JPH0268703A - Magnetic head using soft magnetic alloy film - Google Patents
Magnetic head using soft magnetic alloy filmInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密度磁気記録に適する磁気ヘッドに関し、特
に高飽和磁束密度、低磁歪定数でかつ耐熱性に優れた特
性を有する軟磁性合金膜を用いた磁気ヘッドに関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic head suitable for high-density magnetic recording, and in particular to a soft magnetic alloy film having high saturation magnetic flux density, low magnetostriction constant, and excellent heat resistance. This invention relates to a magnetic head using a magnetic head.
磁気記録の高密度化、高性能化の進展は近年著しくVT
R用磁気ヘッドの分野では、記録密度向上のために高保
磁力テープが使用されるようになり、これに信号を十分
記録再生するために高飽和磁束密度で高性能の磁性材料
を用いた磁気ヘッドの要求が高まっている。また、計算
機ディスク用などに用いられる薄膜ヘッドにおいては、
記録の高密度化に伴って、分解能を向上するために磁極
を薄膜化する必要があり、薄い磁極先端で磁気飽和が起
こりやすく、このため高飽和磁束密度で高性能の磁性膜
を用いた薄膜ヘッドが必要になっている。さらに、近年
研究が盛んになりつつある垂直磁気記録用単磁極ヘッド
においても、記録密度向上のためには主磁極厚みを極端
に薄くする必要があるため、上述と同様に磁極先端で磁
気飽和が起こりやすく、これを解決するために高飽和磁
束密度で高性能の磁性膜を用いた垂直磁気記録用単磁極
型ヘッドが必要となっている。さらに、計算機用テープ
記憶装置等に用いられる磁気抵抗効果型磁気ヘッドにお
いても、これらに用いられるシールド用薄膜として高性
能の磁性膜が必要となっている。In recent years, advances in the density and performance of magnetic recording have been remarkable.
In the field of R magnetic heads, high coercive force tapes have been used to improve recording density, and magnetic heads using high-performance magnetic materials with high saturation magnetic flux densities are needed to record and reproduce signals sufficiently. Demand is increasing. In addition, in thin film heads used for computer disks, etc.
As recording density increases, it is necessary to make magnetic poles thinner to improve resolution, and magnetic saturation easily occurs at thin magnetic pole tips. Therefore, thin films using high-performance magnetic films with high saturation magnetic flux density are required. A head is needed. Furthermore, even in single-pole heads for perpendicular magnetic recording, which have been actively researched in recent years, it is necessary to make the main pole extremely thin in order to improve recording density, so as mentioned above, magnetic saturation occurs at the pole tip. This is likely to occur, and to solve this problem, a single-pole head for perpendicular magnetic recording using a high-performance magnetic film with high saturation magnetic flux density is required. Furthermore, in magnetoresistive magnetic heads used in computer tape storage devices and the like, high-performance magnetic films are required as shielding thin films used in these.
これらの磁気ヘッド用の磁性膜として、従来主にN i
−F e系合金膜(パーマロイ膜)が用いられてきた
が、近年高飽和磁束密度で高性能の磁性膜として非晶質
合金スパッタ膜が開発されつつある。この中でもガラス
化元素が主にZrからなる非晶質合金は、ガラス化元素
がC,B、Si、Pなどのメタロイド元素からなる非晶
質合金に比較して、熱安定性、耐食性に優れており、磁
気ヘッド用磁性膜として優れた特性を有している。Zr
系非晶質合金は具体的にはMaTbZrcの組成式で表
される。ここでMは磁気モーメントを有するC o 。Conventionally, the magnetic film for these magnetic heads has mainly been Ni
-Fe-based alloy films (permalloy films) have been used, but in recent years, amorphous alloy sputtered films have been developed as high-performance magnetic films with high saturation magnetic flux density. Among these, amorphous alloys whose vitrification element is mainly Zr have superior thermal stability and corrosion resistance compared to amorphous alloys whose vitrification elements are metalloid elements such as C, B, Si, and P. It has excellent properties as a magnetic film for magnetic heads. Zr
Specifically, the amorphous alloy is represented by the composition formula of MaTbZrc. Here M is C o with magnetic moment.
Fe、Niなどの少なくとも一種でありTはMおよびZ
r以外の金属元素である。このようなガラス化元素が主
にZrからなる非晶質元素については、特開昭55−1
38049号明細書ならびに特開昭56−84439号
明細書に述べら九でいる。これらのZr系非晶質合金の
なかでもMがCoからなるCo−Zr系非晶質合金は、
飽和磁束密度が高く、優れた磁性材料である。しかし、
この非晶質合金の磁歪定数は2〜4X10−6と比較的
大きな値を示すため、添加元素Tとして非晶質合金の磁
歪定数に負の寄与を与えるV、Nb、Ta、Cr。At least one of Fe, Ni, etc., and T is M and Z
It is a metal element other than r. Regarding such an amorphous element whose vitrification element is mainly Zr, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-1
It is described in the specification of No. 38049 and the specification of JP-A-56-84439. Among these Zr-based amorphous alloys, Co-Zr-based amorphous alloys in which M is Co are
It is an excellent magnetic material with a high saturation magnetic flux density. but,
Since the magnetostriction constant of this amorphous alloy exhibits a relatively large value of 2 to 4X10-6, the additive elements T include V, Nb, Ta, and Cr, which make a negative contribution to the magnetostriction constant of the amorphous alloy.
Mo、Wなどの元素を用いることにより磁歪定数をほぼ
零に調整してきた。The magnetostriction constant has been adjusted to approximately zero by using elements such as Mo and W.
ところが、このような非晶質合金磁性膜を磁気ヘッドに
応用する場合に以下のような問題を生じる。すなわち、
磁性膜を磁気口′路に用いた磁気ヘッドにおいては、一
般にその製造工程において加熱工程を含むことが多く、
その温度は最低でも150℃で、500℃近傍に達する
こともある。However, when such an amorphous alloy magnetic film is applied to a magnetic head, the following problems occur. That is,
Generally, in a magnetic head that uses a magnetic film as a magnetic path, a heating process is often included in the manufacturing process.
The temperature is at least 150°C and can reach around 500°C.
一般にCO系のメタル−メタル系非晶質磁性膜は、CO
の組成が多いほど飽和磁束密度は大きくなるが、結晶化
温度は低くなり熱安定性に劣る。従来磁気ヘッドに必要
とされる飽和磁束密度は約IT以下であったが、磁気記
録媒体の保磁力が大きくなるに従って、磁極磁性膜の飽
和磁束密度がIT以上必要になってきている。しかるに
、Co−Zr系のメタル−メタル系非晶質膜においては
、飽和磁束密度がIT以上の膜で、結晶化温度が600
℃を超えるものがなく、熱安定性の点で飽和磁束密度の
高い磁極磁性膜をもつ磁気ヘッドを作ることは困難であ
った。In general, CO-based metal-metal amorphous magnetic films are
The higher the composition, the higher the saturation magnetic flux density, but the lower the crystallization temperature and the lower the thermal stability. Conventionally, the saturation magnetic flux density required for a magnetic head was approximately IT or less, but as the coercive force of a magnetic recording medium increases, the saturation magnetic flux density of the pole magnetic film is required to be approximately IT or higher. However, in a Co-Zr metal-metal amorphous film, the saturation magnetic flux density is higher than IT, and the crystallization temperature is 600°C.
It has been difficult to produce a magnetic head with a pole magnetic film having a high saturation magnetic flux density in terms of thermal stability.
本発明の目的は、かかる問題を解決し、磁気ヘッド製造
時の熱処理工程において、磁気回路に用いた磁性合金の
軟磁気特性が劣化せず、飽和磁束密度が高く、優れたヘ
ッド特性を有する磁気ヘッドを得ることにある。An object of the present invention is to solve such problems, and to provide a magnetic alloy that does not deteriorate the soft magnetic properties of the magnetic alloy used in the magnetic circuit during the heat treatment process during manufacturing of the magnetic head, has a high saturation magnetic flux density, and has excellent head properties. It's all about getting the head.
上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドでは磁
性膜として、Cox(Mt−YCY)ZNWで表される
合金膜が用いられる。ここで、Mは、Nb。In order to achieve the above object, the magnetic head of the present invention uses an alloy film represented by Cox (Mt-YCY) ZNW as a magnetic film. Here, M is Nb.
Ta、Mo、V、Wの一種または二種以上でありC(炭
素)と共存し、NはZr、Hf、Tiの一種または二種
以上からなる金属である6添加元素MとC(炭素)が共
存することにより耐熱性が向上することを見出したもの
である。各元素の添加量は、以下の通りである。6 Additional elements M and C (carbon) which are one or more of Ta, Mo, V, and W and coexist with C (carbon), and N is a metal consisting of one or more of Zr, Hf, and Ti. It has been discovered that heat resistance is improved by the coexistence of The amount of each element added is as follows.
82≦X≦95゜ 0.2≦Y≦0.8゜ x+z+w= 1 o。82≦X≦95゜ 0.2≦Y≦0.8゜ x+z+w= 1 o.
(、C11位はat%、ただしYは、MとC(炭素)の
組成比)
〔作用〕
本発明は、上記第3添加金属MとC(炭素)とを共存さ
せることを特徴としており、上記第3添加金属Mと、C
(炭素)元素が結合して融点の高い化合物を形成するこ
とにより、熱安定性が増したものと考えられる。本発明
は、飽和磁束密度がIT以上の時により効果的なため、
Co組成すなわちXは
X≧82 (Z+W≦18)
であると良い、また、スパッタ法で形成したとき優れた
軟磁気特性を示すためには、
Z+W≧5(従って、X≦95)
が必要である。また、C(炭素)がCo以外の添加元素
と炭化物を形成し、熱安定性の向上を図るためには、
0.2≦Y≦0.8
が必要である。(The C11th position is at%, where Y is the composition ratio of M and C (carbon)) [Function] The present invention is characterized in that the third additive metal M and C (carbon) are made to coexist, The third additional metal M and C
It is thought that thermal stability is increased by combining the (carbon) elements to form a compound with a high melting point. The present invention is more effective when the saturation magnetic flux density is higher than IT, so
It is preferable that the Co composition, that is, be. Further, in order for C (carbon) to form a carbide with an additive element other than Co and to improve thermal stability, 0.2≦Y≦0.8 is required.
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.
実施例1
高周波2極スパツタ装置を用いて、#7059(米国コ
ーニング社商品名)ガラス基板上に(1) Co57−
xTaxZra、 (2) Coez−xCxZrs、
(3) C0117−X(Tao、aCo、a)xZr
aの組成を有する厚さ1.0μmの非晶質合金膜を作製
した。膜形成は、Arガス雰囲気中で行った。なお、以
下の結果はArとN2(窒素)の混合ガス雰囲気中で膜
形成しても同様であった。第1図に(1) Co97−
xTaxZra+(2) CaB6−xCxZrs、
(3) Co57−x(Tao、5Co、5)xZra
非晶質膜の組成Xと結晶化温度Txとの関係を示す。Example 1 Using a high-frequency two-pole sputtering device, (1) Co57-
xTaxZra, (2) Coez-xCxZrs,
(3) C0117-X(Tao, aCo, a)xZr
An amorphous alloy film having a thickness of 1.0 μm and having a composition a was produced. Film formation was performed in an Ar gas atmosphere. Note that the following results were similar even when the film was formed in a mixed gas atmosphere of Ar and N2 (nitrogen). In Figure 1 (1) Co97-
xTaxZra+(2) CaB6-xCxZrs,
(3) Co57-x(Tao, 5Co, 5)xZra
The relationship between the composition X of an amorphous film and the crystallization temperature Tx is shown.
それぞれの合金系の結晶化温度は、Xが増すほどすなわ
ちco組成が減少するほど高くなっている。The crystallization temperature of each alloy system becomes higher as X increases, that is, as the co composition decreases.
上記3つの合金系の中で一番結晶化温度が高いのはCa
B7−x(Tao、!ICo、l5)xZraであり、
CoZr系合金のなかにTaとC(炭素)が共存するこ
とで結晶化温度が高くなっていることがわかる。第2図
に、Coδ7(Tax−yCy) toZr3非晶質合
金の組成Y(TaとC(炭素)の組成比)と結晶化温度
との関係を示す。Yの組成範囲が0.2≦Y≦0.8で
結晶化温度が高くY≦0.2+’/≧0.8で結晶化温
度が急激に低くなっていることがわかる。Among the three alloy systems mentioned above, Ca has the highest crystallization temperature.
B7-x(Tao,!ICo,l5)xZra,
It can be seen that the coexistence of Ta and C (carbon) in the CoZr-based alloy increases the crystallization temperature. FIG. 2 shows the relationship between the composition Y (composition ratio of Ta and C (carbon)) and crystallization temperature of the Coδ7(Tax-yCy) to Zr3 amorphous alloy. It can be seen that when the composition range of Y is 0.2≦Y≦0.8, the crystallization temperature is high, and when Y≦0.2+'/≧0.8, the crystallization temperature is suddenly low.
表 1
表1には、Coez(Mo、sCo、5)eZrzの結
晶化温度と飽和磁束密度、保磁力を示す。ここで、Mは
、Nb、Ta、Mo、V、Wとした。なお、比較するた
めにMがAg、Au、Cr、Pt、Mn。Table 1 Table 1 shows the crystallization temperature, saturation magnetic flux density, and coercive force of Coez(Mo, sCo, 5)eZrz. Here, M was Nb, Ta, Mo, V, and W. For comparison, M is Ag, Au, Cr, Pt, or Mn.
Niとしたものも示した。MがNb、Taの場合は、結
晶化温度が500℃以上となるが、その時の飽和磁束密
度は1.3Tであった。MがM o 。Also shown is one made of Ni. When M is Nb or Ta, the crystallization temperature is 500° C. or higher, and the saturation magnetic flux density at that time is 1.3T. M is Mo.
v、Wの時は、飽和磁束密度は1.3Tであるが、結晶
化温度は450℃とMがNb、Taの場合よりも低いが
、C(炭素)を含まないときよりも結晶化温度が高くな
っていた。ところが、MがA g rAu、Cr、Pt
、Mn、Niの場合は結晶化温度が約350Cとなり、
C(炭素)を含まない場合と比較して同等か、それ以下
になっていた。第3図には、Coax(Mo、aCo、
a)sZr2非晶質合金膜の結晶化温度とMC(炭化物
)の融点との関係を示している。炭化物MCの融点が高
いほど結晶化温度が高いことがみられる。炭化物MCの
融点が3000℃以上のCo9x(Mo、sCo、a)
eZrzは、結晶化温度が500℃以上になっている。v, W, the saturation magnetic flux density is 1.3T, but the crystallization temperature is 450°C, which is lower than when M is Nb or Ta, but the crystallization temperature is lower than when C (carbon) is not included. was rising. However, M is A g rAu, Cr, Pt
, Mn, and Ni, the crystallization temperature is approximately 350C,
It was equivalent to or lower than the case where C (carbon) was not included. In FIG. 3, Coax(Mo, aCo,
a) It shows the relationship between the crystallization temperature of the sZr2 amorphous alloy film and the melting point of MC (carbide). It can be seen that the higher the melting point of carbide MC, the higher the crystallization temperature. Co9x (Mo, sCo, a) whose carbide MC has a melting point of 3000°C or higher
eZrz has a crystallization temperature of 500°C or higher.
表
表
表22表3に、Coez(MoesCo、5)sHfz
。Table 22 Table 3 shows Coez (MoesCo, 5)sHfz
.
Go9x(Mo、l5Co、5)eTiz非晶質合金膜
の結晶化温度と飽和磁束密度、保磁力を示す、Mは、N
b、Ta。Indicates the crystallization temperature, saturation magnetic flux density, and coercive force of the Go9x (Mo, l5Co, 5) eTiz amorphous alloy film, M is N
b.Ta.
Mo、V、Wとした。なお、比較のために、MがA g
HA u HCr y P t 1 M n t N
iとしたものも示した。COとMとC(炭素)以外の
添加元素がHf、Tiの場合もZrと同じような傾向を
示している。ちなみに、Hf、Tiの炭化物も融点が3
0oO℃以上を超えているために、Zrと同様な傾向を
示すものと思われる。なお、Co M Hf 。Mo, V, and W. For comparison, M is A g
HA u HCr y P t 1 M n t N
It is also shown as i. When the additive elements other than CO, M, and C (carbon) are Hf and Ti, the same tendency as with Zr is shown. By the way, the carbides of Hf and Ti also have a melting point of 3.
Since the temperature exceeds 0oO°C or higher, it seems to show the same tendency as Zr. In addition, Co M Hf.
Co M T iにC(炭素)を加えても保磁力の増大
は見られなかった。Even when C (carbon) was added to CoMTi, no increase in coercive force was observed.
実施例2
高周波2極スパツタ装置を用いて、
Coax(Tao、5Co、Is)°aZrzとCoe
zTaI!IZr+非晶質膜との多層膜を87059ガ
ラス上に形成した。なお、膜形成は、Arガス雰囲気中
で行った。Example 2 Coax (Tao, 5Co, Is) °aZrz and Coe
zTaI! A multilayer film of IZr+amorphous film was formed on 87059 glass. Note that the film formation was performed in an Ar gas atmosphere.
CoI]z(Tao、3Co、5)eZrzとCo5x
TaI5Zrs合金膜の膜厚は、いずれも1100nで
ある。この時の保磁力は0.10e 、結晶化温度は6
00’Cで、Coez(Tao、aCo、a)BZrz
単層膜の場合とほぼ同じであった。上記非晶質膜の添加
元素のTaの変わりに、Nbにしても同様の結果を得た
。このように。CoI]z(Tao, 3Co, 5)eZrz and Co5x
The thickness of each TaI5Zrs alloy film is 1100 nm. At this time, the coercive force is 0.10e, and the crystallization temperature is 6
At 00'C, Coez (Tao, aCo, a) BZrz
It was almost the same as in the case of a single layer film. Similar results were obtained when Nb was used instead of Ta as the additive element of the amorphous film. in this way.
本発明の磁性膜を多層化しても単層膜と同様の特性を示
す。Even when the magnetic film of the present invention is multilayered, it exhibits the same characteristics as a single layer film.
実施例3
Coax(Tao、sCo、5)eZrzの組成を有す
る非晶質合金膜を用いて第4図に示した垂直記録用単磁
極型ヘッドを試作した。第4図(イ)においてM n
−Znフェライト20および高融点ガラス21からなる
基板22を用意し、これに第4図(ロ)において基板2
2の表面のCoez(Tao、aCo、a)eZrzの
組成を有する膜厚0.2μmの非晶質合金膜23を高周
波スパッタリング法により作製した。さらに。Example 3 A single magnetic pole head for perpendicular recording shown in FIG. 4 was prototyped using an amorphous alloy film having a composition of Coax (Tao, sCo, 5)eZrz. In Figure 4 (a), M n
- A substrate 22 made of Zn ferrite 20 and high melting point glass 21 is prepared, and as shown in FIG.
An amorphous alloy film 23 having a thickness of 0.2 μm and having a composition of Coez(Tao, aCo, a)eZrz on the surface of No. 2 was fabricated by high-frequency sputtering. moreover.
この上に接着用のpb系ガラス膜をスパッタリングによ
り形成し、第4図(ハ)において(イ)に用いたと同様
の基板24をかぶせて400’C。A PB-based glass film for adhesion was formed on this by sputtering, and in FIG. 4(C), a substrate 24 similar to that used in FIG.
15分間加熱して、上記pb系ガラスを溶融固着し、主
磁極ブロック25を作製した。さらに第4図(ニ)にお
いてM n −Z nフェライト26と高融点ガラス2
7からなる補助のコアブロック28を用意し、この接合
面29に上記と同様の接着用pb系ガラス膜を形成して
、主磁極ブロック25を介して接合し、400℃、15
分間加熱することにより上記pbガラスを溶融固着して
接合ブロツク27を作製した。次に第4図(ニ)の二点
鎖線部分を切断して第4図(ホ)に示す垂直磁気記録用
単磁極型磁気ヘッド31を得た。さらに本実験とほぼ同
程度の飽和磁束密度を有するCo9zTaaZrs非晶
質合金膜を用いた第4図(ホ)に示したと同様の磁気ヘ
ッドを作製し、G o −Cr垂直媒体を用いて記録−
再生特性の測定を行った。The main magnetic pole block 25 was produced by heating for 15 minutes to melt and fix the PB glass. Furthermore, in FIG. 4(d), M n -Z n ferrite 26 and high melting point glass 2
An auxiliary core block 28 consisting of 7 is prepared, a PB-based glass film for adhesion similar to that described above is formed on the bonding surface 29, the bond is bonded via the main pole block 25, and the core block 28 is heated at 400° C. for 15 minutes.
The PB glass was melted and fixed by heating for a minute to produce a bonded block 27. Next, the single-pole type magnetic head 31 for perpendicular magnetic recording shown in FIG. 4(e) was obtained by cutting along the chain double-dashed line in FIG. 4(d). Furthermore, a magnetic head similar to that shown in FIG. 4(e) was fabricated using a Co9zTaaZrs amorphous alloy film having a saturation magnetic flux density approximately the same as that in this experiment, and recording was performed using a Go-Cr perpendicular medium.
The reproduction characteristics were measured.
その結果、本発明のC(炭素)を添加した非晶質合金膜
を主磁極膜を用いた磁気ヘッドは、添加しない膜を用い
た磁気ヘッドに比較し約3.5 d B高い出力を得た
。マイクロX線回折装置によって、両者のヘッドの磁極
部分を観察したところ、C(炭素)添加のヘッドでは非
晶質状態を示すブロードなピークしか見られなかったが
、C(炭素)を添加していないヘッドでは、結晶化を示
すピークが見られた。As a result, a magnetic head using the amorphous alloy film doped with C (carbon) of the present invention as a main pole film obtained approximately 3.5 dB higher output than a magnetic head using a film not added with C (carbon). Ta. When the magnetic pole parts of both heads were observed using a micro X-ray diffractometer, only broad peaks indicating an amorphous state were observed in the C (carbon)-doped head, but in the C (carbon)-doped head, only broad peaks were observed. A peak indicating crystallization was observed in the head without.
実施例4
Co9z(Tao、sCo、5)eZrzの組成を有す
る非晶質膜を用いて、第5図に示したVTR用磁気ヘッ
ドを作製した。第5図の(イ)において溝32を有する
M n −Z nフェライトからなる基板33を用意し
、この基板に第5図(ロ)において
Coax(Tao、sCo、5)eZrzの組成を有す
る厚さ約10μmの非晶質合金膜34を高周波2極スパ
ツタ法により被着した。第5図(ハ)において上記溝3
2を埋めるようにpb系の低融点ガラス35を460℃
、15分間の加熱により充填し、ついで第5図(ニ)に
おいて基板表面を研削・研摩してギャップ構成面36を
形成し、ヘッドコア半休ブロック36にギャップ材とな
るSiO2膜をスパッタリング法により被着し、第5図
(ホ)において差線窓38を有するヘッドコア半休ブロ
ック37′と前記へラドコア半休ブロック37をギャッ
プ材を介して接合し、460’C,15分間の加熱によ
り、前記低融点pbガラス35を再度溶融。Example 4 A magnetic head for a VTR shown in FIG. 5 was manufactured using an amorphous film having a composition of Co9z(Tao, sCo, 5)eZrz. In FIG. 5(a), a substrate 33 made of Mn-Zn ferrite having grooves 32 is prepared, and in FIG. An amorphous alloy film 34 having a thickness of approximately 10 μm was deposited by high frequency bipolar sputtering. In FIG. 5(c), the groove 3
Pb-based low melting point glass 35 was heated to 460°C to fill the area 2.
, filling by heating for 15 minutes, and then, as shown in FIG. 5(d), the substrate surface is ground and polished to form a gap forming surface 36, and a SiO2 film serving as a gap material is deposited on the head core semi-dead block 36 by sputtering method. Then, in FIG. 5(e), the head core half-closed block 37' having the line window 38 and the head core half-closed block 37 are joined via a gap material, and the low melting point PB is heated at 460'C for 15 minutes. Glass 35 is melted again.
固化して接合ブロック39を作製した0次に第5図(ホ
)における二点鎖線部を切断して第5図(へ)に示した
磁気ヘッド40を作製した。さらに本実施例で用いたC
oax(Tao、sCo、a)eZrzとほぼ同程度の
飽和磁束密度を有するCoezTaIIZraの組成の
非晶質合金膜を用いて第5図(へ)に示したのと同様の
磁気ヘッドを作製した。これらの磁気ヘッドの記録再生
特性を、保磁力14000eのメタルテープを用いて測
定した結果、本発明のC(炭素)を添加した非晶質合金
膜を用いた磁気ヘッドは、添加しないものに比較して、
1〜6 M Hzの周波数において約2.5 d B
高い出力を示した。マイクロX線回折装置によって、両
者のヘッドの磁極部分を観察したところ、C(炭素)添
加のヘッドでは非晶質状態を示すブロードなピークしか
見られなかったが、C(炭素)を添加していないヘッド
では、結晶化を示すピークが見られた。After solidifying and producing the bonding block 39, the magnetic head 40 shown in FIG. 5(F) was produced by cutting along the two-dot chain line in FIG. 5(E). Furthermore, C used in this example
A magnetic head similar to that shown in FIG. 5(f) was fabricated using an amorphous alloy film having a composition of CoezTaIIZra having a saturation magnetic flux density approximately the same as that of oax(Tao, sCo, a)eZrz. The recording and reproducing characteristics of these magnetic heads were measured using a metal tape with a coercive force of 14,000e, and the results showed that the magnetic head using the amorphous alloy film to which C (carbon) of the present invention was added was compared to the one without the addition. do,
Approximately 2.5 dB at frequencies from 1 to 6 MHz
It showed high output. When the magnetic pole parts of both heads were observed using a micro X-ray diffractometer, only broad peaks indicating an amorphous state were observed in the C (carbon)-doped head, but in the C (carbon)-doped head, only broad peaks were observed. A peak indicating crystallization was observed in the head without.
以上のように、本実施例においてC(炭素)を添加した
非晶質合金膜を用いることにより、磁気ヘッド製造過程
における加熱工程において、磁性膜の結晶化が起こらず
磁気特性の劣化を防ぐことにより、優れた特性を有する
磁気ヘッドが得られることが明らかとなった。As described above, by using an amorphous alloy film to which C (carbon) is added in this example, crystallization of the magnetic film does not occur during the heating process in the magnetic head manufacturing process, thereby preventing deterioration of magnetic properties. It has become clear that a magnetic head with excellent characteristics can be obtained.
本発明は、本実施例に述べた磁気ヘッドに限定されるも
のではなく、少なくとも加熱工程をへて製造される磁気
ヘッドにおいて有効である。たとえば、計算機用ディス
ク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッドにおいては、第6
図に断面を示したように、株磁性膜43はセラミックス
からなる基板44.5insまたはA n z○3など
のギャップ規制材45にはさまれて構成されており、こ
のうえに構成するポリイミド系樹脂などの充填材46と
AΩ20Bなどの保護材48にはさまれており、保護材
をスパッタリングなどにより被着する場合300℃以上
に加熱される0以上のように、薄膜磁気ヘッドにおいて
も磁気回路に用いられる磁性膜は加熱プロセスを受ける
ため、本発明のC(炭素)を添加された非晶質合金を用
いることにより、特性の優れた磁気ヘッドを得ることが
できる。磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおけるシールド膜
に関しても上記薄膜磁気ヘッドと同様であり、シールド
膜は加熱工程を受けるために、本発明のC(炭素)を添
加した非晶質合金をシールド膜を用いることにより、優
れた特性を有する磁気抵抗効果型磁気ヘッドを得ること
ができる。The present invention is not limited to the magnetic head described in this embodiment, but is effective at least to a magnetic head manufactured through a heating process. For example, in thin film magnetic heads used in computer disk drives, etc., the sixth
As shown in cross section in the figure, the magnetic film 43 is sandwiched between a gap regulating material 45 such as a substrate 44.5ins made of ceramics or ANZ○3, and a polyimide film made of It is sandwiched between a filler 46 such as resin and a protective material 48 such as AΩ20B, and when the protective material is applied by sputtering etc., it is heated to 300°C or more. Since the magnetic film used in this invention is subjected to a heating process, by using the amorphous alloy added with C (carbon) of the present invention, a magnetic head with excellent characteristics can be obtained. The shield film in the magnetoresistive magnetic head is also similar to the thin film magnetic head described above, and in order to undergo a heating process, the shield film is made of an amorphous alloy added with C (carbon) of the present invention. As a result, a magnetoresistive magnetic head having excellent characteristics can be obtained.
以上に述べたように1本発明の組成
Cox(Mt−YCY)ZNW (ただしMはNb、T
a。As described above, the composition of the present invention is Cox (Mt-YCY)ZNW (where M is Nb, T
a.
Mo、V、Wの一種または二種以上であり、NはZr、
Hf、Tiの一種または二種以上)で示される軟磁性合
金膜は、飽和磁束密度が高く、かつ磁歪定数がほぼ零の
優れた特性を有し、熱安定性が優れ、磁気ヘッド作製過
程で加熱工程を受けても結晶化せず磁気特性の劣化を生
じ難く、従ってこれらを用いた磁気ヘッドにおいて優れ
た磁気ヘッド特性が得られることが明らかである。One or more of Mo, V, and W; N is Zr;
The soft magnetic alloy film represented by one or more of Hf and Ti has excellent properties such as high saturation magnetic flux density and nearly zero magnetostriction constant, excellent thermal stability, and is suitable for use in the magnetic head manufacturing process. It is clear that even when subjected to a heating process, it does not crystallize and deterioration of magnetic properties is difficult to occur, so that excellent magnetic head properties can be obtained in a magnetic head using these materials.
第1図は(1) Co9フ−xTaxZr+s、(2)
Co57−xCxZr+y(3) Co57−x(T
ao、l5Co、5)xZrs非晶質膜の組成Xと。
結晶化温度Txとの関係を示す図、第2図は、Coa7
(Tax−yCy) toZrs非晶質合金の組成Yと
結晶化温度との関係を示す図、第3図はCox(Mz−
YCY)ZNW非晶質合金膜の結晶化温度と炭化物MC
の融点との関係を示す図、第4図は垂直磁気記録用単磁
極ヘッドの作製過程を示す説明図、第5図はVTR用磁
気ヘッドの作製過程を示す図、第6図は、計算機用ディ
スク装置に用いられる薄膜磁気ヘッドの断面を示す図で
ある。
20 、26− M n −Z nフェライト、21.
27・・・高融点ガラス、22,24,33,34・・
・基板、23.34・・・非晶質合金膜、25・・・主
磁極ブロック、28・・・補助コアブロック、29・・
・接合面、30.39・・・接合ブロック、31・・・
垂直磁気記録用単磁極型ヘッド、32・・・溝、35・
・・低融点ガラス、36・・・ギャップ構成面、37・
・・ヘッドコア半休ブロック、38・・・差線窓、40
・・・磁気ヘッド。
43・・・下部磁性層、45・・・ギャップ規制材、4
6第 1 図
第 2 図
糸且 残゛ X
粗 八゛ Y
第
図
八
化
物
め忙、ゼ、T霜(0り
竿
圀Figure 1 shows (1) Co9fu-xTaxZr+s, (2)
Co57-xCxZr+y(3) Co57-x(T
ao, 15Co, 5) Composition X of xZrs amorphous film. A diagram showing the relationship with the crystallization temperature Tx, FIG. 2 shows Coa7
(Tax-yCy) toZrs A diagram showing the relationship between the composition Y and the crystallization temperature of the amorphous alloy, Figure 3 is Cox (Mz-
YCY) Crystallization temperature and carbide MC of ZNW amorphous alloy film
Figure 4 is an explanatory diagram showing the manufacturing process of a single magnetic pole head for perpendicular magnetic recording, Figure 5 is a diagram showing the manufacturing process of a magnetic head for VTR, and Figure 6 is a diagram showing the manufacturing process of a magnetic head for computer use. 1 is a diagram showing a cross section of a thin film magnetic head used in a disk device. 20, 26-Mn-Zn ferrite, 21.
27... High melting point glass, 22, 24, 33, 34...
・Substrate, 23. 34... Amorphous alloy film, 25... Main magnetic pole block, 28... Auxiliary core block, 29...
・Joint surface, 30.39...Joint block, 31...
Single-pole head for perpendicular magnetic recording, 32...groove, 35...
...Low melting point glass, 36...Gap composition surface, 37.
・・Head core half-break block, 38 ・Different line window, 40
...Magnetic head. 43... Lower magnetic layer, 45... Gap regulating material, 4
6 Fig. 1 Fig. 2 Fig. Thread and Remaining X Coarse 8゛ Y Fig.
Claims (1)
性膜を用い、製造工程の少なくとも一部に150℃以上
の加熱工程を含む磁気ヘッドにおいて、前記磁性膜とし
て下記の組成を有する軟磁性合金膜を用いることを特徴
とした磁気ヘッド。 組成:COX(M_1_−_YC_Y)_ZN_Wただ
しMはNb,Ta,Mo,V,Wの一種または二種以上
であり、NはZr,Hf,Tiの一種または二種以上で
あり、 82≦X≦95, 0.2≦Y≦0.8, X+Z+W=100 (単位はat%、ただしYは、MとC(炭素)の組成比
) 2.特許請求の範囲第一項記載の磁気ヘッドにおいて、
前記磁性膜として下記の組成を有する軟磁性合金膜を用
いることを特徴とした磁気ヘッド。 組成:CO_X(M_1_−_YC_Y)_ZN_Wた
だし、MはNb,Taの一種または二種であり、NはZ
r,Hf,Tiの一種または二種以上であり、 82≦X≦95, 0.2≦Y≦0.8, X+Z+W=100 (単位はat%、ただしYは、MとC(炭素)との組成
比)[Claims] 1. In a magnetic head in which at least part of the magnetic circuit or magnetic shield is made of a magnetic film, and at least part of the manufacturing process includes a heating step of 150° C. or higher, a soft magnetic alloy film having the following composition is used as the magnetic film. Features a magnetic head. Composition: COX (M_1_-_YC_Y)_ZN_W where M is one or more types of Nb, Ta, Mo, V, W, N is one or more types of Zr, Hf, Ti, 82≦X≦ 95, 0.2≦Y≦0.8, X+Z+W=100 (unit: at%, where Y is the composition ratio of M and C (carbon)) 2. In the magnetic head according to claim 1,
A magnetic head characterized in that a soft magnetic alloy film having the following composition is used as the magnetic film. Composition: CO_X(M_1_-_YC_Y)_ZN_W However, M is one or both of Nb and Ta, and N is Z
One or more of r, Hf, Ti, 82≦X≦95, 0.2≦Y≦0.8, X+Z+W=100 (unit: at%, where Y is M, C (carbon) composition ratio)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21832388A JPH0268703A (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Magnetic head using soft magnetic alloy film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21832388A JPH0268703A (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Magnetic head using soft magnetic alloy film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0268703A true JPH0268703A (en) | 1990-03-08 |
Family
ID=16718049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21832388A Pending JPH0268703A (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Magnetic head using soft magnetic alloy film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0268703A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1850334A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-10-31 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP21832388A patent/JPH0268703A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1850334A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-10-31 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
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