JPH0265876A - キャビティ型ハイパーサーミア装置 - Google Patents

キャビティ型ハイパーサーミア装置

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JPH0265876A
JPH0265876A JP21686188A JP21686188A JPH0265876A JP H0265876 A JPH0265876 A JP H0265876A JP 21686188 A JP21686188 A JP 21686188A JP 21686188 A JP21686188 A JP 21686188A JP H0265876 A JPH0265876 A JP H0265876A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electric field
high frequency
cavity resonator
cavity
feeding point
Prior art date
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Pending
Application number
JP21686188A
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English (en)
Inventor
Shiro Oikawa
四郎 及川
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A、産業上の利用分野 この発明は、癌組織の温熱治療に用いられるキャビティ
型ハイパーサーミア装置に関する。
B、従来技術 従来考えられていたキャビティ型ハイパーサーミア装置
においては、空洞共振器内に患者を挿入した状態で、励
振部で発生した高周波電力を1つの給電点を介して空洞
共振器に供給することにより、空洞共振器内ひいては患
者の体内に電界および磁界を形成し、温熱治療に関与す
る数十ないし数百MHzの高周波電界によって癌組織を
加温し死滅させるものである。
C1発明が解決しようとする課題 加/lI領域内では誘電率および導電率の分布が複雑で
あるため、電界パターンが複雑なものとなり、その結果
、発熱パターンも複雑なものとなる。すなわち、患者体
内において、電界強度が非常に強い部位や非常に弱い部
位やそれらの中間の強度の部位がまちまちに生じ、加温
領域における加/I!!温度が著しく不均一なものとな
り、電界強度の強い部位では過剰な温度上昇をもたらす
ことになる。
従来のキャビティ型ハイパーサーミア装置においては、
給電点で単一であったため、空洞共振器内における印加
電界方向が常に一定となり、これに伴って発熱パターン
も加温中(通常、30分以上)、同一のパターンが続く
ことになり、電界強度の強い部位では患者に苦痛を与え
るいわゆるホントスポットの現象が発生ずるという問題
があった。
そして、ホントスポットが生じると1、患者を苦痛から
解放するために、温熱治療を中断する必要が生し、治療
効果を低下させてしまうという問題もあった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、均一加温の達成と、ホットスポット現象の防止と
を図ることを目的とする。
01課題を解決するための手段 この発明は、このような目的を達成するために、次のよ
うな構成をとる。
すなわち、この発明のキャビティ型ハイパーサーミア装
置は、空洞共振器と、この空洞共振器に互いに位置を異
にする状態で設けられた複数の給電点と、各給電点に対
して間接給電点間の開き角度と同じ角度だけ位相のずれ
た高周波電力を供給する励振部とを備えたことを特徴と
するものである。
80作用 この発明の構成による作用は、次のとおりである。
すなわち、各給電点から供給される高周波電力の位相が
ずれているため、各給電点によって空洞共振器内に形成
される高周波電界の合成電界が時間の経過とともに回転
する。
F、実施例 以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
爪土尖施班(円偏光型) 第1図はキャビティ型ハイパーサーミア装置の概略構成
図である。
この図に示すように、患者Mを挿入するための開口部l
を前後に形成した円筒状の空洞共振器2に、第1.第2
の2つの給電点3A、3Bが、空洞共振器2の軸心まわ
りで90°隔てた状態に設けられている。
再給電点3A、3Bに対する励振部4が、次のように構
成されている。すなわち、数十ないし数百M Hzの高
周波発生器5に高周波増幅器6が接続され、高周波増幅
器6に高周波分配器7が接続され、高周波分配器7から
導出された給電用の第1゜第2の同軸ケーブル8A、8
Bのそれぞれが前記第1.第2の給電点3A、3Bに接
続されている。
そして、第2の同軸ケーブル8Bには、90″移相器9
が介挿されている。
なお、lOはへンド駆動装置、11はベンド駆動装置l
Oによって駆動され空洞共振器2の開口部1に対して出
退する患者へンドである。
次に、この第1実施例の動作を、第2図の高周波電界波
形図および第3図の合成電界分布の変化状態説明図に基
づいて説明する。
高周波発生器5から出力された高周波電力は、高周波増
幅器6によって増幅され、高周波分配器7によって第1
5第2の同軸ケーブル8A、8Bに分配される。
そして、第1の同軸ケーブル8Aを介して第1の給電点
3Aから空洞共振器2に対し、第2図に示すような高周
波電界EAが印加され、第2の同軸ケーブル8Bおよび
90°移相器9を介して第2の給電点3Bから空洞共振
器2に対し、高周波電界E、が高周波電界EAよりも9
0°位相のずれた状態で印加される。
時刻L1においては、第1の給電点3Aからの高周波電
界EAはゼロ、第2の給電点3Bからの高周波電界E、
はマイナス側の最大値であるから、空洞共振器2内に形
成される高周波電界EA、E。
の合成電界E (t+ )は、第3図の(A)に示すよ
うに左向きとなる。
時刻t2においては、第1の給電点3Aからの高周波電
界EAはプラス側に増加し、第2の給電点3Bからの高
周波電界EIlはマイナス側の最大値から少し増加する
ので、合成電界E (t2 )は、第3図の(B)に示
すように左斜め下向きとなる。
時刻L1からt2までの期間については図示していない
が、高周波電界EA、ERがともに変化するので、合成
電界E(L)は、E D+ )からE (tz )まで
の間のあらゆる方向に向くことになる。すなわち、合成
電界E(t)は、反時計方向に回転する。
時刻13+こおいては、高周波増幅器えがプラス側の最
大値となり、高周波電界E、がゼロとなるので、合成電
界E (t3)は、第3図の(C)に示すように下向き
となる。時刻L4では、高周波電界E、が最大値から少
し減少し、高周波電界E、は増加するので、合成電界E
 (t4)は、第3図の(D)のように右斜め下向きと
なる。時刻t、では、高周波電界EAがゼロ、高周波電
界E。
がプラスの最大値となるので、合成電界E (ts )
は、第3図の(E)のように右向きとなる。
さらに、時刻L6の合成電界E (t6)は同図(F)
のように右斜め上向きに、時刻t7の合成電界E (t
t )は同図(G)のように上向きに、時刻t、の合成
電界E (ts )は同図(H)のように左斜め上向き
に、時刻1.から1周ル1が経過した時刻L9の合成電
界E (tq )は同図(I)のように、時刻L1での
合成電界E(t、)と同じ左向きとなる。
以上のように、第1の給電点3Aからの高周波電界EA
と第2の給電点3Bからの高周波電界E。
との合成電界E(t)は、時間の経過とともに反時計方
向に回転し、その回転の周期は、高周波電界EA、E、
の周期と同じである。
合成電界E(t)が回転するので、空洞共振器2内の加
温領域での誘電率、導電率の?1雑な分布にもかかわら
ず、各部位における発熱パターンを均質化することがで
き、ホントスポット現象を無くして患者を苦痛から解放
し、ひいては、/l!1熱冶療を中断することなく効率
的に遂行することができる。
第1災施炭(振幅変調型) 第4図はキャビティ型ハイパーサーミア装置の概略構成
図である。
この実施例の場合の励振部4′は、次のように構成され
ている。すなわち、高周波発生器5に高周波増幅器6が
接続され、高周波増幅器6に高周波分配器7が接続され
、高周波分配器7に第1゜第2の振幅変調器12A、1
2Bが接続され、第1第2の振幅変調器12A、12B
がそれぞれ第1.第2の同軸ケーブル8A、8Bを介し
て、空洞共振器2に接続の各給電点3A、3Bに接続さ
れている。そして、正弦波発生器13から第1の振幅変
調器12Aに対してsinωもの変調信号Slが出力さ
れ、第2の振幅変調器12Bに対してsin (ωLπ
/2)の変調信号S2が出力されるように構成されてい
る。ω−2πrとすると、周波数rは、I Hzないし
IKHz程度である。
第1の給電点3八と第2の給電点3Bとが空洞共振器2
に対してその軸心まわりで90″隔てた状態に配置され
ている点は、第1実施例と同じである。
この第2実施例の場合、空洞共振器2に対する第1の給
電点3Aから印加された振幅変調された高周波電界EA
′と第2の給電点3Bから印加された振幅変調された高
周波電界E、r とは、それぞれ第5図に示すようにな
る。
高周波電界EA 5高周波電界EB’の合成電界E’ 
 (t)(図示せず〕は、第1実施例と同様に回転する
。ただし、その回転の周期は、1/fである。加えて、
順次的な回転角度ごとに合成電界E’  (t)の振幅
が増減変化するので、各部位における発熱パターンの均
質化が第1実施例よりも一層促進される。
なお、上記2つの実施例においては、第1の給電点3A
と第2の給電点3Bとを互いに90°隔てて配置したが
、再給電点3A、3Bの開き角度は任意である。開き角
度をθ°とすると、第1実施例の場合では、移相器とし
てθ°のものを用い、第2実施例の場合では、正弦波発
生器13からの変調信号として、sin ωLと、si
n (ωL−θ)を用いる。ただし、開き角度が180
°の場合は、合成電界E(t)が両高周波電界EA、E
lによって打ち消されて常にゼロまたはそれに近い状態
となるので、これは除外するものとする。
また、上記実施例では、給電点の数を2つとしたが、こ
れは、3つまたはそれ以上でもよく、隣接する給電点か
らの高周波電界の位相のずれは、両給電点の開き角度と
同じにする。例えば、第6図に示すように、4つの給電
点3A、3B、3C。
3Dを互いに90°ずつ位置をずらせて配置し、それぞ
れに位相が90°ずつずれた高周波電力を印加するよう
に構成してもよい。
また、上記実施例では、空洞共振器が円筒状であったが
、空洞共振器の形状はこれに限定する必要はなく、正方
形、六角形など任意である。
G1発明の効果 この発明によれば、次の効果が発揮される。
すなわら、空洞共振器に互いに位置を異にする複数の給
電点を設け、各給電点から互いに位相を異にする高周波
電力を供給するように構成しであるため、各給電点によ
って空洞共振器内に形成される高周波電界の合成電界を
回転させることができる。
したがって、空洞共振器内の加温領域での誘電率、導電
率の複雑な分布にもかかわらず、各部位における発熱パ
ターンを均質化することができ、ホットスポット現象を
無くしてΦ者を苦痛から解放し、ひいては、温熱治療を
中断することなく効率的に遂行することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図はこの発明の第1実施例に係り、第
1図はキャビティ型ハイパーサーミア装置の概略構成図
、第2図は各給電点による高周波電界の波形図、第3図
は合成電界の回転の様子を示す動作説明図である。 第4図および第5図は第2実施例に係り、第4図はキャ
ビティ型ハイパーサーミア装置の概略構成図、第5図は
各給電点による高周波電界の波形図である。 第6図は給電点を4つとした場合の実施例の要部の構成
説明図である。 2・・・空洞共振器 3A〜3D・・・給電点 4.4′・・・励振部 5・・・高周波発生器 6・・・高周波増幅器 7・・・高周波分配器 9・・・90°移相器 12A、12B・・・振幅変調器 I3・・・正弦波発生器 EA 、  Es 、  EA  、  CI+’・・
・高周波電界E (t)、E’  (t)・・・合成電
界第2図 t+  t2  b  t4ts  t6b  ta 
 t9(Aン 第3図 (B) (C) 輝稙雪 (G) (H)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)空洞共振器と、この空洞共振器に互いに位置を異
    にする状態で設けられた複数の給電点と、各給電点に対
    して隣接給電点間の開き角度と同じ角度だけ位相のずれ
    た高周波電力を供給する励振部とを備えたことを特徴と
    するキャビティ型ハイパーサーミア装置。
JP21686188A 1988-08-31 1988-08-31 キャビティ型ハイパーサーミア装置 Pending JPH0265876A (ja)

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JP21686188A JPH0265876A (ja) 1988-08-31 1988-08-31 キャビティ型ハイパーサーミア装置

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JP21686188A JPH0265876A (ja) 1988-08-31 1988-08-31 キャビティ型ハイパーサーミア装置

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JPH0265876A true JPH0265876A (ja) 1990-03-06

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JP21686188A Pending JPH0265876A (ja) 1988-08-31 1988-08-31 キャビティ型ハイパーサーミア装置

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JP (1) JPH0265876A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10220680A1 (de) * 2002-05-10 2003-11-27 Bertold Stadler Applikator für die Tiefenhyperthermie
JP2008525080A (ja) * 2004-12-27 2008-07-17 スタンデン・リミテッド 異なる配向の電界を用いて腫瘍またはその類似物を処理する方法

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DE10220680A1 (de) * 2002-05-10 2003-11-27 Bertold Stadler Applikator für die Tiefenhyperthermie
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