JPH026837B2 - - Google Patents
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- JPH026837B2 JPH026837B2 JP56057784A JP5778481A JPH026837B2 JP H026837 B2 JPH026837 B2 JP H026837B2 JP 56057784 A JP56057784 A JP 56057784A JP 5778481 A JP5778481 A JP 5778481A JP H026837 B2 JPH026837 B2 JP H026837B2
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- JP
- Japan
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- screen
- nickel
- electrolytic bath
- skeleton
- matrix
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26F—PERFORATING; PUNCHING; CUTTING-OUT; STAMPING-OUT; SEVERING BY MEANS OTHER THAN CUTTING
- B26F1/00—Perforating; Punching; Cutting-out; Stamping-out; Apparatus therefor
- B26F1/26—Perforating by non-mechanical means, e.g. by fluid jet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12361—All metal or with adjacent metals having aperture or cut
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- Forests & Forestry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Vehicle Step Arrangements And Article Storage (AREA)
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Description
本発明は第１電解浴中でマトリツクス上にスク
リーン骨格を形成せしめ、次いで形成されたスク
リーン骨格をマトリツクスから剥離し、該スクリ
ーン骨格を陰極として特定の光沢剤の存在下に第
２電解浴であるニツケル電解浴中で電解して電気
的にスクリーンを製造する方法に関する。 この種のスクリーン製造法は公知である（米国
特許第2322638号等）。公知の方法においては、例
えば、第１電解浴において、蜜ろうなどの剥離剤
を施されたマトリツクス上に電着により金属スク
リーン骨格を形成する。該マトリツクスの構造は
形成されるべきスクリーンの構造に対応する。該
スクリーン骨格をマトリツクスから剥離し、第２
電解浴においてニツケルを電着させる。上記方法
においては、第２電解浴は、ニツケル塩及び、必
要であれば、第１種光沢剤を含む。第１種光沢剤
は、
リーン骨格を形成せしめ、次いで形成されたスク
リーン骨格をマトリツクスから剥離し、該スクリ
ーン骨格を陰極として特定の光沢剤の存在下に第
２電解浴であるニツケル電解浴中で電解して電気
的にスクリーンを製造する方法に関する。 この種のスクリーン製造法は公知である（米国
特許第2322638号等）。公知の方法においては、例
えば、第１電解浴において、蜜ろうなどの剥離剤
を施されたマトリツクス上に電着により金属スク
リーン骨格を形成する。該マトリツクスの構造は
形成されるべきスクリーンの構造に対応する。該
スクリーン骨格をマトリツクスから剥離し、第２
電解浴においてニツケルを電着させる。上記方法
においては、第２電解浴は、ニツケル塩及び、必
要であれば、第１種光沢剤を含む。第１種光沢剤
は、
【式】基を分子中に含むものであり、
例えば、スルホン酸、一塩基性及び二塩基性スル
ホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、
スルホンイミド、スルフイン酸、スルホン等であ
る（モダーン エレクトロプレーテイング
（Modern Electroplating），2nd ed.，272
（1963））。 上記公知の方法は、スクリーン骨格におけるラ
ンド（即ち、互いに交差するリブを有するマトリ
ツクス上に形成された金属スクリーン骨格の穴と
穴との間に存在する金属部分）のまわり全体にニ
ツケルが析出して、ランドが円形の断面を有する
ようになるため、製造されるべきスクリーンの穴
の大きさを減縮し、該スクリーンの通過が妨害さ
れるという重大な欠点を有している。 本発明は、上記欠点を有しておらず、殊にスク
リーン骨格上に電着により析出するニツケル層の
成長が、スクリーン表面に対して垂直方向に優先
的に起こることを特徴とする電着によるスクリー
ンの製造法を提供することを目的とする。すなわ
ち、本発明は、スクリーン表面に対して特に垂直
方向へ起こるニツケルの析出によつて、スクリー
ン骨格の開口部即ち穴の広さが、非常にゆつくり
と減少するにとどまると共に強固なスクリーンが
形成される方法を提供することを目的とする。 上記目的は、本発明に従い、第２電解浴である
ニツケル電解浴に、
ホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、
スルホンイミド、スルフイン酸、スルホン等であ
る（モダーン エレクトロプレーテイング
（Modern Electroplating），2nd ed.，272
（1963））。 上記公知の方法は、スクリーン骨格におけるラ
ンド（即ち、互いに交差するリブを有するマトリ
ツクス上に形成された金属スクリーン骨格の穴と
穴との間に存在する金属部分）のまわり全体にニ
ツケルが析出して、ランドが円形の断面を有する
ようになるため、製造されるべきスクリーンの穴
の大きさを減縮し、該スクリーンの通過が妨害さ
れるという重大な欠点を有している。 本発明は、上記欠点を有しておらず、殊にスク
リーン骨格上に電着により析出するニツケル層の
成長が、スクリーン表面に対して垂直方向に優先
的に起こることを特徴とする電着によるスクリー
ンの製造法を提供することを目的とする。すなわ
ち、本発明は、スクリーン表面に対して特に垂直
方向へ起こるニツケルの析出によつて、スクリー
ン骨格の開口部即ち穴の広さが、非常にゆつくり
と減少するにとどまると共に強固なスクリーンが
形成される方法を提供することを目的とする。 上記目的は、本発明に従い、第２電解浴である
ニツケル電解浴に、
【式】基に属さない不
飽和結合を少くとも１個有する有機化合物から選
択される第２種光沢剤の少なくとも１種を用いる
手段を採用することにより達成され、かくしてス
クリーン骨格表面に対して垂直方向への析出層の
成長が優先的に惹起されるのである。 即ち、本発明は、下記に示すスクリーンの製造
方法を提供するものである。 「第１電解溶中でマトリツクス上に、ニツケル
が電着し得る金属スクリーン骨格を電解により形
成し、こうして形成された該金属スクリーン骨格
をマトリツクスから剥離し、これを陰極として、
光沢剤の存在下に第２電解溶であるニツケル電解
浴中で電解して、上記スクリーン骨格上にニツケ
ルを電着してなるスクリーンを得る方法におい
て、上記第２電解浴であるニツケル電解浴中に、
択される第２種光沢剤の少なくとも１種を用いる
手段を採用することにより達成され、かくしてス
クリーン骨格表面に対して垂直方向への析出層の
成長が優先的に惹起されるのである。 即ち、本発明は、下記に示すスクリーンの製造
方法を提供するものである。 「第１電解溶中でマトリツクス上に、ニツケル
が電着し得る金属スクリーン骨格を電解により形
成し、こうして形成された該金属スクリーン骨格
をマトリツクスから剥離し、これを陰極として、
光沢剤の存在下に第２電解溶であるニツケル電解
浴中で電解して、上記スクリーン骨格上にニツケ
ルを電着してなるスクリーンを得る方法におい
て、上記第２電解浴であるニツケル電解浴中に、
【式】基に属さない不飽和結合を少なくと
も１個有する有機化合物から選択される第２光沢
剤の少なくとも１種を添加して、金属スクリーン
骨格表面と垂直な方向へのニツケル析出層の成長
を優先的に惹起することを特徴とするニツケル電
着スクリーンの製造方法。」 上記の第２種光択剤は、所謂均展剤（levelling
agent）と呼ばれるものであり、通常金属メツキ
被膜に対してレベリング作用を与えるためにのみ
添加されるものである。ところが、該光沢剤を使
用することにより、マトリツクス上に特に強固な
スクリーン骨格を形成することができ、第２電解
浴たるニツケル電解浴において、スクリーン骨格
表面に対して垂直方向に優先的にニツケル層を析
出し得たのである。 本発明において、前記第２電解浴であるニツケ
ル電解浴としては、公知のニツケル浴に上記の第
２種光沢剤を含有させたものを使用する。 本発明方法において用いる第２種光沢剤として
は、
剤の少なくとも１種を添加して、金属スクリーン
骨格表面と垂直な方向へのニツケル析出層の成長
を優先的に惹起することを特徴とするニツケル電
着スクリーンの製造方法。」 上記の第２種光択剤は、所謂均展剤（levelling
agent）と呼ばれるものであり、通常金属メツキ
被膜に対してレベリング作用を与えるためにのみ
添加されるものである。ところが、該光沢剤を使
用することにより、マトリツクス上に特に強固な
スクリーン骨格を形成することができ、第２電解
浴たるニツケル電解浴において、スクリーン骨格
表面に対して垂直方向に優先的にニツケル層を析
出し得たのである。 本発明において、前記第２電解浴であるニツケ
ル電解浴としては、公知のニツケル浴に上記の第
２種光沢剤を含有させたものを使用する。 本発明方法において用いる第２種光沢剤として
は、
【式】基に属さない不飽和結合を少な
とも１個有する有機化合物であれば、特に制限さ
れず、通常のものを用いることができ、例えばブ
チンジオール、エチレンシアノヒドリン、３―ブ
チン２―オール、２―ブチレン―１，４―ジオー
ル、２―ブチレン―２―オール、プロパルギルア
ルコール、アリルアルコール、３―ヘキシン―
２，５―ジオール、シンナミルアルコール、アリ
ルアミン、ベンズアルデヒドシアノヒドリン、シ
アノグアニジン、プロピオニトリル等が挙げられ
る（前記モダーン エレクトロプレーテイング、
273〜275頁、ジエイ・ケー・デニス アンド テ
イー・イー・サツチ（J.K.Dennis and T.E.
Such）ニツケル アンド クロミウム プレー
テイング（Nickel and Chromium plating）、バ
ターワース（Butterworth）、1972、92頁〜97
頁）。 上記のうち、特に好ましい第２種光沢剤として
は、ブチンジオール及びエチレンシアノヒドリン
を例示できる。これらの各化合物を用いる場合、
スクリーン骨格のランド上に該スクリーン骨格に
対して垂直方向の最適な析出層の成長が起る。 第１電解浴としては、ニツケルが電着し得る金
属スクリーン骨格をマトリツクス上に形成できる
ものであれば、任意のものが使用できる。即ち、
第１電解浴は、これを用いて形成される金属スク
リーン骨格上に、第２電解浴であるニツケル電解
浴によりニツケルを電着することができるもので
あればよく従来公知のものが使用できる。例え
ば、NiSO4・6H2O 250〜300ｇ／、NiCl2・
6H2O 25〜35ｇ／及びH3BO3 30〜40ｇ／を
含有するニツケルめつき浴、CuSO4・5H2O 250
ｇ／、H2SO4 50ｇ／、チオウレア ５mg／
及びナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩５
ｇ／を含有する銅めつき浴、FeSO4・7H2O
250ｇ／及び（NH4）2SO4120ｇ／を含有する
鉄めつき浴等を用いることができる。 本発明方法の好ましい実施態様においては、第
１電解浴中で円筒状マトリツクス上にスクリーン
骨格を形成し、該マトリツクスから該スクリーン
骨格を剥離し、次いで該スクリーン骨格を第２電
解浴であるニツケル電解浴中で陰極として電解す
ることにより、円筒状スクリーンが製造される。 上記タイプの円筒状スクリーンの製造に当つて
は、マトリツクスは好ましくは剥離剤としての蜜
ろうを含んでいる。 以下添付図面に基づいて、本発明の実施態様を
説明する。 第１図は、マトリツクスからスクリーン骨格を
剥離する態様を示す概略図である。 第２図は、剥離されたスクリーン骨格の横断面
図である。 第３図は、本発明に従い、第２種光沢剤の存在
下にスクリーン骨格を電解することによつてスク
リーン骨格から得られたスクリーンの断面図であ
る。 第４図、本発明に従い、第２種光沢剤の存在下
にマトリツクス上に形成されたスクリーンの横断
面図である。 第５図は、ニツケル塩及び必要に応じて第１種
光沢剤を含むが、本発明に従う第２種光沢剤は含
まない浴中で電解して得られるスクリーンの断面
図である。 第１図においては、導電性物質、例えばニツケ
ル板から成るマトリツクス１が示されている。該
板はエツチングにより形成されたくぼみ８を有し
ており、該くぼみはリブ２及び３により分離され
ている。また該くぼみ８には誘電性物質例えばア
スフアルト物質もしくはビチユーメン物質４が充
填される。 分離リブ乃至縞状リブ２及び３には、形成され
たスクリーン骨格のマトリツクスからの剥離を容
易にするために、予め蜜ろうの層５が設けられ
る。 カソードとしてマトリツクス１と共に適当なア
ノード及び電源を電解浴に適用すると、上記リブ
２及び３上に析出層が形成され、こうしてランド
１０が形成される。 従つて、上記により得られるスクリーン骨格
は、相互に交差するランド６及び７からなる（第
２図参照）。 もしも、スクリーン骨格９が形成された板１
を、引き続き、第１種光沢剤、例えばアルキルナ
フタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸ジ
フエニルスルホネート等の化合物の形態の光沢剤
及びアセチレンアルコール（ブチンジオール等、
本発明において用いる化合物）を含むニツケル電
解浴に入れたならば、最終的にスクリーンは得ら
れるが、そのランドは、スクリーン表面方向に優
先的に成長しており、スクリーンの開口乃至穴の
寸法は減少している。 形成されたスクリーン骨格がまだ非常に薄い場
合、これをマトリツクスから剥離した後に、アセ
チレンアルコールの存在下に、カソードとして電
解浴中に懸垂すると、ランド上の析出層形成が、
スクリーン骨格表面に対して垂直方向に優先的に
起こるといる驚くべき効果が認められる（第３図
及び第４図参照）。 第２種光沢剤として公知の各種の有機不飽和化
合物を用いても、上記とほぼ同様の結果が観察さ
れる。 以下に実施例を挙げ、本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 １ 所望のスクリーンパターン及び、剥離剤として
の蜜ろうを施したニツケルプレート１上に、電解
によりスクリーン骨格を析出させた。この時、第
１電解浴として、NiSO4・6H2O 250〜300ｇ／
、NiCl2・6H2O 25〜35ｇ／及びH3BO3 30
〜40ｇ／を含有するニツケルめつき浴（PH3.5
〜4.5、浴温度55〜65℃）を用いた。ランド厚さ
が30ミクロンとなつた時、スクリーン骨格をニツ
ケル板から剥離した。 こうして得られた金属ニツケルのスクリーン骨
格を引き続き、第２電解浴、即ち、NiSO4・
6H2O 250〜300ｇ／、NiCl2・6H2O 25〜35
ｇ／、H3BO3 30〜40ｇ／及びエチレンシア
ノヒドリン 80mg／を含有する電解ニツケル浴
（PH3.5〜4.5、浴温度55〜65℃）中にカソードと
して懸垂して、ニツケルを電着させた。 上記により得られたスクリーンは、非常に優れ
た大きい開口部を有し、その寸法は上記スクリー
ン骨格に存在する開口部のそれと同じであるか又
は僅かに小さいのみである。 上記と同様に、エチレンシアノヒドリンを含有
するニツケル浴中に、前記金属骨格を成長させた
プレートを浸し、スクリーンを得た。得られたス
クリーンの厚さは前記した第１のスクリーンのそ
れと同じであつたが、この第２のスクリーンの開
口は、該スクリーンの表面方向への優先的なニツ
ケル析出により、小さくなつた。 実施例 ２ 実施例１においてマトリツクスとして用いたプ
レートをクロム表面を有する円筒に代えて、同様
の操作を行なつた。円筒状スクリーン骨格は、そ
のランド厚さが30ミクロンとなつた時に、取り外
した。 以下実施例１と同様にして、非常に大きな開口
の円筒状スクリーンを得た。その開口寸法は、上
記スクリーン骨格のそれと同じであるか又は僅か
に小さいだけであつた。
れず、通常のものを用いることができ、例えばブ
チンジオール、エチレンシアノヒドリン、３―ブ
チン２―オール、２―ブチレン―１，４―ジオー
ル、２―ブチレン―２―オール、プロパルギルア
ルコール、アリルアルコール、３―ヘキシン―
２，５―ジオール、シンナミルアルコール、アリ
ルアミン、ベンズアルデヒドシアノヒドリン、シ
アノグアニジン、プロピオニトリル等が挙げられ
る（前記モダーン エレクトロプレーテイング、
273〜275頁、ジエイ・ケー・デニス アンド テ
イー・イー・サツチ（J.K.Dennis and T.E.
Such）ニツケル アンド クロミウム プレー
テイング（Nickel and Chromium plating）、バ
ターワース（Butterworth）、1972、92頁〜97
頁）。 上記のうち、特に好ましい第２種光沢剤として
は、ブチンジオール及びエチレンシアノヒドリン
を例示できる。これらの各化合物を用いる場合、
スクリーン骨格のランド上に該スクリーン骨格に
対して垂直方向の最適な析出層の成長が起る。 第１電解浴としては、ニツケルが電着し得る金
属スクリーン骨格をマトリツクス上に形成できる
ものであれば、任意のものが使用できる。即ち、
第１電解浴は、これを用いて形成される金属スク
リーン骨格上に、第２電解浴であるニツケル電解
浴によりニツケルを電着することができるもので
あればよく従来公知のものが使用できる。例え
ば、NiSO4・6H2O 250〜300ｇ／、NiCl2・
6H2O 25〜35ｇ／及びH3BO3 30〜40ｇ／を
含有するニツケルめつき浴、CuSO4・5H2O 250
ｇ／、H2SO4 50ｇ／、チオウレア ５mg／
及びナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩５
ｇ／を含有する銅めつき浴、FeSO4・7H2O
250ｇ／及び（NH4）2SO4120ｇ／を含有する
鉄めつき浴等を用いることができる。 本発明方法の好ましい実施態様においては、第
１電解浴中で円筒状マトリツクス上にスクリーン
骨格を形成し、該マトリツクスから該スクリーン
骨格を剥離し、次いで該スクリーン骨格を第２電
解浴であるニツケル電解浴中で陰極として電解す
ることにより、円筒状スクリーンが製造される。 上記タイプの円筒状スクリーンの製造に当つて
は、マトリツクスは好ましくは剥離剤としての蜜
ろうを含んでいる。 以下添付図面に基づいて、本発明の実施態様を
説明する。 第１図は、マトリツクスからスクリーン骨格を
剥離する態様を示す概略図である。 第２図は、剥離されたスクリーン骨格の横断面
図である。 第３図は、本発明に従い、第２種光沢剤の存在
下にスクリーン骨格を電解することによつてスク
リーン骨格から得られたスクリーンの断面図であ
る。 第４図、本発明に従い、第２種光沢剤の存在下
にマトリツクス上に形成されたスクリーンの横断
面図である。 第５図は、ニツケル塩及び必要に応じて第１種
光沢剤を含むが、本発明に従う第２種光沢剤は含
まない浴中で電解して得られるスクリーンの断面
図である。 第１図においては、導電性物質、例えばニツケ
ル板から成るマトリツクス１が示されている。該
板はエツチングにより形成されたくぼみ８を有し
ており、該くぼみはリブ２及び３により分離され
ている。また該くぼみ８には誘電性物質例えばア
スフアルト物質もしくはビチユーメン物質４が充
填される。 分離リブ乃至縞状リブ２及び３には、形成され
たスクリーン骨格のマトリツクスからの剥離を容
易にするために、予め蜜ろうの層５が設けられ
る。 カソードとしてマトリツクス１と共に適当なア
ノード及び電源を電解浴に適用すると、上記リブ
２及び３上に析出層が形成され、こうしてランド
１０が形成される。 従つて、上記により得られるスクリーン骨格
は、相互に交差するランド６及び７からなる（第
２図参照）。 もしも、スクリーン骨格９が形成された板１
を、引き続き、第１種光沢剤、例えばアルキルナ
フタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸ジ
フエニルスルホネート等の化合物の形態の光沢剤
及びアセチレンアルコール（ブチンジオール等、
本発明において用いる化合物）を含むニツケル電
解浴に入れたならば、最終的にスクリーンは得ら
れるが、そのランドは、スクリーン表面方向に優
先的に成長しており、スクリーンの開口乃至穴の
寸法は減少している。 形成されたスクリーン骨格がまだ非常に薄い場
合、これをマトリツクスから剥離した後に、アセ
チレンアルコールの存在下に、カソードとして電
解浴中に懸垂すると、ランド上の析出層形成が、
スクリーン骨格表面に対して垂直方向に優先的に
起こるといる驚くべき効果が認められる（第３図
及び第４図参照）。 第２種光沢剤として公知の各種の有機不飽和化
合物を用いても、上記とほぼ同様の結果が観察さ
れる。 以下に実施例を挙げ、本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 １ 所望のスクリーンパターン及び、剥離剤として
の蜜ろうを施したニツケルプレート１上に、電解
によりスクリーン骨格を析出させた。この時、第
１電解浴として、NiSO4・6H2O 250〜300ｇ／
、NiCl2・6H2O 25〜35ｇ／及びH3BO3 30
〜40ｇ／を含有するニツケルめつき浴（PH3.5
〜4.5、浴温度55〜65℃）を用いた。ランド厚さ
が30ミクロンとなつた時、スクリーン骨格をニツ
ケル板から剥離した。 こうして得られた金属ニツケルのスクリーン骨
格を引き続き、第２電解浴、即ち、NiSO4・
6H2O 250〜300ｇ／、NiCl2・6H2O 25〜35
ｇ／、H3BO3 30〜40ｇ／及びエチレンシア
ノヒドリン 80mg／を含有する電解ニツケル浴
（PH3.5〜4.5、浴温度55〜65℃）中にカソードと
して懸垂して、ニツケルを電着させた。 上記により得られたスクリーンは、非常に優れ
た大きい開口部を有し、その寸法は上記スクリー
ン骨格に存在する開口部のそれと同じであるか又
は僅かに小さいのみである。 上記と同様に、エチレンシアノヒドリンを含有
するニツケル浴中に、前記金属骨格を成長させた
プレートを浸し、スクリーンを得た。得られたス
クリーンの厚さは前記した第１のスクリーンのそ
れと同じであつたが、この第２のスクリーンの開
口は、該スクリーンの表面方向への優先的なニツ
ケル析出により、小さくなつた。 実施例 ２ 実施例１においてマトリツクスとして用いたプ
レートをクロム表面を有する円筒に代えて、同様
の操作を行なつた。円筒状スクリーン骨格は、そ
のランド厚さが30ミクロンとなつた時に、取り外
した。 以下実施例１と同様にして、非常に大きな開口
の円筒状スクリーンを得た。その開口寸法は、上
記スクリーン骨格のそれと同じであるか又は僅か
に小さいだけであつた。
第１図は、マトリツクスからのスクリーン骨格
の剥離を示す概要図、第２図は、剥離されたスク
リーン骨格の横断面図、第３図及び第４図は、本
発明方法により得られたスクリーンの断面図、並
びに第５図は、本発明に従う化合物を用いること
なく得られたスクリーンの断面図を夫々示す。 １……マトリツクス、２……リブ、３……リ
ブ、４……誘電性物質、５……蜜ろう層、６……
ランド、７……ランド、８……くぼみ、９……ス
クリーン骨格、１０……ランド。
の剥離を示す概要図、第２図は、剥離されたスク
リーン骨格の横断面図、第３図及び第４図は、本
発明方法により得られたスクリーンの断面図、並
びに第５図は、本発明に従う化合物を用いること
なく得られたスクリーンの断面図を夫々示す。 １……マトリツクス、２……リブ、３……リ
ブ、４……誘電性物質、５……蜜ろう層、６……
ランド、７……ランド、８……くぼみ、９……ス
クリーン骨格、１０……ランド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１電解溶中でマトリツクス上に、ニツケル
が電着し得る金属スクリーン骨格を電解により形
成し、こうして形成された該金属スクリーン骨格
をマトリツクスから剥離し、これを陰極として、
光沢剤の存在下に第２電解溶であるニツケル電解
浴中で電解して、上記金属スクリーン骨格上にニ
ツケルを電着してなるスクリーンを得る方法にお
いて、上記第２電解浴であるニツケル電解浴中
に、【式】基に属さない不飽和結合を少な くとも１個有する有機化合物から選択される第２
種光沢剤の少なくとも１種を添加して、金属スク
リーン骨格表面と垂直な方向へのニツケル析出層
の成長を優先的に惹起することを特徴とするニツ
ケル電着スクリーンの製造方法。 ２ 第２種光沢剤がブチンジオールである特許請
求の範囲第１項に記載の方法。 ３ 第２種光沢剤がエチレンシアノヒドリンであ
る特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４ 第１電解浴中で円筒状マトリツクス上にスク
リーン骨格を形成し、該スクリーン骨格をマトリ
ツクスから剥離し、該スクリーン骨格を陰極とし
て第２電解浴であるニツケル電解浴中で電解する
特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
載の方法。 ５ 蜜ろう等の剥離剤の薄層を設けたマトリツク
ス上に、スクリーン骨格を形成する特許請求の範
囲第１項乃至第４項のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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