JPH0273520A

JPH0273520A - 磁気記録用アルマイト基板の表面処理方法

Info

Publication number: JPH0273520A
Application number: JP22544688A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Otsuka; 大塚　正弘
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1988-09-08
Filing date: 1988-09-08
Publication date: 1990-03-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔概要］磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒体
において、磁性膜が形成されるアルマイト基板の表面処
理方法に関し、アルマイト基板の表面をより確実に平滑化可能とするこ
とを目的とし、アルミニウム基板の表面をアルマイト処理した後、アル
マイト膜の表面に、酸化シリコンを塗布し、熱処理する
ことで、アルマイト膜の表面を平滑化する。

〔産業上の利用分野〕

磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒体
は、非磁性の円板に磁性塗料を塗布したり、Ｃｏ−Ｎｉ
やＣｏ−Ｐｔなどの磁性金属や酸化鉄磁性膜をスパッタ
リングするなどの手法で成膜される。

本発明は、このような磁気記録媒体において、磁性膜が
形成されるアルマイト基板の表面処理方法に関する。

〔従来の技術〕

第６図は従来の磁気記録媒体の全容を示す断面図である
。■は例えばアルミニウムなどのような非磁性体からな
る基板（円板）であり、その上に下地層２、磁性膜３、
保護膜４の順に積層されている。

第７図は、従来のアルマイト磁気記録媒体の断面構造を
示す図であり、磁性膜３が酸化鉄（Ｔ〜ＦｅｚＯｚ）に
よって形成されている。基板１はアルミニウムからなっ
ており、その表面を酸化させてアルマイト（ＡｌｚＯｚ
）膜を形成することで下地層２としている。磁性膜３は
、１−Ｆｅ２Ｏ３をスパッタ或いは塗布することで形成
される。保護膜４は、カーボンやＳｉｎ、をスパッタす
ることで形成される。

この保護膜４の上に、さらに凹凸層５を形成し、微小な
凹部中に潤滑剤を含浸させることで、磁気ヘッドが接触
摺動する際の媒体表面の摩耗を防止するようにしている
。

凹凸層５は、次のようにして形成される。まず、Ｓｉを
含む溶剤と易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布すると
、易熱蒸発性の物質が凝集し玉状になる。次に、焼付け
を行なうと、玉状の５熱蒸発性物質が蒸発する。このと
き、玉状の５熱蒸発性物質とＳｉ混合液との境が盛り上
がり、凹凸が形成される。

第８図は、磁性膜３が積層されるアルマイト基板の製造
方法を示す工程図である。まず（ａ）に示す母材となる
アルミニウム基板１ａを、（ｂ）のアルマイト処理工程
において、電解浴中で酸化処理することで、表面にアル
マイト膜２を形成する。

次に（Ｃ）の工程において、アルマイト電解処理液を洗
浄し、乾燥することで、（ｄ）のようなアルマイト基板
を得る。

アルマイト膜２は、アルマイト電解処理によって形成さ
れるため、（ｄ）に示すように、アルマイト膜２の表面
は、電解液による浸蝕が激しく、表面の平滑度が失われ
、凹凸が顕著になる。

そのため、工程（ｅ）において、アルマイト膜２の表面
をポリッシュ仕上げすることで、（ｆ）のように、アル
マイト膜２の表面を平滑化している。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、このような製造方法では、無数の空孔をもつ
アルマイト膜２の表面を高精度で平滑に仕上げることは
難しく、ポリッシングの加工条件によるバラツキも発生
する。

アルマイト基板の表面が平滑でないと、磁性膜３を形成
し、磁気記録媒体として使用した場合に、磁気記録媒体
の表面もアルマイト基板に倣って凹凸となる。そのため
、磁気ヘッドが磁気記録媒体表面の突起に衝突し、ヘッ
ドクラッシュを来たしたり、ビットエラーを起こすなど
の問題が有り、磁気記録媒体としての信頼性に欠ける。

本発明の技術的課題は、従来の磁気記録用アルマイト基
板の表面処理方法におけるこのような問題を解消し、ア
ルマイト基板の表面をより確実に平滑化可能とすること
にある。

〔課題を解決するための手段］第１図は本発明による磁気記録用アルマイト基板の表面
処理方法の基本原理を説明する図である。

（ａ）に示すように、アルミニウム基板の表面をアルマ
イト処理する。そして、（ｂ）に示すように、アルマイ
ト膜の表面に、酸化シリコンを塗布し、熱処理すること
で、アルマイト基板の表面を平滑化する。

〔作用〕

本発明による方法は、常温において液体であり、容易に
塗布出来る酸化シリコンなどを、アルマイト膜の上に直
接塗布する。そのため、表面の微小凹凸やうねりが、酸
化シリコンで埋められて、平滑な面となる。塗布された
酸化シリコンは、焼成（熱処理）によって硬化し、安定
した膜となり、かつ極めて平滑な面が得られる。

なお、必要に応じて、酸化シリコン膜の上を更にポリッ
シングなどにより再仕上げすることも可能である。また
、酸化シリコンを塗布する前に、多孔質なアルマイト表
面をポリッシュ加工などによっである程度平滑化してか
ら、酸化シリコンを塗布することも有効である。

（実施例〕次に本発明による磁気記録用アルマイト基板の表面処理
方法が実際上どのように具体化されるかを実施例で説明
する。第２図は本発明によるアルマイト基板表面処理方
法の実施例を工程順に示す図である。

（ａ）に示すアルミニウム基＋ｆｆ１ｌａを、（ｂ）の
工程でアルマイト処理した後、（Ｃ）の工程で、洗浄し
、乾燥させることにより、アルマイト処理を完了すると
、（ｄ）に示すように、アルミニウム基板１の表面にア
ルマイト膜２が形成される。

このアルマイト膜２の表面を、（ｅ）の−次平滑加工工
程で、ポリッシュ加工などを行なうことにより、表面を
平滑化する。すなわち、アルマイト処理しただけの基板
は、アルマイト膜中の空孔の表面部分が、溶解によって
微小凹凸となるため、酸化シリコン塗布前に、ポリッシ
ュなどの一次加工を行ない、（ｆ）に示すように酸化シ
リコン膜７の表面６をある程度平滑化しておくのが有効
である。

次いで（ｇ）の工程で、平滑化されたアルマイト膜表面
６に、塗布型の酸化シリコンを塗布し、３００°Ｃ位の
温度で熱処理することで、酸化シリコン膜を硬化させ、
安定な平滑膜とする。

酸化シリコン膜は、従来媒体磁性層の保護膜として用い
ていた酸化シリコンを利用し、従来より確立しているス
ピンコードなどの手法によって、平滑に塗布できる。

このようにして作成されたアルマイト基板は、（ｈ）に
示すように、酸化シリコン膜７の表面が充分に平滑化さ
れているため、この上に磁性膜を形成することができる
。

しかしながら、うねり等を除去して、さらに平滑化する
場合は、酸化シリコン膜７の表面を、（ｉ）の工程で、
ポリッシュなどの手法によって平面仕上げすると、（ｊ
）に示すように、極めて平滑な酸化シリコン膜面が得ら
れる。

（ｉ）の工程では、酸化シリコン膜７の表面に、極めて
細かい凹凸を規則的に形成するテクスチャー処理を行な
うこともできる。

このように、酸化シリコン膜７を塗布することにより、
アルマイト膜２の表面の微小凹凸やうねりを埋めて平滑
化し、硬化処理した後、その上に磁性膜を形成する。

なお、（ｅ）のアルマイト膜表面の平滑化加工、あるい
は（ｉ）の酸化シリコン膜表面の平滑化加工を行なうこ
とにより、平滑度が極めて向上するが、必ずしも不可欠
な工程ではない。

上記実施例の方法により作成したアルマイト基板表面と
、第８図に示す従来方法で作成したアルマイト基板表面
との比較を、第３図〜第５図に示す。各図において、（
ａ）は表面粗さ状態を示し、０））は表面の断面形状を
示す。

第３図は、アルマイト処理の後、洗浄、乾燥を終了した
後に、表面を測定したものであり、（ト））の断面曲線
に示すように、微小凹凸とうねりが現れている。

アルマイト膜の表面をポリッシュ加工すると、第４図に
示すように、大きい突起や細かい突起が除去されている
ことがわかる。

アルマイト膜の表面に、本発明の方法によって酸化シリ
コンを塗布し、加熱処理すると、第５図に示すように、
細かい凹部やうねりは認められず、極めて平滑な面とな
っていることがわかる。

応化製）Ｊをスピンコードする。

（２）、焼付け２１５０〜３５０°Ｃで１〜５時間行な
う。

こうして硬化した酸化シリコン膜７の上に、磁性材料α
−ＦｅｚＯ，、を０．２μｍスパッターし還元酸化処理
して磁性膜を作成した。その保護膜として、５ｉＯｚ（
２００人）をスパッタした後、更に下記のような液を塗
布し焼付けを行なった。

（３）、　塗布Ｂ：流動パラフィンを含むオルガノシロ
キ酸溶液「本例、では、ｏｃｏ　Ｐ−５９３１０（東京
応化製）に流動パラフィンを加えた溶液」を塗布する。

（４）、焼付け：１５０〜３５０”Ｃで１〜５時間行な
う。

以上により、第７図と同様な層構造が得られる。

こうして形成された表面の凹凸層上に潤滑剤を塗布して
、磁気記録媒体とした。

次に、酸化シリコン塗布工程（匂以降につき、具体例を
挙げる。

（１）、　塗布Ａ：アルマイト膜２の上に、オルガノシ
ロキ酸溶液「本例では、ＯＣＤ　Ｐ−５９３１０（東京
〔発明の効果〕以上のように本発明によれば、磁気記録用アルマイト処
理基板に、磁性体をコーティング、スパッタリングなど
により成膜する前に、アルマイト基板表面に塗布型酸化
シリコンを塗布し、硬化させることで、アルマイト膜２
の表面の平滑性が極めて向上する。その結果、微小凹凸
やうねりの無い、極めて平滑な基板面が得られ、ヘッド
の浮上安定性が向上するので、信頼性の高い磁気記録／
再生が可能となる。

また、アルマイト処理条件（電圧、電流、浴の処理回数
、電解時間など）によるアルマイト層の微妙な変化の影
響を受けず、安定した表面性状を得ることができる。ア
ルマイト処理、ポリッシュなどの条件の、量産的変動に
対しても、品質の安定した基板が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気記録用アルマイト基板の表面
処理方法の基本原理を示す図、第２図は本発明方法の実
施例を工程順に示す図、第３図はアルマイト処理後の表
面状態を示す図、第４図はポリッシュ加工後のアルマイ
ト膜表面状態を示す図、第５図は本発明方法によって酸
化シリコン膜を形成した後の表面状態を示す図、第６図
は従来の磁気記録媒体の全容を示す断面図、第７図は従
来のアルマイト基板を使用した磁気記録媒体の断面図、
第８図は従来の磁気記録用アルマイト基板の表面処理方
法を工程順に示す図である。図において、１はアルミニウム基板、２はアルマイト膜
、３は磁性膜、４は保護膜、７は酸化シリコン膜をそれ
ぞれ示す。特許出願人　　　　　富士通株式会社復代理人　弁理士　　福　島　康　文不屁朗の基ボ恵理第　７図不ελ匁の７）レマΔ　ト石註Ｊ九↓己４系ぢ狡仁区第
７図

Claims

【特許請求の範囲】

アルミニウム基板の表面をアルマイト処理した後、アル
マイト膜の表面に、酸化シリコンを塗布し、熱処理する
ことで、アルマイト膜の表面を平滑化することを特徴と
する磁気記録用アルマイト基板の表面処理方法。