特願昭62=114348号) ところで、最近比較的厚い防曇層(親水性膜)を有する
防曇シートのニーズが出てきた。これは防曇性を一層向
上するとともに長期間にわたって保持する要求がでてき
たからである。ところが、厚い防曇層を溶剤含有の塗布
液により形成しようとすると、防曇層の表面が荒れ、ミ
ラーやウィンドー等に貼付する防曇性シートとしては不
適当なものとなることがわかった。
者等は先に支持フィルムと防曇層とを有し、前記防曇層
はポリマーと親水性モノマーとが電子線照射により架橋
したものであることを特徴とする防曇性シートを提案し
た(特願昭62=114348号) ところで、最近比較的厚い防曇層(親水性膜)を有する
防曇シートのニーズが出てきた。これは防曇性を一層向
上するとともに長期間にわたって保持する要求がでてき
たからである。ところが、厚い防曇層を溶剤含有の塗布
液により形成しようとすると、防曇層の表面が荒れ、ミ
ラーやウィンドー等に貼付する防曇性シートとしては不
適当なものとなることがわかった。
従って、本発明の目的は、長期間防曇性を保持するため
に厚い親水性膜を有する防曇シートを提供することであ
る。
に厚い親水性膜を有する防曇シートを提供することであ
る。
本発明のもう1つの目的はかかる防曇性シートを製造す
る方法を提供することである。
る方法を提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者等は、親水性
膜用成分を非溶剤系の塗布液として支持フィルム上に塗
布し、電子線照射により架橋させることにより、良好な
表面状態を有する厚い親水性膜を得ることができること
を発見し、本発明に想到した。
膜用成分を非溶剤系の塗布液として支持フィルム上に塗
布し、電子線照射により架橋させることにより、良好な
表面状態を有する厚い親水性膜を得ることができること
を発見し、本発明に想到した。
すなわち、本発明の防曇性シートは、支持フィルムの表
面に、ポリマーと親水性モノマーとを含有し電子線照射
により架橋した厚さ30μm以上の親水性膜が形成され
ていることを特徴とする。
面に、ポリマーと親水性モノマーとを含有し電子線照射
により架橋した厚さ30μm以上の親水性膜が形成され
ていることを特徴とする。
また本発明の防曇性シートの製造方法は、ポリマーと親
水性モノマーとを含有する非溶剤型塗布液を調製し、前
記塗布液を支持フィルム上に架橋後の厚さが30μm以
上となるように塗布し、電子線照射により架橋すること
を特徴とする。
水性モノマーとを含有する非溶剤型塗布液を調製し、前
記塗布液を支持フィルム上に架橋後の厚さが30μm以
上となるように塗布し、電子線照射により架橋すること
を特徴とする。
本発明を以下詳細に説明する。
支持フィルム
支持フィルムは親水性膜を支持するのに十分な機械的強
度及び透明性があれば、用途に応じ種々の素材のものを
使用することができる。具体的に例を示すと、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン、ナイロン等のポリ
アミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂のフィルムがある
。
度及び透明性があれば、用途に応じ種々の素材のものを
使用することができる。具体的に例を示すと、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン、ナイロン等のポリ
アミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂のフィルムがある
。
これらは必要によりラミネートして使用できる。
支持フィルムは必要に応じ各種の色に着色したものでも
よい。着色剤としては分散染料が好ましく、モノアゾ、
ビスアゾ、アントラキノン、ニトロ、スチリル、メチン
、アロイレン、ベンゾイミダゾール、アミノナフチルア
ミド、ナフトキノンイミド、クマリン誘導体等の分散染
料を使用することができる。
よい。着色剤としては分散染料が好ましく、モノアゾ、
ビスアゾ、アントラキノン、ニトロ、スチリル、メチン
、アロイレン、ベンゾイミダゾール、アミノナフチルア
ミド、ナフトキノンイミド、クマリン誘導体等の分散染
料を使用することができる。
本発明における親水性膜は、基本的にポリマーに親水性
モノマー等を電子線の照射により架橋させるとともに、
必要に応じ界面活性剤を含有させたものからなる。具体
的な組み合わせとしては、(イ)ポリマー十親水性モノ
マー (ロ)ポリマー十親水性モノマー十界面活性剤、(ハ)
ポリマー十親水性モノマー十架橋性モノマー (ニ)ポリマー十親水性モノマー卆架橋性モノマー十界
面活性剤、 (ホ)ポリマー十親水性架橋性モノマー(へ)ポリマー
十親水性架橋性モノマー十界面活性剤、 (ト)ホリ′マー十親水性モノマー・十親水性架橋性モ
ノマー、及び (チ)ポリマー十親水性モノマー十親水性架橋性モノマ
ー十界面活性剤 がある。上記すべての組み合わせにふいて、ポリマーは
官能ポリマー又は無官能ポリマーのいずれでもよい。
モノマー等を電子線の照射により架橋させるとともに、
必要に応じ界面活性剤を含有させたものからなる。具体
的な組み合わせとしては、(イ)ポリマー十親水性モノ
マー (ロ)ポリマー十親水性モノマー十界面活性剤、(ハ)
ポリマー十親水性モノマー十架橋性モノマー (ニ)ポリマー十親水性モノマー卆架橋性モノマー十界
面活性剤、 (ホ)ポリマー十親水性架橋性モノマー(へ)ポリマー
十親水性架橋性モノマー十界面活性剤、 (ト)ホリ′マー十親水性モノマー・十親水性架橋性モ
ノマー、及び (チ)ポリマー十親水性モノマー十親水性架橋性モノマ
ー十界面活性剤 がある。上記すべての組み合わせにふいて、ポリマーは
官能ポリマー又は無官能ポリマーのいずれでもよい。
無官能ポリマーとしては、ポリアクリル酸アルキルエス
テル、ポリメタクリル酸アルキルエステル、ポリウレタ
ン、゛ポリエステル、ポリアミド、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、
ポリビニルピロリドン等を使用することができる。
テル、ポリメタクリル酸アルキルエステル、ポリウレタ
ン、゛ポリエステル、ポリアミド、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、
ポリビニルピロリドン等を使用することができる。
親水性モノマーとの相溶性を良好にするために無官能ポ
リマーに親水性基をあらかじめ導入してもよい。これに
は後述の親水性基を有するモノマー(親水性モノマー)
との共重合体とする。親水性モノマーの無官能ポリマー
に対する割合は50モル%以下であり、これを超えると
得られる膜の耐水性が低下する。
リマーに親水性基をあらかじめ導入してもよい。これに
は後述の親水性基を有するモノマー(親水性モノマー)
との共重合体とする。親水性モノマーの無官能ポリマー
に対する割合は50モル%以下であり、これを超えると
得られる膜の耐水性が低下する。
さらに部分ケン化ポリビニルアルコール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルアセタール等のポリビニルアルコ
ールの誘導体や、ニトロセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス等のセルロース誘導体も使用することができる。
チラール、ポリビニルアセタール等のポリビニルアルコ
ールの誘導体や、ニトロセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス等のセルロース誘導体も使用することができる。
一方、官能ポリマーは電離性放射線により架橋反応を起
す官能基を有するポリマーであり、官能基の例として以
下のものがある。
す官能基を有するポリマーであり、官能基の例として以
下のものがある。
CH。
メタクリロイル基 −OC−C= CH。
ア リ ル 基 −CH2−CH=CH
。
。
○
官能基はポリマーの分子量300〜10000 に1つ
の割合であるのが望ましく、分子量10000 当り1
つ未満の割合だと官能基による架橋効果はほとんどなく
、分子量300当り1つを超える割合だと架″橋密度が
高くなりすぎる。
の割合であるのが望ましく、分子量10000 当り1
つ未満の割合だと官能基による架橋効果はほとんどなく
、分子量300当り1つを超える割合だと架″橋密度が
高くなりすぎる。
官能ポリマーとしてはウレタンアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、エポキシアクリレート等や、アクリ
ル酸アルキルエステルとアクリル酸−2−ヒドロキシエ
チルとの共重合体の水酸基にアクリル酸クロリド又はア
クリル酸−2−ヒドロキシエチルとジイソシアナートの
1:1付加体を付加することによりアクリロイル基を導
入した共重合体や、アクリル酸アルキルエステルとアク
リル酸の共重合体のカルボキシル基にグリシジルメタク
リレートを付加した共重合体や、ポリビニルブチラール
の残存水酸基にアクリル酸クロリド又はアクリル酸−2
−ヒドロキシエチルとジイソシアナートの1:l付加体
を付加したもの等を使用することができる。
テルアクリレート、エポキシアクリレート等や、アクリ
ル酸アルキルエステルとアクリル酸−2−ヒドロキシエ
チルとの共重合体の水酸基にアクリル酸クロリド又はア
クリル酸−2−ヒドロキシエチルとジイソシアナートの
1:1付加体を付加することによりアクリロイル基を導
入した共重合体や、アクリル酸アルキルエステルとアク
リル酸の共重合体のカルボキシル基にグリシジルメタク
リレートを付加した共重合体や、ポリビニルブチラール
の残存水酸基にアクリル酸クロリド又はアクリル酸−2
−ヒドロキシエチルとジイソシアナートの1:l付加体
を付加したもの等を使用することができる。
なお上記ポリマーはオリゴマー状でもよいが、造膜性の
観点から分子量は1000〜30万(重量平均)である
のが好ましい。
観点から分子量は1000〜30万(重量平均)である
のが好ましい。
親水性モノマーは水酸基、カルボキシル基(金属塩)、
アミド基、イミド基、スルホン基、アンモニウム塩基、
リン酸基等の親水性基を含有するモノマーであり、例え
ばアクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−
ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル
、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリル酸金属塩、メタクリル酸金属塩
、アクリル酸ダイマー、アクリルアミド、メタクリルア
ミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチ
ルアミノプロピルメタクリルアミド、N−アクリロイル
モルフォリン、N−メタクリロイルモルフォリン、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド、t−ブチルアクリルアミド、t−ブチルメタク
リルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−
エトキジメチルアクリルアミド、N−n−ブトキシアク
リルアミド、N、N−ジメチルアクリルアミド、N、N
−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、N−ジ
メチルアミンプロピルメタクリルアミド、ポリエチレン
グリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノメタクリレート、グリセロールモノメタクリレ
ート、2−アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン
酸、メタアクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチル
アンモニウムクロライド、モノ (2−メタクロイロキ
シエチル)アシッドホスフェート等が挙げられる。
アミド基、イミド基、スルホン基、アンモニウム塩基、
リン酸基等の親水性基を含有するモノマーであり、例え
ばアクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−
ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル
、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリル酸金属塩、メタクリル酸金属塩
、アクリル酸ダイマー、アクリルアミド、メタクリルア
ミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチ
ルアミノプロピルメタクリルアミド、N−アクリロイル
モルフォリン、N−メタクリロイルモルフォリン、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド、t−ブチルアクリルアミド、t−ブチルメタク
リルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−
エトキジメチルアクリルアミド、N−n−ブトキシアク
リルアミド、N、N−ジメチルアクリルアミド、N、N
−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、N−ジ
メチルアミンプロピルメタクリルアミド、ポリエチレン
グリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノメタクリレート、グリセロールモノメタクリレ
ート、2−アクリルアミド2−メチルプロパンスルホン
酸、メタアクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチル
アンモニウムクロライド、モノ (2−メタクロイロキ
シエチル)アシッドホスフェート等が挙げられる。
架橋性モノマーはアクリロイル基、メタクリロイル基、
アリル基、エポキシ基等電子線照射によって容易にラジ
カルとなる基を2つ以上有するモノマーであり、骨格ポ
リマーと親水性モノマーのいずれとも架橋結合するので
、膜全体の架橋密度を向上させ、膜強度を高めるととも
に未反応の親水性モノマーが残存しないようにする。こ
のような架橋性モノマーとして、エチレングリコールジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、1.6−ヘキサンシオールジメタクリレート、グリ
シジルメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタ
クリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト、2.2−ビス〔4(アクリロキシジェトキシ)フェ
ニル〕プロパン、2.2−ビス〔4−(メタクリロキシ
ジェトキシ)フェニル〕フロパン、2.2−ビス〔4(
アクリロキンポリエトキシ)フェニル〕プロパン、2.
2−ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニ
ル〕プロパン等の2官能モノマートリメチロールプロパ
ントリメタクリレート等の3官能モノマー、その他テト
ラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレート等の多官能モノマー等が
挙げられる。
アリル基、エポキシ基等電子線照射によって容易にラジ
カルとなる基を2つ以上有するモノマーであり、骨格ポ
リマーと親水性モノマーのいずれとも架橋結合するので
、膜全体の架橋密度を向上させ、膜強度を高めるととも
に未反応の親水性モノマーが残存しないようにする。こ
のような架橋性モノマーとして、エチレングリコールジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、1.6−ヘキサンシオールジメタクリレート、グリ
シジルメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタ
クリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト、2.2−ビス〔4(アクリロキシジェトキシ)フェ
ニル〕プロパン、2.2−ビス〔4−(メタクリロキシ
ジェトキシ)フェニル〕フロパン、2.2−ビス〔4(
アクリロキンポリエトキシ)フェニル〕プロパン、2.
2−ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニ
ル〕プロパン等の2官能モノマートリメチロールプロパ
ントリメタクリレート等の3官能モノマー、その他テト
ラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレート等の多官能モノマー等が
挙げられる。
親水性架橋性モノマーは水酸基、カルボキシル基(金属
塩)、アミド基、イミド基、スルホン酸基(金属塩)、
アンモニウム塩基、リン酸基等の親水性基とアクリロイ
ル基、メタクリロイル基、アリル基、エポキシ基等電、
子線照射によって容易にラジカルとなる2つ以上の架橋
性官能基を有するモノマーである。
塩)、アミド基、イミド基、スルホン酸基(金属塩)、
アンモニウム塩基、リン酸基等の親水性基とアクリロイ
ル基、メタクリロイル基、アリル基、エポキシ基等電、
子線照射によって容易にラジカルとなる2つ以上の架橋
性官能基を有するモノマーである。
このような親水性架橋性モノマーとしては、例えば、グ
リセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロールメタ
クリレートアクリレート等の水酸基を有するもの、エチ
レングリコール、ジグリシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールIジグリシジルエー
テルジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ル・ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコール・ジグリシジルエーテルジ(メタ
)アクリレート、グリセリンジグリシジルエーテルジ(
メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリグリンジルエーテルジ(メタ)アクリレート等の
ジオール・ジグリシジルエーテルとアクリル酸との1:
2付加物、ペンタエリスリトールモノ (メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールモノ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ (メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ (メタ)アクリレート等
のペンタエリスリトール誘導体、メチレンビス(メタ)
アクリルアミド、アクリルアミド・グリオキサール付加
体、アクリルアミド・メチロエチレン尿素縮合物、13
.5−)リアクリロイルへキサヒドロS−トリアジン、
N、N−ジアリルアクリルアミド、アクリルアミド・メ
チロールメラミン縮合物、アクリルアミド・メチロール
トリアゾン縮合物、アクリルアミド・メチロールヒダン
トイン縮合物、アクリルアミド・メチロール尿素、N、
N−ジアリルアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体
等がある。
リセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロールメタ
クリレートアクリレート等の水酸基を有するもの、エチ
レングリコール、ジグリシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールIジグリシジルエー
テルジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ル・ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコール・ジグリシジルエーテルジ(メタ
)アクリレート、グリセリンジグリシジルエーテルジ(
メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリグリンジルエーテルジ(メタ)アクリレート等の
ジオール・ジグリシジルエーテルとアクリル酸との1:
2付加物、ペンタエリスリトールモノ (メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールモノ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ (メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ (メタ)アクリレート等
のペンタエリスリトール誘導体、メチレンビス(メタ)
アクリルアミド、アクリルアミド・グリオキサール付加
体、アクリルアミド・メチロエチレン尿素縮合物、13
.5−)リアクリロイルへキサヒドロS−トリアジン、
N、N−ジアリルアクリルアミド、アクリルアミド・メ
チロールメラミン縮合物、アクリルアミド・メチロール
トリアゾン縮合物、アクリルアミド・メチロールヒダン
トイン縮合物、アクリルアミド・メチロール尿素、N、
N−ジアリルアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体
等がある。
本発明で用いる親水性膜はまた界面活性剤を含有するこ
とができる。界面活性剤は親水性膜から徐々に表面に滲
出することにより防曇性(結露防止性)を付与する作用
を有する。親水性層を構成する上記成分からなる組成物
との相溶性が良ければ陰イオン性、非イオン性及び陽イ
オン性のいずれの界面活性剤も使用することができる。
とができる。界面活性剤は親水性膜から徐々に表面に滲
出することにより防曇性(結露防止性)を付与する作用
を有する。親水性層を構成する上記成分からなる組成物
との相溶性が良ければ陰イオン性、非イオン性及び陽イ
オン性のいずれの界面活性剤も使用することができる。
陰イオン性界面活性剤としては脂肪酸塩、アルキル硫酸
エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エ
ステル塩、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスル
ホン酸−ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキ
ル硫酸エステル塩等があり、非イオン性界面活性剤とし
てはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフェノールエーテル、ホリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレンソルビクン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、
オキシエチレン−オキシプロピレンブロックポリマー等
があり、陽イオン性界面活性剤としてはアルキルアミン
、4級アンモニウム塩等がある。
エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エ
ステル塩、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスル
ホン酸−ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキ
ル硫酸エステル塩等があり、非イオン性界面活性剤とし
てはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフェノールエーテル、ホリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレンソルビクン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、
オキシエチレン−オキシプロピレンブロックポリマー等
があり、陽イオン性界面活性剤としてはアルキルアミン
、4級アンモニウム塩等がある。
本発明で用いる親水性膜を形成する場合、ポリマー10
0重量部当り、親水性モノマーは5〜300重量部の割
合で添加する。5重量部未満だと十分な親水性が付与さ
れず、逆に300重量部を超えると膜の耐水性が低下す
る。好ましい親水性モノマーの含有量は20〜250重
量部である。
0重量部当り、親水性モノマーは5〜300重量部の割
合で添加する。5重量部未満だと十分な親水性が付与さ
れず、逆に300重量部を超えると膜の耐水性が低下す
る。好ましい親水性モノマーの含有量は20〜250重
量部である。
架橋性モノマーはポリマー100重量部当り1〜300
重量部である。1重量未満だと未反応の親水性モノマー
の架橋化が不十分であり、逆に300重量部を超えると
層全体の架橋密度が高くなりすぎる。特にポリマーが官
能基を有しない場合、架橋性モノマーの含有量は5〜3
00重量部とするのが好ましく、5〜200重量部とす
るのがより好ましい。またポリマーが官能基を有する場
合、架橋性モノマーの含有量は1〜200重量部とする
のが好ましく、5〜100重量部とするのがより好まし
い。
重量部である。1重量未満だと未反応の親水性モノマー
の架橋化が不十分であり、逆に300重量部を超えると
層全体の架橋密度が高くなりすぎる。特にポリマーが官
能基を有しない場合、架橋性モノマーの含有量は5〜3
00重量部とするのが好ましく、5〜200重量部とす
るのがより好ましい。またポリマーが官能基を有する場
合、架橋性モノマーの含有量は1〜200重量部とする
のが好ましく、5〜100重量部とするのがより好まし
い。
親水性架橋性モノマーはポリマー100重量部当り、1
〜200重量部である。1重量部未満だと十分な親水性
及び架橋性が付与されず、逆に200重量部を超えると
膜の耐水性が低下するとともに架橋密度が高くなりすぎ
る。好ましい親水性架橋性モノマーの含有量は1〜10
0 重量部である。
〜200重量部である。1重量部未満だと十分な親水性
及び架橋性が付与されず、逆に200重量部を超えると
膜の耐水性が低下するとともに架橋密度が高くなりすぎ
る。好ましい親水性架橋性モノマーの含有量は1〜10
0 重量部である。
界面活性剤は必ずしも必要ではないが添加する場合、ポ
リマー100重量部当り200重量部以下である。20
0重量部を超えると界面活性剤の滲出が多過ぎるように
なる。好ましい含有量は1〜100重量部である。
リマー100重量部当り200重量部以下である。20
0重量部を超えると界面活性剤の滲出が多過ぎるように
なる。好ましい含有量は1〜100重量部である。
親水性膜を形成する場合、上記成分の適当な組み合わせ
からなる組成物に溶剤を添加しないで、塗布液とするこ
とを特徴とする。親水性膜が30μm以下である場合、
溶剤含有塗布液でも良好な表面状態のものが得られるが
、それより厚いものだと表面状態が急激に悪化する。
からなる組成物に溶剤を添加しないで、塗布液とするこ
とを特徴とする。親水性膜が30μm以下である場合、
溶剤含有塗布液でも良好な表面状態のものが得られるが
、それより厚いものだと表面状態が急激に悪化する。
上記組成物を用い、以下の方法により親水性膜を支持フ
ィルム上に形成することができる。
ィルム上に形成することができる。
まず溶剤を含有しない組成物を加温などの方法により適
当な粘度に調整し、グラビアリ゛バース法、三本リバー
ス法、グラビアダイレクト法、四本リバース法等のロー
ルコート方式により、支持フィルム上に塗布する。
当な粘度に調整し、グラビアリ゛バース法、三本リバー
ス法、グラビアダイレクト法、四本リバース法等のロー
ルコート方式により、支持フィルム上に塗布する。
組成物を、支持フィルムに塗布した後、例えば鏡面仕上
げとする場合、その上に鏡面状フィルムをラミネートし
、電子線の照射を行なう。
げとする場合、その上に鏡面状フィルムをラミネートし
、電子線の照射を行なう。
照射方法としてはエレクトロンカーテン方式、ビームス
キャニング方式等任意の方法を用いることができる。電
子線の照射により、ポリマーは官能基の有無にかかわら
ず架橋可能となり、親水性モノマー、親水性架橋性モノ
マーがグラフト重合又はブロック重合の形式でポリマー
に架橋する。
キャニング方式等任意の方法を用いることができる。電
子線の照射により、ポリマーは官能基の有無にかかわら
ず架橋可能となり、親水性モノマー、親水性架橋性モノ
マーがグラフト重合又はブロック重合の形式でポリマー
に架橋する。
この点が紫外線照射による架橋と著しい相違点である。
照射する電子線のエネルギーは150〜200keV程
度であり、照射量は組成物の組成及び所望する架橋密度
の程度等により異なる。ポリマーに官能基がある程、照
射量は少な(てすみ、また架橋密度を高くする程照射量
を多くする必要がある。
度であり、照射量は組成物の組成及び所望する架橋密度
の程度等により異なる。ポリマーに官能基がある程、照
射量は少な(てすみ、また架橋密度を高くする程照射量
を多くする必要がある。
特に界面活性剤を含有する場合、架橋密度が高すぎると
その滲出が不十分となり、防曇(結露防止)作用が低下
するので、照射量の制御は重要である。
その滲出が不十分となり、防曇(結露防止)作用が低下
するので、照射量の制御は重要である。
以上のことから一般に照射量は0.5〜20 M r
a dであり、0.5Mrad未満であると未反応モノ
マーが残留することがあり、20Mradを超えると架
橋密度が高くなりすぎる。
a dであり、0.5Mrad未満であると未反応モノ
マーが残留することがあり、20Mradを超えると架
橋密度が高くなりすぎる。
電子線の照射により、親水性膜を形成した後、鏡面フィ
ルム等が表面に貼付されている場合は、それを剥離する
。また表面のフィルムを施工時まで剥離することなく、
保護フィルムとして用いることもできる。
ルム等が表面に貼付されている場合は、それを剥離する
。また表面のフィルムを施工時まで剥離することなく、
保護フィルムとして用いることもできる。
このように非溶剤型の塗布液を用いて親水性膜を形成す
ることにより、30μm以上と草<シても表面状態を良
好にすることができる。さらに表面にフィルムを貼付し
た状態で電子線照射を行うことにより、さらに表面状態
を鏡面状等、所望のものにすることができる。
ることにより、30μm以上と草<シても表面状態を良
好にすることができる。さらに表面にフィルムを貼付し
た状態で電子線照射を行うことにより、さらに表面状態
を鏡面状等、所望のものにすることができる。
次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明がこれらに限定されるものでないことはいうまで
もない。
本発明がこれらに限定されるものでないことはいうまで
もない。
実施例1
加熱撹拌装置のついた21のセパラブルフラスコとセパ
ラブルカバーを用い、インホロンジイソシアネート44
4gをフラスコに入れ、触媒としてジラウリル酸ジノル
マルブチルスズを0.2g滴下し、40℃で加熱撹拌し
た。ブチレンアジペート(「ニラポランN−4570J
、日本ポリウレタン■製)650gを系内の温度が急
激な上昇を示さないように徐々に加え、反応を進めた。
ラブルカバーを用い、インホロンジイソシアネート44
4gをフラスコに入れ、触媒としてジラウリル酸ジノル
マルブチルスズを0.2g滴下し、40℃で加熱撹拌し
た。ブチレンアジペート(「ニラポランN−4570J
、日本ポリウレタン■製)650gを系内の温度が急
激な上昇を示さないように徐々に加え、反応を進めた。
2時間後2−ヒドロキシエチルアクリレ−)232gを
滴下し、反応温度を60℃に上げ、IRスペクトル中2
330cm−1のインシアネート基によるピークが消失
するまで、撹拌を続けた。このようにしてほぼ100%
の収率でウレタンアクリレート (■)を生成した。
滴下し、反応温度を60℃に上げ、IRスペクトル中2
330cm−1のインシアネート基によるピークが消失
するまで、撹拌を続けた。このようにしてほぼ100%
の収率でウレタンアクリレート (■)を生成した。
得られたウレタンアクリレート (1) 100 重量
部に、親水性モノマーとして2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート100重量部、架橋剤としてネオペンチルグ
リコールジアクリレート(NPCDA) 10重量部、
界面活性剤としてエマルゲン106(花王■製)5重量
部を均一に混合し、塗布液を調製した。
部に、親水性モノマーとして2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート100重量部、架橋剤としてネオペンチルグ
リコールジアクリレート(NPCDA) 10重量部、
界面活性剤としてエマルゲン106(花王■製)5重量
部を均一に混合し、塗布液を調製した。
これをロールコート法により厚さ50μmの易接着処理
ポリエステルフィルム(帝人■製HP−7)に50μm
の厚みで塗布し、これに厚さ25μmのポリエステルフ
ィルム(ルミラーTタイプ)を接層し、エレクトロンカ
ーテン型電子線照射装置(ESI社製)により175k
eVの電子線を5Mrad照射し、塗膜を硬化させた。
ポリエステルフィルム(帝人■製HP−7)に50μm
の厚みで塗布し、これに厚さ25μmのポリエステルフ
ィルム(ルミラーTタイプ)を接層し、エレクトロンカ
ーテン型電子線照射装置(ESI社製)により175k
eVの電子線を5Mrad照射し、塗膜を硬化させた。
得られた防曇性ンートの防曇性評価は下記テストにより
行った。
行った。
(1)呼気テスト (呼気により曇りが発生するか否か
を調べる) テスト評価 ○:曇らす ×:曇り発生(2)50℃
湯気テスト(50℃の温水の湯気にフィルムを当てて曇
りが発生するか否かを調べる)テスト評価 021時
間以上曇らす 013分以上曇らす Δ:3分未満で曇り発生 ×:ただちに曇り発生 本実施例による方法で得られた防曇性シートの防曇性は
、(1)では○、(2)では◎であった。
を調べる) テスト評価 ○:曇らす ×:曇り発生(2)50℃
湯気テスト(50℃の温水の湯気にフィルムを当てて曇
りが発生するか否かを調べる)テスト評価 021時
間以上曇らす 013分以上曇らす Δ:3分未満で曇り発生 ×:ただちに曇り発生 本実施例による方法で得られた防曇性シートの防曇性は
、(1)では○、(2)では◎であった。
実施例2
実施例1で用いたブチレンアジペートのかワリにカーボ
ネートジオール(「プラクセノbcD−210J、ダイ
セル化学工業■製) 1000 gを用いる以外は、実
施例1と同様にして、ウレタンアクリレート(■)を合
成した。
ネートジオール(「プラクセノbcD−210J、ダイ
セル化学工業■製) 1000 gを用いる以外は、実
施例1と同様にして、ウレタンアクリレート(■)を合
成した。
得られたウレタンアクリレート (II) 100重
量部に親水性モノマーとしてグリセロールモノメタクリ
レ−) (GM> 100重量部、界面活性剤として
レジスタッ)SA−130(第一工業薬品@製)10重
量部を均一に混合し、以下実施例1と同様にして塗布し
、厚さ40μmの電子線硬化膜を得た。
量部に親水性モノマーとしてグリセロールモノメタクリ
レ−) (GM> 100重量部、界面活性剤として
レジスタッ)SA−130(第一工業薬品@製)10重
量部を均一に混合し、以下実施例1と同様にして塗布し
、厚さ40μmの電子線硬化膜を得た。
得られた防曇性シートの防曇性は(1)○、(2)◎で
あった。
あった。
実施例3
アクリルポリマー100重量部、親水性モノマーとして
G!、1200重量部、架橋剤としてペンタエリスリト
ールアクリレート (P巳TA)20重量部、界面活性
剤としてエキセル0−95R(花王@製)5重量部から
なる塗布液を調製した。
G!、1200重量部、架橋剤としてペンタエリスリト
ールアクリレート (P巳TA)20重量部、界面活性
剤としてエキセル0−95R(花王@製)5重量部から
なる塗布液を調製した。
なお塗布液の調製は以下の手順で行った。すなわち、メ
チルメタクリレート70重量部と、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート39重量部と、アゾビスイソブチロニ
トリル0.15重量部と、メチルエチルケトン70重量
部とを還流管及び撹拌器を見備し、窒素置換したセパラ
ブルフラスコに入れ、N、気流中で85℃で5時間反応
させた。その後さらにアゾビスイソブチロニトリルを0
.15重量部添加し、3時間反応させた。反応後GM
218重量部、PETA 21゜8重量部、0−95R
5,45重量部を加え、加熱、撹拌しながらメチルエチ
ルケトンを除去し、目的の塗布液を得た。
チルメタクリレート70重量部と、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート39重量部と、アゾビスイソブチロニ
トリル0.15重量部と、メチルエチルケトン70重量
部とを還流管及び撹拌器を見備し、窒素置換したセパラ
ブルフラスコに入れ、N、気流中で85℃で5時間反応
させた。その後さらにアゾビスイソブチロニトリルを0
.15重量部添加し、3時間反応させた。反応後GM
218重量部、PETA 21゜8重量部、0−95R
5,45重量部を加え、加熱、撹拌しながらメチルエチ
ルケトンを除去し、目的の塗布液を得た。
上記塗布液を、ロールコート法で厚さ50μmの易接着
処理ポリエチレンテレフタレートフィルム(音大側製)
IP−7”)上に塗布し、100℃で乾燥させた後、実
施例1と同様な方法で電子線照射を行い、厚さ50μm
で塗膜を硬化させた。
処理ポリエチレンテレフタレートフィルム(音大側製)
IP−7”)上に塗布し、100℃で乾燥させた後、実
施例1と同様な方法で電子線照射を行い、厚さ50μm
で塗膜を硬化させた。
得られた防曇性シートの防曇性は(1)O,(2)◎で
あった。
あった。
第1表に示す各組成の組成物を用いて、実施例1と同様
の方法で防曇性シートを作成し、同じテストを行った。
の方法で防曇性シートを作成し、同じテストを行った。
結果を同じく第1表に示す。
比較例1
実施例8の組成物を用いて3μmの厚さに塗布し、防曇
性を評価した結果、(1)は○、(2)はへとなり実施
例8より防曇性能が低下した。
性を評価した結果、(1)は○、(2)はへとなり実施
例8より防曇性能が低下した。
比較例2
実施例7の組成物を用いて5μmの厚さに塗布し、(2
)の50℃湯気評価を長時間評価した結果、5μm厚で
は約50時間で性能が低下(曇り発生)した。一方実施
例7の膜厚では100時間経過後も曇りの発生はなかっ
た。
)の50℃湯気評価を長時間評価した結果、5μm厚で
は約50時間で性能が低下(曇り発生)した。一方実施
例7の膜厚では100時間経過後も曇りの発生はなかっ
た。
以上の通り本発明の防曇性シートにおいては、親水性膜
の膜厚を厚くすることにより、膜内に取り込む水分の絶
対量を大きくすることができ、防曇性能を向上させるこ
とができる。また長期防曇性付与剤としての界面活性剤
を加えた場合も薄膜に比べ厚膜の方が界面活性剤の絶対
量が多いことから、電子線照射による界面活性剤の流出
制御が厚膜と薄膜で等しい場合、厚膜の方がより長期間
防曇性を持続させることができる。
の膜厚を厚くすることにより、膜内に取り込む水分の絶
対量を大きくすることができ、防曇性能を向上させるこ
とができる。また長期防曇性付与剤としての界面活性剤
を加えた場合も薄膜に比べ厚膜の方が界面活性剤の絶対
量が多いことから、電子線照射による界面活性剤の流出
制御が厚膜と薄膜で等しい場合、厚膜の方がより長期間
防曇性を持続させることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)支持フィルムの表面に、ポリマーと親水性モノマ
ーとを含有し、電子線照射により架橋した厚さ30μm
以上の親水性膜が形成されていることを特徴とする防曇
性シート。(2)請求項1に記載の防曇性シートにおい
て、前記親水性膜がポリマーと親水性モノマーと架橋性
モノマーとからなり、電子線照射により架橋したもので
あることを特徴とする防曇性シート。 (3)支持フィルムの表面に、ポリマーと親水性架橋性
モノマーとを含有し、電子線照射により架橋した厚さ3
0μm以上の親水性膜が形成されていることを特徴とす
る防曇性断熱シート。 (4)請求項1乃至3のいずれかに記載の防曇性シート
において、前記親水性膜が、前記ポリマー100重量部
当り100重量部以下の界面活性剤を含有していること
を特徴とする防曇性シート。 (5)ポリマーと親水性モノマーとを含有する非溶剤型
塗布液を調製し、前記塗布液を支持フィルム上に架橋後
の厚さが30μm以上となるように塗布し、電子線照射
により架橋することを特徴とする防曇性シートの製造方
法。 (6)請求項5に記載の方法において、塗布液の塗布後
その表面にフィルムを貼着した状態で電子線照射を行い
、次いで前記フィルムを剥離することを特徴とする方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63217753A JP2525651B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 防曇性シ―ト及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63217753A JP2525651B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 防曇性シ―ト及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263826A true JPH0263826A (ja) | 1990-03-05 |
| JP2525651B2 JP2525651B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=16709207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63217753A Expired - Fee Related JP2525651B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 防曇性シ―ト及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2525651B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114685838A (zh) * | 2020-12-31 | 2022-07-01 | 财团法人工业技术研究院 | 抗雾材料及其制造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152972A (en) * | 1976-06-16 | 1977-12-19 | Kansai Paint Co Ltd | Method of hydrophilization of surface of base material of hydrophobic polymer |
| JPS535275A (en) * | 1976-07-05 | 1978-01-18 | Nippon Barukaa Kougiyou Kk | Method of filling exfoliated part of fusible fluorine resin coat |
| JPS59217714A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-07 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物及び硬化方法 |
| JPS63278840A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 防曇性シ−ト |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP63217753A patent/JP2525651B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152972A (en) * | 1976-06-16 | 1977-12-19 | Kansai Paint Co Ltd | Method of hydrophilization of surface of base material of hydrophobic polymer |
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| JPS59217714A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-07 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物及び硬化方法 |
| JPS63278840A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 防曇性シ−ト |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114685838A (zh) * | 2020-12-31 | 2022-07-01 | 财团法人工业技术研究院 | 抗雾材料及其制造方法 |
| CN114685838B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-06-13 | 财团法人工业技术研究院 | 抗雾材料及其制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2525651B2 (ja) | 1996-08-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |