JPH0270073A - チタンまたはチタン合金を付着強固に金属被覆する方法 - Google Patents
チタンまたはチタン合金を付着強固に金属被覆する方法Info
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- JPH0270073A JPH0270073A JP11524189A JP11524189A JPH0270073A JP H0270073 A JPH0270073 A JP H0270073A JP 11524189 A JP11524189 A JP 11524189A JP 11524189 A JP11524189 A JP 11524189A JP H0270073 A JPH0270073 A JP H0270073A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/38—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of refractory metals or nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、外部電流なしにニッケル・リン合金全析出さ
せ、引き続き熱処理することによりニッケル・チタン拡
散層を形成させる、チタンまたはチタン合金を付着強固
に金属被覆する方法に関する。
せ、引き続き熱処理することによりニッケル・チタン拡
散層を形成させる、チタンまたはチタン合金を付着強固
に金属被覆する方法に関する。
前記材料の電気めっきは困難である、それというのもこ
の表面は不動態層で覆われているためである。
の表面は不動態層で覆われているためである。
チタンまたはチタン合金を付着強固に金属被覆するため
には、不動態層を取り除かなけ扛ばならない。この不動
態層は、自体公知の方法で、フッ化水素酸まだはフッ化
物含有の酸の水溶液を用いて除去される。この不動態層
を表面から除去した場合、チタンまたはチタン化合物は
電気めっきによシ被覆することができる。
には、不動態層を取り除かなけ扛ばならない。この不動
態層は、自体公知の方法で、フッ化水素酸まだはフッ化
物含有の酸の水溶液を用いて除去される。この不動態層
を表面から除去した場合、チタンまたはチタン化合物は
電気めっきによシ被覆することができる。
西ドイツ国特許出願公開第3622032号明atには
、ニッケルスルファメート電解液を用いて、5 A /
dm2で55 ’Cで10分間に電気めっきによる被
覆が行われた。しかしこの種の電解液から十分な付着性
を有する層は析出されなかった。それというのもこの層
の内応力が弓張応力の範囲にあるためである。西ドイツ
国特許3321231号明細書には、チタンまたはチタ
ンベースの合金かしなる部品の表面上に外部電流なしで
析出させたニッケル層を400〜600℃で熱処理する
が、しかし引き続きニッケル層および拡散層TiNj、
3 ’z化学的に除去していた。これによシ表面は粗面
化され、このことが次の層の機械的固定を可能VCして
いた。しかし表面のこのよりな粗面化は不え1コである
と判明した。
、ニッケルスルファメート電解液を用いて、5 A /
dm2で55 ’Cで10分間に電気めっきによる被
覆が行われた。しかしこの種の電解液から十分な付着性
を有する層は析出されなかった。それというのもこの層
の内応力が弓張応力の範囲にあるためである。西ドイツ
国特許3321231号明細書には、チタンまたはチタ
ンベースの合金かしなる部品の表面上に外部電流なしで
析出させたニッケル層を400〜600℃で熱処理する
が、しかし引き続きニッケル層および拡散層TiNj、
3 ’z化学的に除去していた。これによシ表面は粗面
化され、このことが次の層の機械的固定を可能VCして
いた。しかし表面のこのよりな粗面化は不え1コである
と判明した。
本発明の課題は、冒頭に記載した種類の方法で、あらか
じめ表面を粗面化せずに、チタン丑たはテノン合金上に
付着強固なニッケル層を製造する方法を提供することで
ある。
じめ表面を粗面化せずに、チタン丑たはテノン合金上に
付着強固なニッケル層を製造する方法を提供することで
ある。
この課題は、外部電流なしにニッケル・リン合金を析出
させ、引き続き熱処理することによりニッケル・チタン
拡散)PIIを形成させるチタンまたはチタン合金を付
着強固に金属被覆する方法において、該拡散層を形成さ
せた後に、なお存在するニッケル膚會付着強固に金属被
機することを特徴とするチタンまたはチタン合金を付着
強固に金属被覆する方法により解決される。
させ、引き続き熱処理することによりニッケル・チタン
拡散)PIIを形成させるチタンまたはチタン合金を付
着強固に金属被覆する方法において、該拡散層を形成さ
せた後に、なお存在するニッケル膚會付着強固に金属被
機することを特徴とするチタンまたはチタン合金を付着
強固に金属被覆する方法により解決される。
さらに本発明の構成は請求項2から5寸でに記載した。
本発明による方法において、表面の粗面住処理工8を避
けることは、均質な表面構造を生じさせるはかシでなく
、総合的に簡単な操作をも保証している。さらに、本発
明による方法において、外部電流なしにニッケル・リン
合金を析出させた後に熱処理を行うか、またけ装飾上ま
たは機能上の最終的被覆を行った後に熱処理を行うかは
無関係である。
けることは、均質な表面構造を生じさせるはかシでなく
、総合的に簡単な操作をも保証している。さらに、本発
明による方法において、外部電流なしにニッケル・リン
合金を析出させた後に熱処理を行うか、またけ装飾上ま
たは機能上の最終的被覆を行った後に熱処理を行うかは
無関係である。
ニッケル・リン合金は自体公知の方法で、常用の化学ニ
ッケル浴を使用して、外部電流なしに析出さ几る。
ッケル浴を使用して、外部電流なしに析出さ几る。
次に本発明を実施例につき詳説する。
例 1
次のようにしてチタンを被覆する:
1、 脱脂
2 洗浄
65茅のHF溶液に40℃で5秒間の浸漬4、洗浄
5 外部電流なしのニッケル浴中でのニッケルめっき
6 洗浄
7、 金の電解浴中での金めつき
8.600℃で1時間の熱処理
例 2
5係のHF溶液に40℃で5秒間の浸漬2、洗浄
6、外部電流なしのニッケル浴中でのニッケルめっき
650℃で60分間の熱処理
脱脂
洗浄
金の電解浴中での金めつき
土
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、外部電流なしにニッケル・リン合金を析出させ、引
き続き熱処理することによりニッケル・チタン拡散層を
形成させるチタンまたはチタン合金を付着強固に金属被
覆する方法において、該拡散層を形成させた後に、なお
存在するニッケル層を付着強固に金属被覆することを特
徴とするチタンまたはチタン合金を付着強固に金属被覆
する方法。 2、チタンまたはチタン合金を、外部電流なしにニッケ
ル・リン合金を析出させる前にフッ化物含有溶液中で清
浄化する請求項1記載の方法。 3、フッ化物含有溶液がフッ化水素酸またはアルカリ金
属フッ化物を0.01%から溶解限度までの濃度で含有
することを特徴とする請求項2記載の方法。 4、被覆した後に、200℃以上の温度で熱処理を行う
請求項1記載の方法。 5、熱処理を保護ガス下でまたは真空中で行う請求項4
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3816495.7 | 1988-05-10 | ||
| DE19883816495 DE3816495A1 (de) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | Verfahren zur haftfesten metallisierung von titan oder titanlegierungen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0270073A true JPH0270073A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=6354377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11524189A Pending JPH0270073A (ja) | 1988-05-10 | 1989-05-10 | チタンまたはチタン合金を付着強固に金属被覆する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0341546A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0270073A (ja) |
| DE (1) | DE3816495A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU3553599A (en) * | 1998-04-13 | 1999-11-01 | Acm Research, Inc. | Method and apparatus for enhancing adhesion between barrier layer and metal layer formed by plating |
-
1988
- 1988-05-10 DE DE19883816495 patent/DE3816495A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-05-02 EP EP89107902A patent/EP0341546A3/de not_active Withdrawn
- 1989-05-10 JP JP11524189A patent/JPH0270073A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3816495A1 (de) | 1989-11-23 |
| EP0341546A2 (de) | 1989-11-15 |
| EP0341546A3 (de) | 1990-05-16 |
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