JPS6256574B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6256574B2 JPS6256574B2 JP56210519A JP21051981A JPS6256574B2 JP S6256574 B2 JPS6256574 B2 JP S6256574B2 JP 56210519 A JP56210519 A JP 56210519A JP 21051981 A JP21051981 A JP 21051981A JP S6256574 B2 JPS6256574 B2 JP S6256574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- concentration
- magnetic recording
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
- G11B5/71—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the lubricant
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
(1) 発明の技術分野
本発明は磁気記録媒体の製造方法、特に磁性層
表面に塗布する潤滑剤にパーフロロアルキルポリ
エーテルを沸点が90℃以上の高ふつ化溶液中に希
釈したものを用いる方法に関する。 (2) 技術の背景 最近磁気媒体は記録密度向上の要請に応じて、
磁気ヘツドの浮上量の低減化が図られ、更に、始
動開始時と停止時は磁気ヘツドと媒体とが接触摺
動するいわゆるコンタクト・スタート・ストツプ
方式（CSS方式）が採用されるに至り、媒体の磨
耗に対する耐久性を向上させる目的で、パーフロ
ロアルキルポリエーテル〔デユポン社によりクラ
イトツクスなる商品名で市販されているもので分
子式は
表面に塗布する潤滑剤にパーフロロアルキルポリ
エーテルを沸点が90℃以上の高ふつ化溶液中に希
釈したものを用いる方法に関する。 (2) 技術の背景 最近磁気媒体は記録密度向上の要請に応じて、
磁気ヘツドの浮上量の低減化が図られ、更に、始
動開始時と停止時は磁気ヘツドと媒体とが接触摺
動するいわゆるコンタクト・スタート・ストツプ
方式（CSS方式）が採用されるに至り、媒体の磨
耗に対する耐久性を向上させる目的で、パーフロ
ロアルキルポリエーテル〔デユポン社によりクラ
イトツクスなる商品名で市販されているもので分
子式は
【式】などの潤滑剤を媒体
の磁性層表面に塗布することが行なわれている。
上記クライトツクスの塗布には、スピンコーテ
イング法（回転塗布法）、媒体をクライトツクス
中につける浸漬法、適当なスプレーガンなどを用
いてなされるスプレー法などが提案されている
が、各方法ともクライトツクスを原液（100％）
のまま用いることはほとんどなく、トリクロロト
リフロロエタン（商品名はフレオンTF）、または
フレオンTFとイソプロピルアルコールの混合液
などの溶剤中にクライトツクスを希釈して得られ
る懸濁液を使用している。 (3) 従来技術と問題点 上記したクライトツクスはフレオンTF中に完
全に溶解するので塗布量の微妙な制御を行なうに
は便利であるが、フレオンTFの沸点が約48℃と
きわめて低いので、クライトツクス溶解液の濃度
維持が難かしい。例えばクライトツクスの塗布に
前記した浸漬法を用いるとき、溶解液が多量で容
器の開口部が広いので、濃度維持はより深刻な問
題となる。また、スピンコート法においても、フ
レオンTFの蒸発が早いので、溶解液を媒体上に
滴下させてもそれを全面に均一に拡散させて塗布
することが難しく、ほとんどの場合均一化をはか
るためスピンコーテイングの後に拭き取り（バツ
フイング）、または熱拡散工程が必要となる。こ
れらの事情はすべて磁気媒体の製造工程の増加と
なり、ひいては歩留りを低下させる一因となつて
いる。 (4) 発明の目的 本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、クライ
トツクスの溶解液の濃度維持が簡便でかつ均一塗
布性が優れた磁気媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。 (5) 発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、磁性鉄粉体
を結合剤中に分散せしめてなる磁気塗料を非磁性
基体に塗布し磁性層を形成した後に磁性層表面に
潤滑剤を塗布してなる磁気記録媒体製造方法であ
つて、前記潤滑剤は、パーフロロアルキルポリエ
ーテルを分子式がC7F16またはC8F16Oの何れかの
単独または、これらの混合液からなる高フツ化希
釈液中に希釈した状態で塗布されることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法を提供する。 またこの溶液中のパーフロロアルキルポリエー
テルの希釈濃度は0.2〜５％である。 (6) 発明の実施例 以下本発明実施例を図面によつて詳述する。 本願の発明者は、現在市販のフレオンTFを使
用したとき経験される問題が、フレオンの蒸発速
度の早さに起因すると判断し、前記した問題点を
解決すべく沸点の異なる各種溶剤で実験を重ね、
第１図に示される沸点とクライトツクス溶解液濃
度変化の時間経過の関係を確定した。同図におい
て横軸は溶液の沸点温度（℃）を、縦軸は１日当
りの濃度変化率を％で示す。 図に矢印で示す範囲は合格範囲であるが、その
判定に際し、濃度変化率が３％／日以上のものは
実用上管理困難と判定し、３％／日未満を合格と
した。同図座標の左上方の丸に矢印を付したとこ
ろはフレオンTFを用いた場合を示し、濃度変化
率は50％／日以上である。なおこの実験は50cm立
方の容器に各溶剤とも５％のクライトツクスを溶
解したものを満たし、25℃で１日放置したときの
濃度変化を実測した。前記矢印範囲内の３点は本
発明の方法によるものについてのデータである。 次に、塗布性の評価結果を第２図に示す。この
評価は、スピンコーテイング法および浸漬法の双
方で行なつた。同図の縦軸に点数で示す塗布性に
関しては、９点以下は品質の安定性に欠けると
か、次工程にバツフイング工程または熱拡散工程
を要するという理由で不適当と判定し、９点を超
えるものを合格とした。 具体的に説明すると、溶剤が蒸発した後、クラ
イトツクスが連続膜に見え均一性良好であれば10
点、クライトツクスが均一に粒状に見えるときは
５点（後工程で拭き取りまたは熱拡散処理が必要
であるため）、クライトツクスが均一に塗布され
ていなければ３点とした。なお、これら点数分配
の中間値は適宜判定した。なお同図において、横
軸は溶液の沸点温度を（℃）、矢印で示す範囲は
合格を、角印は浸漬法によるものを、丸印はスピ
ンコート法によるものを示す。 スピンコート法、浸漬法ともに、径が約36cm
（14インチ）のデイスクに１枚当り30mgを塗布す
べく、溶液濃度、塗布条件（例えばスピンコーテ
イングにおける回転数、浸漬法におけるデイスク
引上速度）を最適化して塗布し評価した。 次いで、本発明による沸点約100℃の溶剤を使
用した場合の濃度とウインチエスタ型ヘツドの
CSS（コンタクト・スタート・ストツプ）の耐久
回数の関係を第３図に示す。デイスクへのクライ
トツクスの塗布は、スピンコーテイング法および
浸漬法の両方で行ない、各々最適と判定される塗
布条件を選んで塗布した。従つて、拭き取りおよ
び熱拡散処理は行なわない。同図において横軸は
クライトツクス溶液濃度（％）、縦軸は耐久回数
を万単位で示し、矢印で示す範囲は合格であり、
角印は浸漬法、丸印はスピンコーテイング法によ
るものを示す。耐久回数の合格ラインは１万回以
上とした。 更に、前記したデイスクの上に、加圧力約10ｇ
のウインチエスタ型ヘツドを、24時間、24℃、湿
度70％の条件下に放置した後、ヘツドとデイスク
の間に生ずる吸着力〔ヘツド・ステイツク（ヘツ
ドとデイスクとのくつつき）〕を測定した結果を
第４図に示す。同図で横軸はクライトツクス溶液
濃度（％）、縦軸は吸着力（ｇ）、矢印で示す範囲
は吸着力５ｇ以下の合格を示す。角印、丸印は第
３図の場合と同様である。合格ラインについて
は、吸着力５ｇ以下では、ヘツドとデイスクの双
方に傷が認められなかつたので、５ｇ以下を合格
とした。 以上に説明した結果から、本発明による溶剤を
使用してクライトツクスを塗布する場合の安定な
品質が得られる実用的使用濃度は0.2〜0.5％であ
ると判定した。すなわち、この範囲より希釈度が
うすい場合、十分な耐久性を与える塗布条件が得
られず、逆に濃い場合は吸着力が大になりすぎて
実用上不適当である。 (7) 発明の効果 以上説明したように、本発明の方法によるとき
は、濃度変化率の低いクライトツクスの溶液が得
られ、この溶液を用いるときは、高品質の、耐久
性の高い、吸着力小なる潤滑剤層が得られ、磁気
媒体の信頼性向上に寄与するところ大である。
イング法（回転塗布法）、媒体をクライトツクス
中につける浸漬法、適当なスプレーガンなどを用
いてなされるスプレー法などが提案されている
が、各方法ともクライトツクスを原液（100％）
のまま用いることはほとんどなく、トリクロロト
リフロロエタン（商品名はフレオンTF）、または
フレオンTFとイソプロピルアルコールの混合液
などの溶剤中にクライトツクスを希釈して得られ
る懸濁液を使用している。 (3) 従来技術と問題点 上記したクライトツクスはフレオンTF中に完
全に溶解するので塗布量の微妙な制御を行なうに
は便利であるが、フレオンTFの沸点が約48℃と
きわめて低いので、クライトツクス溶解液の濃度
維持が難かしい。例えばクライトツクスの塗布に
前記した浸漬法を用いるとき、溶解液が多量で容
器の開口部が広いので、濃度維持はより深刻な問
題となる。また、スピンコート法においても、フ
レオンTFの蒸発が早いので、溶解液を媒体上に
滴下させてもそれを全面に均一に拡散させて塗布
することが難しく、ほとんどの場合均一化をはか
るためスピンコーテイングの後に拭き取り（バツ
フイング）、または熱拡散工程が必要となる。こ
れらの事情はすべて磁気媒体の製造工程の増加と
なり、ひいては歩留りを低下させる一因となつて
いる。 (4) 発明の目的 本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、クライ
トツクスの溶解液の濃度維持が簡便でかつ均一塗
布性が優れた磁気媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。 (5) 発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、磁性鉄粉体
を結合剤中に分散せしめてなる磁気塗料を非磁性
基体に塗布し磁性層を形成した後に磁性層表面に
潤滑剤を塗布してなる磁気記録媒体製造方法であ
つて、前記潤滑剤は、パーフロロアルキルポリエ
ーテルを分子式がC7F16またはC8F16Oの何れかの
単独または、これらの混合液からなる高フツ化希
釈液中に希釈した状態で塗布されることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法を提供する。 またこの溶液中のパーフロロアルキルポリエー
テルの希釈濃度は0.2〜５％である。 (6) 発明の実施例 以下本発明実施例を図面によつて詳述する。 本願の発明者は、現在市販のフレオンTFを使
用したとき経験される問題が、フレオンの蒸発速
度の早さに起因すると判断し、前記した問題点を
解決すべく沸点の異なる各種溶剤で実験を重ね、
第１図に示される沸点とクライトツクス溶解液濃
度変化の時間経過の関係を確定した。同図におい
て横軸は溶液の沸点温度（℃）を、縦軸は１日当
りの濃度変化率を％で示す。 図に矢印で示す範囲は合格範囲であるが、その
判定に際し、濃度変化率が３％／日以上のものは
実用上管理困難と判定し、３％／日未満を合格と
した。同図座標の左上方の丸に矢印を付したとこ
ろはフレオンTFを用いた場合を示し、濃度変化
率は50％／日以上である。なおこの実験は50cm立
方の容器に各溶剤とも５％のクライトツクスを溶
解したものを満たし、25℃で１日放置したときの
濃度変化を実測した。前記矢印範囲内の３点は本
発明の方法によるものについてのデータである。 次に、塗布性の評価結果を第２図に示す。この
評価は、スピンコーテイング法および浸漬法の双
方で行なつた。同図の縦軸に点数で示す塗布性に
関しては、９点以下は品質の安定性に欠けると
か、次工程にバツフイング工程または熱拡散工程
を要するという理由で不適当と判定し、９点を超
えるものを合格とした。 具体的に説明すると、溶剤が蒸発した後、クラ
イトツクスが連続膜に見え均一性良好であれば10
点、クライトツクスが均一に粒状に見えるときは
５点（後工程で拭き取りまたは熱拡散処理が必要
であるため）、クライトツクスが均一に塗布され
ていなければ３点とした。なお、これら点数分配
の中間値は適宜判定した。なお同図において、横
軸は溶液の沸点温度を（℃）、矢印で示す範囲は
合格を、角印は浸漬法によるものを、丸印はスピ
ンコート法によるものを示す。 スピンコート法、浸漬法ともに、径が約36cm
（14インチ）のデイスクに１枚当り30mgを塗布す
べく、溶液濃度、塗布条件（例えばスピンコーテ
イングにおける回転数、浸漬法におけるデイスク
引上速度）を最適化して塗布し評価した。 次いで、本発明による沸点約100℃の溶剤を使
用した場合の濃度とウインチエスタ型ヘツドの
CSS（コンタクト・スタート・ストツプ）の耐久
回数の関係を第３図に示す。デイスクへのクライ
トツクスの塗布は、スピンコーテイング法および
浸漬法の両方で行ない、各々最適と判定される塗
布条件を選んで塗布した。従つて、拭き取りおよ
び熱拡散処理は行なわない。同図において横軸は
クライトツクス溶液濃度（％）、縦軸は耐久回数
を万単位で示し、矢印で示す範囲は合格であり、
角印は浸漬法、丸印はスピンコーテイング法によ
るものを示す。耐久回数の合格ラインは１万回以
上とした。 更に、前記したデイスクの上に、加圧力約10ｇ
のウインチエスタ型ヘツドを、24時間、24℃、湿
度70％の条件下に放置した後、ヘツドとデイスク
の間に生ずる吸着力〔ヘツド・ステイツク（ヘツ
ドとデイスクとのくつつき）〕を測定した結果を
第４図に示す。同図で横軸はクライトツクス溶液
濃度（％）、縦軸は吸着力（ｇ）、矢印で示す範囲
は吸着力５ｇ以下の合格を示す。角印、丸印は第
３図の場合と同様である。合格ラインについて
は、吸着力５ｇ以下では、ヘツドとデイスクの双
方に傷が認められなかつたので、５ｇ以下を合格
とした。 以上に説明した結果から、本発明による溶剤を
使用してクライトツクスを塗布する場合の安定な
品質が得られる実用的使用濃度は0.2〜0.5％であ
ると判定した。すなわち、この範囲より希釈度が
うすい場合、十分な耐久性を与える塗布条件が得
られず、逆に濃い場合は吸着力が大になりすぎて
実用上不適当である。 (7) 発明の効果 以上説明したように、本発明の方法によるとき
は、濃度変化率の低いクライトツクスの溶液が得
られ、この溶液を用いるときは、高品質の、耐久
性の高い、吸着力小なる潤滑剤層が得られ、磁気
媒体の信頼性向上に寄与するところ大である。
第１図は沸点とクライトツクス溶解液濃度変化
時間経過の関係を示す線図、第２図は前記溶解液
の塗布性を示す線図、第３図は本発明の溶剤を用
いた場合の濃度とCSSヘツドの耐久回数の関係を
示す線図、第４図は本発明の溶剤とCSSヘツドの
吸着力との関係を示す線図である。
時間経過の関係を示す線図、第２図は前記溶解液
の塗布性を示す線図、第３図は本発明の溶剤を用
いた場合の濃度とCSSヘツドの耐久回数の関係を
示す線図、第４図は本発明の溶剤とCSSヘツドの
吸着力との関係を示す線図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁性鉄粉体を結合剤中に分散せしめてなる磁
気塗料を非磁性基体に塗布し磁性層を形成した後
に磁性層表面に潤滑剤を塗布してなる磁気記録媒
体製造方法であつて、 前記潤滑剤は、パーフロロアルキルポリエーテ
ルを分子式がC7F16またはC8F16Oの何れかの単独
または、これらの混合液からなる高フツ化希釈液
中に希釈した状態で塗布されることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 ２ 前記高フツ化希釈液中へのパーフロロアルキ
ルポリエーテルの希釈濃度が0.2％〜５％である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気記録媒体製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21051981A JPS58114331A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21051981A JPS58114331A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58114331A JPS58114331A (ja) | 1983-07-07 |
| JPS6256574B2 true JPS6256574B2 (ja) | 1987-11-26 |
Family
ID=16590709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21051981A Granted JPS58114331A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58114331A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61126627A (ja) * | 1984-11-26 | 1986-06-14 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5379502A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-14 | Hitachi Ltd | Manufacture of magnetic disk |
| JPS53141003A (en) * | 1977-05-16 | 1978-12-08 | Hitachi Ltd | Production of magnetic disc |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP21051981A patent/JPS58114331A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58114331A (ja) | 1983-07-07 |
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