JPH0264913A - 磁気記録媒体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、コンピュータ等の外部記憶装置（磁気ディス
ク装置）において、磁気記憶体として用いられる磁気デ
ィスク等に使用される高密度記録用の磁気記録媒体及び
その製造法に関するもので［従来の技術］ 従来、コンピュータ等の記憶媒体としては磁性粉を塗Ｉ
’ｉｉ　したテープ、円板状の磁気ディスクなどが用い
られている。このうち、ランダムアクセスが可能なこと
から円板状の磁気ディスクが広く用いられており、基板
にアルミ合金等を用いた磁気ディスク、いわゆるハード
ディスクが使用されるようになってきている。この磁気
ディスクは、−般に、厚さ２■程度の堅い基板上に、厚
さ１μｍ程度の磁気記録層を形成することにより構成さ
れる。磁気記録層としては、γ−Ｆ８２０３などの磁性
粉をバインダと混合し、これをディスク基板上にスピン
コード等の手法で塗布したものが用いられてきたが、こ
の磁気記録層は飽和磁化の大きさに限界が有り、高密度
記録磁性媒体としてはほぼ限界に達してきているため、
最近では、より大きい飽和磁化を有するＣｏ５Ｃｏ−Ｎ
１　ｓ　Ｃｏ−ＰＬ　％　Ｃｏ−Ｒｅ　。

５ｓ−Ｇｏ等の金属あるいは、合金を真空蒸着、スパツ
タリング等の真空成膜技術により、ディスク基板上ある
いは、基板上に形成された下地層上に形成し、これを磁
気記録層とした磁気ディスクが開発されている。しかし
ながら、以上のような合金薄膜などの磁気記録媒体はそ
の磁気特性が、スパッタリング等の真空成膜技術により
基板上に成膜する際の成膜直前の到達真空度（バックグ
ランドプレッシャー）に大きく依存するために、真空槽
の到達真空度を良くコントロールしないと安定した高い
磁気特性を有する磁気ディスクを得るのが困難であると
いう問題がある。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体
及び成膜する際の成膜直前の到達真空度に依存しない安
定した磁気特性を有する磁気記録媒体の製造法を提供す
ることにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記問題点を解決するために鋭意検討を行
なった結果、下地クロム層を有する磁気記録媒体の下地
クロム層に酸素を導入することにより、磁気記録媒体の
磁気特性、特に保磁力が向上することを見出だし本発明
を完成するに至った。

すなわち本発明は、基板、下地クロム層、磁気記録層及
び保護層を含んでなる磁気記録媒体において、下地クロ
ム層が酸素を含むことを特徴とする磁気記録媒体及びそ
の製造法である。以下、図面に基づき本発明の詳細な説
明する。

第１図は、本発明の磁気記録媒体を用いて作製した磁気
ディスクの一実施例の部分断面図である。

基板１は、例えば旧−Ｐメツキ膜、陽極酸化アルマイト
膜等を被覆したアルミ合金、窒化硅素焼結体、酸化アル
ミ焼結体等のセラミックス、ステンレス、チタン合金等
の金属、ガラス、プラスチックなどから構成される。下
地クロム層２は、基板１上に形成されたクロム膜であり
、本発明の特徴は該層が酸素を含むことにある。この層
に含まれる酸素の量は、０．０１〜５原子パーセントで
あることが好ましく、更に好ましくは０．Ｏ１〜３原子
パーセントである。酸素の量が５原子パーセントを越え
る場合、得られる磁気記録媒体の磁気特性が低下するお
それがある。また、下地クロム層２の厚みは５００〜５
０００人であることが好ましく、更に好ましくは２００
０〜４０００人である。

下地クロム層２の上の磁気記録層３は、下地クロム層と
の密着性の点から、Ｃｒｓ　Ｐｔ５Ｔａｓ　　Ｗｓ　８
ｍ％Ｇｄ５ＲａＳＧｅｓ　　Ｖ及びＭＯから選ばれる少
なくとも一種以上の添加元素を含むコバルト系合金ある
いはコバルトニッケル系合金合金であることが好ましく
、例えばスパッタリング法によって１００〜２０００人
の厚みで形成される。保護層５は、厚さ５０〜４００程
度の炭素、Ａｌ　　Ｏ、Ｚｒ０２等の無機物質の膜から
なり、スパッタリング法などにより形成される。更に、
必要に応じて厚さ５０〜２００人程度のクロム、チタン
、バナジウムなどの非磁性金属薄膜からなる表面層４を
、スパッタリング法などにより磁気記録層３と保護層５
の間に設けてもよい。磁気記録媒体の使用に当たっては
、必要に応じて上記保護層上に液体潤滑剤、または固体
潤滑剤、あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布して潤滑層
６を形成して使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の下地クロム層２を、アルゴンガ
スと酸素ガスとの混合ガスをスパッタガスとして用い、
スパッタリング法により成膜することにより、成膜する
際の成膜直前の到達真空度に依存しない安定した磁気特
性を有する磁気記録媒体を得ることができる。このとき
用いる混合ガス中の酸素ガスの割合はアルゴンガスに対
して１〜３０パーセント（流量比）が好ましく、より好
ましくは１〜１０パーセントである。酸素ガスの割合が
３０パーセントを越える場合、得られる磁気記録媒体の
磁気特性が低下するおそれがある。

［実施例］ 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ 第１図に示す磁気記録ディスクを製造した。基板１とし
て、平均表面粗さ約１００人に研磨した旧−Ｐメツキ膜
被覆のアルミニウム合金を用い、この基板１の上に下地
クロム層２を、ＤＣスパッタリング法により厚さ３００
０人となるように形成した。下地クロム層２の成膜直前
の到達真空度は、約６　Ｘ　１０　”−７ｔｏｒｒであ
った。またこのときのスパッタリングガスとして、アル
ゴンガスと酸素ガスの混合ガス（流量比１００：１）を
用い、真空槽内に導入し全圧力を５１ｔｏｒｒとした。

次に、得られた下地クロム層２膜の上に、ＤＣスパッタ
リング法によりニッケルを２０原子パーセント含むコバ
ルト合金薄膜を７００人磁気記録層３として形成し、該
磁気記録層の上に表面層４としてクロム層をＤＣスパッ
タリング法により厚さ１００人形成し、更にこの上に保
護層５として炭素膜をＤＣスパッタリング法により３０
０人形成し磁気記録ディスクを作製した。得られた磁気
記録ディスクの磁気特性を評価比較した。この結果を表
１に示す。

実施例２〜４ 下地クロム層２のスパッタリングの際に用いる混合ガス
の流量比を表１のとおりにかえた以外は実施例１と同様
の方法で磁気記録ディスクを得た。

得られた磁気記録ディスクの磁気特性を表１に示す。

比較例１ 下地クロム層２のスパッタリングの際に用いるスパッタ
ガスに酸素を混入しなかった以外は実施例１と同様の方
法で磁気記録ディスクを得た。得られた磁気記録ディス
クの磁気特性を表１に示す。

実施例５ 実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気ディスクを作製し
た。ただし、本実施例の場合、下地クロム層２成膜時の
アルゴンガスと酸素ガスの流量比を１００：５と一定に
し、下地クロム層２成膜直前の到達真空度を各々変化さ
せた。このとき得られた磁気記録ディスクの各磁気特性
を表２に示す。

比較例２ 実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気ディスクを作製し
た。ただし、本比較例の場合スパッタガスとしてアルゴ
ンガスのみを使用し、下地クロム層２成膜直前の到達真
空度を各々変化させた。このとき得られた磁気記録ディ
スクの各磁気特性を表３に示す。

表２１表３より、本発明の方法によれば、得られる磁気
記録媒体の磁気特性は、下地クロム層成膜直前の到達真
空度の変動に左右されず、安定していることがわかる。

５・・・保護層 ６・・・潤滑層 ［発明の効果］ 以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒体は磁気特性に
優れるものであり、更に、本発明の下地クロム層の成膜
時にアルゴンガスと共に酸素ガスを尋人する磁気記録媒
体の製造法によれば、下地クロム層の成膜直前の到達真
空度変動に対しても安定した高い磁気特性を有する磁気
記録媒体が得られるので、その生産性は向上する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板、下地クロム層、磁気記録層及び保護層を含
   んでなる磁気記録媒体において、下地クロム層が酸素を
   含むことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）下地クロム層を、アルゴンガスと酸素ガスとの混
   合ガスをスパッタガスとして用い、スパッタリング法に
   より成膜することを特徴とする特許請求の範囲１項に記
   載の磁気記録媒体の製造法。