JPH0269744A - 感光材料処理装置 - Google Patents
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- JPH0269744A JPH0269744A JP22180088A JP22180088A JPH0269744A JP H0269744 A JPH0269744 A JP H0269744A JP 22180088 A JP22180088 A JP 22180088A JP 22180088 A JP22180088 A JP 22180088A JP H0269744 A JPH0269744 A JP H0269744A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えば感光材料に湿式現像、漂白・定着のよ
うな処理を施すための感光材料処理装置の改良に関する
ものである。
うな処理を施すための感光材料処理装置の改良に関する
ものである。
〈従来の技術〉
感光材料の湿式現像は、処理槽内に満たされた処理液(
例えば現像液)中に感光材料を所定時間漬浸することに
よって行われる。
例えば現像液)中に感光材料を所定時間漬浸することに
よって行われる。
従来、感光材料を連続的に処理する感光材料処理装置1
00は、第4図に示すように、上方が開放した複数の処
理槽101.102を並設し、これらの処理槽内に設置
されている搬送ローラ109、ガイド110、および各
処理種間に設けられたクロスオーバローラ104〜10
7により、感光材料200を各処理槽101.102の
内外を所定の搬送経路108で搬送し、それぞれの処理
槽101.102において所定の処理を行うように構成
されている。
00は、第4図に示すように、上方が開放した複数の処
理槽101.102を並設し、これらの処理槽内に設置
されている搬送ローラ109、ガイド110、および各
処理種間に設けられたクロスオーバローラ104〜10
7により、感光材料200を各処理槽101.102の
内外を所定の搬送経路108で搬送し、それぞれの処理
槽101.102において所定の処理を行うように構成
されている。
このような感光材料処理装置100では、感光材料の搬
送経路108との関係で、先行の処理槽101から後続
の処理槽102へ移行する際、感光材料200は、処理
液面に対しほぼ垂直状態で引上げられ、または進入する
。
送経路108との関係で、先行の処理槽101から後続
の処理槽102へ移行する際、感光材料200は、処理
液面に対しほぼ垂直状態で引上げられ、または進入する
。
しかしながら、このような感光材料処理装置100によ
り感光材料200を連続的に現像処理する場合、処理液
の液面が開放しているため、処理液が蒸発し、または、
空気との接触により液温の低下や酸化等の変質、劣化を
生じる。
り感光材料200を連続的に現像処理する場合、処理液
の液面が開放しているため、処理液が蒸発し、または、
空気との接触により液温の低下や酸化等の変質、劣化を
生じる。
処理液の蒸発が生じると、液面付近と処理槽底部での処
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも、処理液の減少が著しくなるため、処理
液を余分に補給しなければならない。 さらに、蒸発し
た処理液が処理装置の各所に付着し、特に、搬送ローラ
やクロスオーバローラに付着、乾燥してべとつき、汚れ
の原因となるという欠点もある。
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも、処理液の減少が著しくなるため、処理
液を余分に補給しなければならない。 さらに、蒸発し
た処理液が処理装置の各所に付着し、特に、搬送ローラ
やクロスオーバローラに付着、乾燥してべとつき、汚れ
の原因となるという欠点もある。
また、処理液が変質、劣化を生じれば、現像特性に悪影
響を及ぼすことは明らかである。
響を及ぼすことは明らかである。
また、例えば処理液は適正な現像を行うために20〜6
0℃程度に保持される必要があるが、液面からの熱の放
散が著しいと、前記適正温度に保持するために多くの熱
量を必要とする。
0℃程度に保持される必要があるが、液面からの熱の放
散が著しいと、前記適正温度に保持するために多くの熱
量を必要とする。
また、上述のごとく、感光材料200の搬入および搬出
方向が処理液液面に対してほぼ垂直であるため、処理槽
101と処理槽102との設置間隔を長(しなければな
らないという欠点がある。 即ち、処理槽101、処理
槽102間のクロスオーバ部では、湾曲して反転する感
光材料200の曲率半径をある程度大きく設定する必要
性があるが、このアーチの底辺に相当する両処理槽10
1.102間の距離氾は必然的に長くなる。
方向が処理液液面に対してほぼ垂直であるため、処理槽
101と処理槽102との設置間隔を長(しなければな
らないという欠点がある。 即ち、処理槽101、処理
槽102間のクロスオーバ部では、湾曲して反転する感
光材料200の曲率半径をある程度大きく設定する必要
性があるが、このアーチの底辺に相当する両処理槽10
1.102間の距離氾は必然的に長くなる。
従って、従来の感光材料処理装置lOOでは、処理槽設
置に要するスペースが大となり、装置が大型化する。
また、クロスオーバの時間が長くなるので、全体の処理
時間が長くなるという欠点もある。
置に要するスペースが大となり、装置が大型化する。
また、クロスオーバの時間が長くなるので、全体の処理
時間が長くなるという欠点もある。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、簡
易な構造で処理液の蒸発、温度低下および変質、劣化を
防止することができる感光材料処理装置を提供すること
にある。
易な構造で処理液の蒸発、温度低下および変質、劣化を
防止することができる感光材料処理装置を提供すること
にある。
〈課題を解決するための手段〉
このような目的を達成するために、本発明者等は、次の
点に着眼し研究を行った。
点に着眼し研究を行った。
■ まず、処理槽の上方を開放型としないため、例えば
処理液液面を覆う手段として「蓋」のようなものを設置
する。
処理液液面を覆う手段として「蓋」のようなものを設置
する。
■ しかるに、処理液液面の全面を覆う蓋を設けたので
は、上記のごとく液面に対し垂直に出入する感光材料の
通過が不可能となる。
は、上記のごとく液面に対し垂直に出入する感光材料の
通過が不可能となる。
ここで、蓋に感光材料が通過するための開口。
を設けたのでは、上記目的が充分に達成されず、また、
その開口に開閉シャッタを設けた場合には、部品点数の
増大等により、構造の簡素化を図る上で困難を伴う場合
がある。
その開口に開閉シャッタを設けた場合には、部品点数の
増大等により、構造の簡素化を図る上で困難を伴う場合
がある。
■ そこで、上記「蓋」を設けるとともに、処理槽の側
壁に感光材料の搬入通路および搬出通路を設け、感光材
料が「蓋」を通過しないですむような構造とする。 即
ち、「蓋」に上記開口またはシャッタ付き開口を形成す
る必要性を排除する。
壁に感光材料の搬入通路および搬出通路を設け、感光材
料が「蓋」を通過しないですむような構造とする。 即
ち、「蓋」に上記開口またはシャッタ付き開口を形成す
る必要性を排除する。
■ ただし、連続処理においては、処理槽への処理液の
連続または適時供給を伴うが、持出し量との関係で処理
槽内の処理液量が増減するため、前記「蓋」はそれなり
の制約を受ける。
連続または適時供給を伴うが、持出し量との関係で処理
槽内の処理液量が増減するため、前記「蓋」はそれなり
の制約を受ける。
即ち、前記「蓋」が処理槽に対し固着された剛体であっ
て、処理槽の実質的容積が変化しないような構成である
と、処理液の供給過多により槽内処理液量が増加した場
合に、前記感光材料の搬入通路および搬出通路から処理
液が溢れ出て、装置の他所を汚損するか、あるいは、溢
れ出た処理液の回収手段を別途膜けなければならない。
て、処理槽の実質的容積が変化しないような構成である
と、処理液の供給過多により槽内処理液量が増加した場
合に、前記感光材料の搬入通路および搬出通路から処理
液が溢れ出て、装置の他所を汚損するか、あるいは、溢
れ出た処理液の回収手段を別途膜けなければならない。
従って、前記「蓋」は、槽内処理液量の増減を吸収し得
るもの、即ち、液量の増減に応じて変形または変位して
処理槽の実質的容積を変化せしめるようなものとする。
るもの、即ち、液量の増減に応じて変形または変位して
処理槽の実質的容積を変化せしめるようなものとする。
■ また、槽内処理液量の増減が著しい場合には、「蓋
」の変形または変位のみでは対応しきれなくなることも
あり得るため、槽内処理液量に応じて処理液供給量を制
御することが好ましい。
」の変形または変位のみでは対応しきれなくなることも
あり得るため、槽内処理液量に応じて処理液供給量を制
御することが好ましい。
その好適例として、「蓋」の変形または変位を処理液供
給量にフィードバックする方法が挙げられる。
給量にフィードバックする方法が挙げられる。
以上、0〜0項を考慮した上で本発明を完成するに至っ
た。
た。
即ち、本発明は、処理液供給手段により処理槽内へ供給
された処理液に感光材料を漬浸して処理を行う感光材料
処理装置において、前記処理槽の側壁に中空構造の感光
材料の搬入通路および搬出通路を設置し、 前記搬入通路及び搬出通路の処理槽内に位置する基端側
聞口の位置を前記処理液の液面より下方に設定し、 前記処理槽内の処理液の液量の増減に応じて変形または
変位する手段であって、該手段により処理液の開放部分
を実質的に皆無とする手段を設けたことを特徴とする感
光材料処理装置である。
された処理液に感光材料を漬浸して処理を行う感光材料
処理装置において、前記処理槽の側壁に中空構造の感光
材料の搬入通路および搬出通路を設置し、 前記搬入通路及び搬出通路の処理槽内に位置する基端側
聞口の位置を前記処理液の液面より下方に設定し、 前記処理槽内の処理液の液量の増減に応じて変形または
変位する手段であって、該手段により処理液の開放部分
を実質的に皆無とする手段を設けたことを特徴とする感
光材料処理装置である。
また、本発明は、前記感光材料処理装置において、前記
処理液供給手段は、前記処理液の供給量を前記処理槽内
の処理液の液量に応じて制御し得る処理液量制御手段を
具えた感光材料処理装置である。
処理液供給手段は、前記処理液の供給量を前記処理槽内
の処理液の液量に応じて制御し得る処理液量制御手段を
具えた感光材料処理装置である。
〈作 用〉
このような構成の本発明においては、例えば液面を覆う
ことによって処理液の開放部分を実質的に皆無にする手
段として、例えば処理槽内の処理液量の増減に応じて、
処理槽の外方および内方へ湾曲変形する可撓性薄板を設
け、あるいは、処理液液面のほぼ全面を覆うように処理
液に浮び、液面レベルとともに上下する浮蓋や流体層を
設けることにより、処理液を外気から実質的に隔離する
とともに、処理槽内の処理液量の増減に伴う液圧変動に
対しては、前記可撓性薄板の変形、または、前記浮蓋ま
たは流体層の変位により、これを吸収するように作用す
る。
ことによって処理液の開放部分を実質的に皆無にする手
段として、例えば処理槽内の処理液量の増減に応じて、
処理槽の外方および内方へ湾曲変形する可撓性薄板を設
け、あるいは、処理液液面のほぼ全面を覆うように処理
液に浮び、液面レベルとともに上下する浮蓋や流体層を
設けることにより、処理液を外気から実質的に隔離する
とともに、処理槽内の処理液量の増減に伴う液圧変動に
対しては、前記可撓性薄板の変形、または、前記浮蓋ま
たは流体層の変位により、これを吸収するように作用す
る。
〈実施例〉
以下、本発明を添付図面に示す好適実施例に基いて詳細
に説明する。
に説明する。
なお、図示の実施例に係る感光材料処理装置1は、例え
ばシート状の感光材料200の現像処理、漂白・定着処
理および水洗処理を行うために、並設された複数個の処
理槽を有するが、説明をより簡明にするために、図中で
の処理槽の記載は1個のみとする。
ばシート状の感光材料200の現像処理、漂白・定着処
理および水洗処理を行うために、並設された複数個の処
理槽を有するが、説明をより簡明にするために、図中で
の処理槽の記載は1個のみとする。
第1図において、この感光材料処理装置1に使用される
処理槽10には、例えば現像液または漂白・定着液のよ
うな処理の種類に応じた処理液2が満たされている。
処理槽10には、例えば現像液または漂白・定着液のよ
うな処理の種類に応じた処理液2が満たされている。
そして、この処理槽10の例えば対向する2つの側壁1
1.12には、前段工程(図示せず)から搬送されて来
る感光材料200をこの処理槽10内に導入するための
搬入通路13と、この処理槽10内で処理された感光材
料200を、後段工程のために準備される感光材料処理
槽(図示せず)側へ搬出するための搬出通路14とが対
向的に配設される。
1.12には、前段工程(図示せず)から搬送されて来
る感光材料200をこの処理槽10内に導入するための
搬入通路13と、この処理槽10内で処理された感光材
料200を、後段工程のために準備される感光材料処理
槽(図示せず)側へ搬出するための搬出通路14とが対
向的に配設される。
この搬入通路13及び搬出通路14は、いずれも中空構
造の感光材料通路として構成され、しかも、それぞれの
通路13.14の大気側に位置する先端側開口13a、
14aおよび処理槽内側に位置する基端側開口13b、
14bの設置高さは、前記処理液2の液面より下方であ
って、前記処理液2の液面とほぼ平行な面内に設定され
る。
造の感光材料通路として構成され、しかも、それぞれの
通路13.14の大気側に位置する先端側開口13a、
14aおよび処理槽内側に位置する基端側開口13b、
14bの設置高さは、前記処理液2の液面より下方であ
って、前記処理液2の液面とほぼ平行な面内に設定され
る。
そして、先端側開口13a及び14aの大きさ(断面積
)は、前記処理液2がその表面張力によりこれらの通路
13.14から外方に漏出しないような大きさに、それ
ぞれ設定される。
)は、前記処理液2がその表面張力によりこれらの通路
13.14から外方に漏出しないような大きさに、それ
ぞれ設定される。
なお、両方の通路13.14に処理液2の漏出を強制的
に阻止し得る例えばスキージのようなシール手段(図示
せず)を設けることも可能であり、この場合には、先端
側聞口13a、14aの大きさに対する前記制限はない
。
に阻止し得る例えばスキージのようなシール手段(図示
せず)を設けることも可能であり、この場合には、先端
側聞口13a、14aの大きさに対する前記制限はない
。
しかして、前記感光材料200は、適宜の搬送手段によ
って前段工程から導入ローラ手段15へと搬送され、こ
の導入ローラ手段15により搬入通路13内を通過して
処理槽10内に搬入され、その後、この処理槽10内の
処理液2中に漬浸して設置された槽内搬送手段16によ
り前述の搬出通路14に至る。
って前段工程から導入ローラ手段15へと搬送され、こ
の導入ローラ手段15により搬入通路13内を通過して
処理槽10内に搬入され、その後、この処理槽10内の
処理液2中に漬浸して設置された槽内搬送手段16によ
り前述の搬出通路14に至る。
この場合、前記導入ローラ手段15は、前記搬入通路1
3の大気側空間に少な(とも−組のローラ対として設置
される。
3の大気側空間に少な(とも−組のローラ対として設置
される。
前記槽内搬送手段16は、処理槽10内における感光材
料200の槽内搬送経路17を形成するために、複数の
搬送ローラ対16aと、槽内の上下位置において感光材
料200の進行方向を反転させ得るように配置された上
側及び下側の搬送方向反転手段16b、16cとを有す
る。
料200の槽内搬送経路17を形成するために、複数の
搬送ローラ対16aと、槽内の上下位置において感光材
料200の進行方向を反転させ得るように配置された上
側及び下側の搬送方向反転手段16b、16cとを有す
る。
なお、前述の各ローラ対15および16aは、例えば、
互いに外周面が圧接する2個の単位ローラから構成され
、また、両方の搬送方向反転手段16b、16cは、例
えば、感光材料200に機械的かつ物理的な害を与えな
いような曲率半径の案内ローラと、その周囲に沿って円
弧状に湾曲する反転ガイドとで構成される。
互いに外周面が圧接する2個の単位ローラから構成され
、また、両方の搬送方向反転手段16b、16cは、例
えば、感光材料200に機械的かつ物理的な害を与えな
いような曲率半径の案内ローラと、その周囲に沿って円
弧状に湾曲する反転ガイドとで構成される。
一方、この処理槽10の底壁中央付近には、後述する処
理液供給手段20により供給される新しい処理液2を受
入れるための処理液供給用開口18が形成される。
理液供給手段20により供給される新しい処理液2を受
入れるための処理液供給用開口18が形成される。
この処理液供給手段20は、適宜の処理液貯蔵タンク2
1と、このタンク21と前記処理槽10側の供給用開口
18との間を連通ずる導液管22と、この導液管22の
途中に設けられた適宜構造の送液ポンプ23とから構成
される。
1と、このタンク21と前記処理槽10側の供給用開口
18との間を連通ずる導液管22と、この導液管22の
途中に設けられた適宜構造の送液ポンプ23とから構成
される。
しかして、前記処理槽10の上方には、処理液2を大気
から遮断するための遮蔽蓋30が設置される。
から遮断するための遮蔽蓋30が設置される。
この遮蔽蓋30は、その−例を挙げると、例えば中央に
開口部31aを有する剛体製の枠体31と、この枠体3
1の前記開口部31aに展張された例えば合成ゴム(ネ
オブレンゴム、シリコーンゴム等)、天然ゴム、軟質樹
脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、サラン、ポリウレ
タン、ナイロン、テトロン等)のような伸縮可能で耐薬
品性を有する材料からなる可撓性薄板32とから構成さ
れる。
開口部31aを有する剛体製の枠体31と、この枠体3
1の前記開口部31aに展張された例えば合成ゴム(ネ
オブレンゴム、シリコーンゴム等)、天然ゴム、軟質樹
脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、サラン、ポリウレ
タン、ナイロン、テトロン等)のような伸縮可能で耐薬
品性を有する材料からなる可撓性薄板32とから構成さ
れる。
なお、開口部31aの形状は、円形、楕円形、矩形、そ
の他の多角形等いかなるものでもよ(、また、その枠体
31に対する形成位置は、中央部に限られない。 さら
に、枠体31に対して2個以上の開口部を形成してもよ
い。
の他の多角形等いかなるものでもよ(、また、その枠体
31に対する形成位置は、中央部に限られない。 さら
に、枠体31に対して2個以上の開口部を形成してもよ
い。
前記枠体31の周縁部は、処理槽10の周壁上端部に液
密的かつ固定的に取付けられ、また、可撓性薄板32の
周縁も、枠体31の開口部31aに液密的に接合される
。
密的かつ固定的に取付けられ、また、可撓性薄板32の
周縁も、枠体31の開口部31aに液密的に接合される
。
このような遮蔽蓋30により上部の遮蔽された処理槽1
0には、空隙がな(、はぼ満量の処理液2が入れられて
おり、処理槽10内の処理液量の増減に伴って内部の液
圧が変動したときには、その処理液量の増減に応じて可
撓性薄板32が上方または下方へ湾曲的に膨張し、これ
により処理槽10内の液量変動(液圧変動)を吸収する
。
0には、空隙がな(、はぼ満量の処理液2が入れられて
おり、処理槽10内の処理液量の増減に伴って内部の液
圧が変動したときには、その処理液量の増減に応じて可
撓性薄板32が上方または下方へ湾曲的に膨張し、これ
により処理槽10内の液量変動(液圧変動)を吸収する
。
このような構成としたことにより、処理液2を外気から
実質的に隔離(遮断)し、よって、処理液2の蒸発、温
度低下および変質、劣化、ならびに、処理液2への塵埃
の混入を防止することができ、しかも、処理槽10内の
液量変動に対しても処理液2が槽外に溢れ出すことな(
、対応することができる。
実質的に隔離(遮断)し、よって、処理液2の蒸発、温
度低下および変質、劣化、ならびに、処理液2への塵埃
の混入を防止することができ、しかも、処理槽10内の
液量変動に対しても処理液2が槽外に溢れ出すことな(
、対応することができる。
なお、本発明においては、処理槽10の上方に全面が剛
体の遮蔽蓋を設置し、前記と同様の開口部を処理槽10
の側壁11または12等に設け、この開口部に前述と同
様の可撓性薄板を取付ける構成とすることも可能であり
、この場合でも、前記と同様の作用、効果を奏する。
体の遮蔽蓋を設置し、前記と同様の開口部を処理槽10
の側壁11または12等に設け、この開口部に前述と同
様の可撓性薄板を取付ける構成とすることも可能であり
、この場合でも、前記と同様の作用、効果を奏する。
第1図に示すように、遮蔽蓋30の上方には、前記可撓
性薄板32の上下方向への撓み範囲りの限界を決定しつ
る変位量検出手段40が設けられる。
性薄板32の上下方向への撓み範囲りの限界を決定しつ
る変位量検出手段40が設けられる。
この変位量検出手段40は、例えば、下端が前記可撓性
薄板32の中央部分(上下変位量が最も太き(なる部分
)に接する触針子41と、この触針子41を上下方向に
摺動可能に支持する支持筒42と、この支持筒42の上
下箇所に設定された上方限界点43及び下方限界点44
と、触針子41の基準設定点(図示せず)がこれらの上
方限界点43または下方限界点44に至った際に、前記
処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポンプ作
動停止信号及びポンプ作動開始信号を出力する制御回路
45と、これらの出力信号に基いて前記送液ポンプ23
を駆動させる送液ポンプ駆動回路46とから構成される
。
薄板32の中央部分(上下変位量が最も太き(なる部分
)に接する触針子41と、この触針子41を上下方向に
摺動可能に支持する支持筒42と、この支持筒42の上
下箇所に設定された上方限界点43及び下方限界点44
と、触針子41の基準設定点(図示せず)がこれらの上
方限界点43または下方限界点44に至った際に、前記
処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポンプ作
動停止信号及びポンプ作動開始信号を出力する制御回路
45と、これらの出力信号に基いて前記送液ポンプ23
を駆動させる送液ポンプ駆動回路46とから構成される
。
そのため、前記処理槽10内の処理液2の増減に伴っ−
C前記遮蔽蓋30の可撓性薄板32が上方または下方へ
撓んだ際には、この可撓性薄板32の撓み量(変位量)
に応じて前記触針子42が上方または下方へ変位し、さ
らに、この触針子42が前記上方限界点43または下方
限界点44にまで変位したときには、前記制御回路45
がこの状態を検出し、前記送液ポンプ駆動回路46に対
して、前記送液ポンプ23の作動停止または作動開始の
制御信号を出力することになる。
C前記遮蔽蓋30の可撓性薄板32が上方または下方へ
撓んだ際には、この可撓性薄板32の撓み量(変位量)
に応じて前記触針子42が上方または下方へ変位し、さ
らに、この触針子42が前記上方限界点43または下方
限界点44にまで変位したときには、前記制御回路45
がこの状態を検出し、前記送液ポンプ駆動回路46に対
して、前記送液ポンプ23の作動停止または作動開始の
制御信号を出力することになる。
なお、開口部31aの開口面積が小さい程、処理液量の
増減に対する可撓性薄板の変形の応答性が向上し、より
微妙な処理液供給量の制御が可能となる。 また、逆に
開口部31aの開口面積が大きい程、処理液量の増減に
対する対応可能範囲が広くなる。
増減に対する可撓性薄板の変形の応答性が向上し、より
微妙な処理液供給量の制御が可能となる。 また、逆に
開口部31aの開口面積が大きい程、処理液量の増減に
対する対応可能範囲が広くなる。
さて、前記処理槽10の搬出通路14を通って処理槽1
0外へ搬送された感光材料200は、連絡ローラ手段5
0を介して後段工程に準備された別の処理槽へと送られ
る。 この連絡ローラ手段50は、例えば、互いの外周
面が圧接する2個の単位ローラから構成される。
0外へ搬送された感光材料200は、連絡ローラ手段5
0を介して後段工程に準備された別の処理槽へと送られ
る。 この連絡ローラ手段50は、例えば、互いの外周
面が圧接する2個の単位ローラから構成される。
この場合、この連絡ローラ手段50を予め複数組のロー
ラ対から構成すると共に、それぞれのローラ対に対して
、例えば ■ 前記処理槽10での処理が終了した感光材料200
に水を付与し得る機能、 ■ この付与した水と感光材料200から滲み出た残留
処理液とを吸込む機能、 O後段工程の処理槽内に後続処理用の処理液を補充する
等のために、ローラ対に例えば漂白・定着液のような処
理液を、搬送途上にある感光材料200に塗布する機能
、 等の搬送機能以外の機能を付与するように構成してもよ
い。
ラ対から構成すると共に、それぞれのローラ対に対して
、例えば ■ 前記処理槽10での処理が終了した感光材料200
に水を付与し得る機能、 ■ この付与した水と感光材料200から滲み出た残留
処理液とを吸込む機能、 O後段工程の処理槽内に後続処理用の処理液を補充する
等のために、ローラ対に例えば漂白・定着液のような処
理液を、搬送途上にある感光材料200に塗布する機能
、 等の搬送機能以外の機能を付与するように構成してもよ
い。
なお、本発明における処理槽については、種々の形式、
構成の処理槽を用いることができるが、図示の構成のも
のを使用した場合には、前述したクロスオーバ長が短縮
される。
構成の処理槽を用いることができるが、図示の構成のも
のを使用した場合には、前述したクロスオーバ長が短縮
される。
このような構成の感光材料処理装置1では、前段工程か
ら導入ローラ手段15を介して搬送されて来た感光材料
200が、処理槽10の一方の側壁11にほぼ水平に形
成された搬入通路13に導かれ、この通路13を経て処
理槽10内に搬入される。
ら導入ローラ手段15を介して搬送されて来た感光材料
200が、処理槽10の一方の側壁11にほぼ水平に形
成された搬入通路13に導かれ、この通路13を経て処
理槽10内に搬入される。
そして、処理槽10内に入った感光材料200は、槽内
搬送手段16により処理液2中を槽内搬送経路17に沿
って所定の速度で移動し、その後、はぼ水平に形成され
た搬出通路14を通って処理槽10の外へ搬出され、連
絡ローラ手段50を経て後段の工程に準備された後続処
理用の処理槽に導かれる。
搬送手段16により処理液2中を槽内搬送経路17に沿
って所定の速度で移動し、その後、はぼ水平に形成され
た搬出通路14を通って処理槽10の外へ搬出され、連
絡ローラ手段50を経て後段の工程に準備された後続処
理用の処理槽に導かれる。
そのため、例えば搬出通路14の先端側聞口14aを出
て後続処理用の処理槽に向う空間搬送経路が、はぼ直線
状の軌跡を描(ことになり、クロスオーバ長が短縮され
る。 特に、感光材料200の搬入経路13及び搬出経
路14を水平に設定した場合には、クロスオーバ長を最
短にすることができる。
て後続処理用の処理槽に向う空間搬送経路が、はぼ直線
状の軌跡を描(ことになり、クロスオーバ長が短縮され
る。 特に、感光材料200の搬入経路13及び搬出経
路14を水平に設定した場合には、クロスオーバ長を最
短にすることができる。
なお、この実施例では、搬入通路13と搬出通路14と
の双方を、処理槽10の側壁からほぼ水平に突出させて
いるが、前記搬入通路13または搬出通路14のいずれ
か一方のみをこのような構成としてもよい。
の双方を、処理槽10の側壁からほぼ水平に突出させて
いるが、前記搬入通路13または搬出通路14のいずれ
か一方のみをこのような構成としてもよい。
また、搬入通路13および搬出通路14を側壁11およ
び12から斜め上方へ向けて突出させ、それらの先端側
開口を液面よりも上方に位置するような構成としてもよ
い。
び12から斜め上方へ向けて突出させ、それらの先端側
開口を液面よりも上方に位置するような構成としてもよ
い。
第2図に示すものは、前記遮蔽蓋30に他の構成のもの
を使用した場合の本発明に係る他の実施例である。 第
2図中、第1図と同じ符号を付したものは同図の場合と
同じであるので、その詳細な説明は省略する。
を使用した場合の本発明に係る他の実施例である。 第
2図中、第1図と同じ符号を付したものは同図の場合と
同じであるので、その詳細な説明は省略する。
この実施例に係る感光材料処理装置60が前記感光材料
処理装置1と異なる点は、前記処理槽10内の処理液液
面を覆う蓋として、処理液液面に浮び得る浮蓋61を用
いたところにある。
処理装置1と異なる点は、前記処理槽10内の処理液液
面を覆う蓋として、処理液液面に浮び得る浮蓋61を用
いたところにある。
即ち、この浮蓋61は、処理槽10の側壁内周面に対し
て僅かな間隙(無視できる程小さく、本発明の効果を妨
げるには至らない)を有する状態で処理液2の液面に浮
ぶように構成され、前記処理槽10内の処理液2の量が
増減した際の液量変動に伴ってこの浮蓋61が上下方向
に変位し、その変位量を変位量検出手段40で検出する
ことにより、前述と同様にして、処理槽10内への処理
液の供給量を制御するというものである。
て僅かな間隙(無視できる程小さく、本発明の効果を妨
げるには至らない)を有する状態で処理液2の液面に浮
ぶように構成され、前記処理槽10内の処理液2の量が
増減した際の液量変動に伴ってこの浮蓋61が上下方向
に変位し、その変位量を変位量検出手段40で検出する
ことにより、前述と同様にして、処理槽10内への処理
液の供給量を制御するというものである。
この場合、浮蓋61の構造及び材料とじては、
■ 前記処理液2に対して浮力を有し、■ 前記処理液
2との接触に対して化学的に安定であり、特に処理液に
溶出してその処理性に悪影響を及ぼすことがなく、 ■ 気体および液体不透過性を有し、 ■ 処理槽10内の処理液量の増減に伴って上下に変位
した際に、その変位量を、機械量または物理量(不可視
光による光量的なものを含む)として検出し得る、 ものであればよく、この条件を満たすものであれば、剛
性体でも、可撓性体でも、弾性体でも、また、これらの
中空体であってもよい。
2との接触に対して化学的に安定であり、特に処理液に
溶出してその処理性に悪影響を及ぼすことがなく、 ■ 気体および液体不透過性を有し、 ■ 処理槽10内の処理液量の増減に伴って上下に変位
した際に、その変位量を、機械量または物理量(不可視
光による光量的なものを含む)として検出し得る、 ものであればよく、この条件を満たすものであれば、剛
性体でも、可撓性体でも、弾性体でも、また、これらの
中空体であってもよい。
なお、万一 浮蓋61が搬入通路13および搬出通路1
4より下方へ下がり、感光材料200等と接触すること
がないように、通路13.14より上方の側壁11およ
び12に、浮蓋61を係止し得るストッパ62.63を
設置するのが好ましい。
4より下方へ下がり、感光材料200等と接触すること
がないように、通路13.14より上方の側壁11およ
び12に、浮蓋61を係止し得るストッパ62.63を
設置するのが好ましい。
第3図に示すものは、前記遮蔽蓋30の代りに流体層7
1を使用した場合の本発明に係る他の実施例である。
第3図中、第1図と同じ符号を付したものは同図の場合
と同じであるので、その詳細な説明は省略する。
1を使用した場合の本発明に係る他の実施例である。
第3図中、第1図と同じ符号を付したものは同図の場合
と同じであるので、その詳細な説明は省略する。
この実施例に係る感光材料処理装置70が、前記感光材
料処理装置1および60と異なる点は、前記処理槽10
内の処理液液面を覆う蓋として、処理液液面に浮び得る
流体層71を用いたところにある。
料処理装置1および60と異なる点は、前記処理槽10
内の処理液液面を覆う蓋として、処理液液面に浮び得る
流体層71を用いたところにある。
この流体層71は、処理槽10の側壁内周面に密着して
処理液2の液面に浮ぶ、例えばパラフィンのような流体
層から成る。
処理液2の液面に浮ぶ、例えばパラフィンのような流体
層から成る。
そして、処理槽10内の処理液2の量が増減した際の液
量変動に伴ってこの流体層71が上下方向に変位したと
き、その変位量を、フロート式の変位量検出手段72で
検出することにより、前述と同様にして、処理槽10内
への処理液の供給量を制御するというものである。
量変動に伴ってこの流体層71が上下方向に変位したと
き、その変位量を、フロート式の変位量検出手段72で
検出することにより、前述と同様にして、処理槽10内
への処理液の供給量を制御するというものである。
この場合、前記変位量検出手段72は、支点73aを軸
として回動する「り」の字状の検出レバー73と、この
レバー73の長アームの先端に回動可能に取付けられた
フロート74と、前記検出レバー73の短アームの先端
付近に形成された押圧突起75と、この押圧突起75に
押圧されて撓む片持ちレバー式のリミットスイッチ76
と、このスイッチ76の接点の断・続(開・閉)に基い
て前記処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポ
ンプ作動開始信号及びポンプ作動停止信号を出力する制
御回路77と、前記送液ポンプ駆動回路46とから構成
される。
として回動する「り」の字状の検出レバー73と、この
レバー73の長アームの先端に回動可能に取付けられた
フロート74と、前記検出レバー73の短アームの先端
付近に形成された押圧突起75と、この押圧突起75に
押圧されて撓む片持ちレバー式のリミットスイッチ76
と、このスイッチ76の接点の断・続(開・閉)に基い
て前記処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポ
ンプ作動開始信号及びポンプ作動停止信号を出力する制
御回路77と、前記送液ポンプ駆動回路46とから構成
される。
なお、前述の制御回路77は次のように設定される。
即ち、 ■ 前記処理槽10内の処理液量の減少に伴って流体層
71の位置が下がり、それにつれてフロート74が下降
してリミットスイッチ76の接点が開かれたときには、
前記処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポン
プ作動開始信号を出力し、 ■ 前記処理液2の液量の増加に伴って流体層71の位
置が上り、それにつれてフロート74が上昇してリミッ
トスイッチ76の接点が閉じられている間は、前記ポン
プ作動停止信号を出力し続けるように設定される。
即ち、 ■ 前記処理槽10内の処理液量の減少に伴って流体層
71の位置が下がり、それにつれてフロート74が下降
してリミットスイッチ76の接点が開かれたときには、
前記処理液供給手段20側の送液ポンプ23に係るポン
プ作動開始信号を出力し、 ■ 前記処理液2の液量の増加に伴って流体層71の位
置が上り、それにつれてフロート74が上昇してリミッ
トスイッチ76の接点が閉じられている間は、前記ポン
プ作動停止信号を出力し続けるように設定される。
また、前記流体層71を構成する流体は、前記処理液2
よりも比重(好ましくは比重が1.0未満)が小さ(て
浮上することができ、この処理液2と相溶、混和せず、
しかも、処理液2と反応して感光材料200の処理性に
悪影響を及ぼすことがなく、かつ、比較的粘度が高い(
例えば温度20〜50℃で50〜500cps程度)流
体であるのが好ましい。
よりも比重(好ましくは比重が1.0未満)が小さ(て
浮上することができ、この処理液2と相溶、混和せず、
しかも、処理液2と反応して感光材料200の処理性に
悪影響を及ぼすことがなく、かつ、比較的粘度が高い(
例えば温度20〜50℃で50〜500cps程度)流
体であるのが好ましい。
その具体例としては、パラフィン、シリコーンオイル等
の各種合成オイル、亜麻仁油、桐油の各種天然オイル、
トリクレジイルフォスフェート、ジブチルフェノール、
液晶等を挙げることができる。
の各種合成オイル、亜麻仁油、桐油の各種天然オイル、
トリクレジイルフォスフェート、ジブチルフェノール、
液晶等を挙げることができる。
一方、この流体層71の厚さは、前記処理液2の蒸発、
変質・劣化等を十分に防止し得る程度のものとすればよ
く、用いる流体の種類、流体による被覆面積等にもよる
が、例えば、パラフィンの場合には、厚さを0.1〜1
0mm程度とするのがよい。
変質・劣化等を十分に防止し得る程度のものとすればよ
く、用いる流体の種類、流体による被覆面積等にもよる
が、例えば、パラフィンの場合には、厚さを0.1〜1
0mm程度とするのがよい。
その理由は、0.1m+n未満であると、処理液2の蒸
発は防止できるが空気中の酸素の透過性、炭酸ガスの透
過性が太き(なって、処理液2の酸化やpH低下を引き
起こす虞れがあるからであり、10+nmを超えると、
パラフィン等の流体が搬送ローラー等の疎水面に付着し
て、感光材料200にパラフィン付着等のトラブルが発
生する虞れを生じるからである。
発は防止できるが空気中の酸素の透過性、炭酸ガスの透
過性が太き(なって、処理液2の酸化やpH低下を引き
起こす虞れがあるからであり、10+nmを超えると、
パラフィン等の流体が搬送ローラー等の疎水面に付着し
て、感光材料200にパラフィン付着等のトラブルが発
生する虞れを生じるからである。
以上、幾つかの実施例について説明したが、本発明はこ
れらに限定されるものではな(、その要旨を変更せざる
範囲内で、種々に変形実施することが可能であることを
付記する。
れらに限定されるものではな(、その要旨を変更せざる
範囲内で、種々に変形実施することが可能であることを
付記する。
〈発明の効果〉
以上述べた通り、本発明の感光材料処理装置によれば、
簡易な構造で、処理液の蒸発、温度低下および変質、劣
化を防止することができ、また、処理槽内の処理液の液
量の変動にも対応することができる。
簡易な構造で、処理液の蒸発、温度低下および変質、劣
化を防止することができ、また、処理槽内の処理液の液
量の変動にも対応することができる。
また、感光材料の搬入通路および搬出通路の設置位置に
より、クロスオーバ長を短くして装。
より、クロスオーバ長を短くして装。
置の小型化を図ることができるとともに、クロスオーバ
に要する時間を短縮して全体の処理時間を短縮すること
ができる。
に要する時間を短縮して全体の処理時間を短縮すること
ができる。
第1図は、本発明に係る感光材料処理装置の構成例を模
式的に示す断面側面図である。 第2図および第3図は、それぞれ本発明に係る感光材料
処理装置の他の構成例を模式的に示す部分断面側面図で
ある。 第4図は、従来型の感光材料処理装置の構成例を模式的
に示す断面側面図である。 符号の説明 1.60.70・・・感光材料処理装置2・・・処理液 10・・・処理槽 11.12・・・側壁 13・・・搬入通路 13a、14a・・・先端側開口 13b、14b・・・基端側開口 14・・・搬出通路 15・・・導入ローラ手段 16・・・槽内搬送手段 16a・・・搬送ローラ対 16b、16c・・・搬送方向反転手段17・・・槽内
搬送経路 18・・・処理液供給用開口 20・・・処理液供給手段 21・・・処理液貯蔵タンク 22・・・導液管 23・・・送液ポンプ 30・・・遮蔽蓋 31・・・枠体 31a・・・開口部 32・・・可撓性薄板 101・・・先行処理用処理槽 102・・・後続処理用処理槽 104〜107・・・各ローラ手段 108・・・槽内搬送経路 109・・・搬送ローラ ρ・・・処理槽間の距離 200・・・感光材料 40・・・変位量検出手段 41・・・触針子 42・・・支持筒 43・・・上方限界点 44・・・下方限界点 45・・・検出制御回路 46・・・送液ポンプ駆動回路 50・・・連絡ローラ手段 61・・・浮蓋 62.63・・・ストッパ 71・・・流体層 72・・・変位量検出手段 73・・・検出レバー 73a・・・支点 74・・・フロート 75・・・押圧突起 76・・・リミットスイッチ 77・・・制御回路 h・・・撓み範囲 100・・・感光材料処理装置 F IG、1 FIG、2
式的に示す断面側面図である。 第2図および第3図は、それぞれ本発明に係る感光材料
処理装置の他の構成例を模式的に示す部分断面側面図で
ある。 第4図は、従来型の感光材料処理装置の構成例を模式的
に示す断面側面図である。 符号の説明 1.60.70・・・感光材料処理装置2・・・処理液 10・・・処理槽 11.12・・・側壁 13・・・搬入通路 13a、14a・・・先端側開口 13b、14b・・・基端側開口 14・・・搬出通路 15・・・導入ローラ手段 16・・・槽内搬送手段 16a・・・搬送ローラ対 16b、16c・・・搬送方向反転手段17・・・槽内
搬送経路 18・・・処理液供給用開口 20・・・処理液供給手段 21・・・処理液貯蔵タンク 22・・・導液管 23・・・送液ポンプ 30・・・遮蔽蓋 31・・・枠体 31a・・・開口部 32・・・可撓性薄板 101・・・先行処理用処理槽 102・・・後続処理用処理槽 104〜107・・・各ローラ手段 108・・・槽内搬送経路 109・・・搬送ローラ ρ・・・処理槽間の距離 200・・・感光材料 40・・・変位量検出手段 41・・・触針子 42・・・支持筒 43・・・上方限界点 44・・・下方限界点 45・・・検出制御回路 46・・・送液ポンプ駆動回路 50・・・連絡ローラ手段 61・・・浮蓋 62.63・・・ストッパ 71・・・流体層 72・・・変位量検出手段 73・・・検出レバー 73a・・・支点 74・・・フロート 75・・・押圧突起 76・・・リミットスイッチ 77・・・制御回路 h・・・撓み範囲 100・・・感光材料処理装置 F IG、1 FIG、2
Claims (2)
- (1)処理液供給手段により処理槽内へ供給された処理
液に感光材料を漬浸して処理を行う感光材料処理装置に
おいて、 前記処理槽の側壁に中空構造の感光材料の搬入通路およ
び搬出通路を設置し、 前記搬入通路及び搬出通路の処理槽内に位置する基端側
開口の位置を前記処理液の液面より下方に設定し、 前記処理槽内の処理液の液量の増減に応じて変形または
変位する手段であって、該手段により処理液の開放部分
を実質的に皆無とする手段を設けたことを特徴とする感
光材料処理装置。 - (2)前記処理液供給手段は、前記処理液の供給量を前
記処理槽内の処理液の液量に応じて制御し得る処理液量
制御手段を具えたものである請求項1に記載の感光材料
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22180088A JPH0269744A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22180088A JPH0269744A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 感光材料処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0269744A true JPH0269744A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16772397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22180088A Pending JPH0269744A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0269744A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04133252U (ja) * | 1991-02-21 | 1992-12-11 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真感光材料現像機における液面検出フロート付き処理液タンク |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP22180088A patent/JPH0269744A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04133252U (ja) * | 1991-02-21 | 1992-12-11 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真感光材料現像機における液面検出フロート付き処理液タンク |
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