JPH0274468A - パワーステアリング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、乗物用パワーステアリング装置に係り、とり
わけ、ステアリング荷重と乗物の少な（とも１つの運転
パラメータに応じて流体の流通制御を行なう流体パワー
ステアリング装置に関係している。

（従来の技術） 乗物に使用する流体パワーステアリング装置は周知であ
る。そうした装置の中には、流体貯槽から作動式パワー
ステアリング制御弁を通じてパワーステアリングモータ
に流体を供給する、エンジン被駆動パワーステアリング
ポンプを備えているものがある。ステアリング制御弁は
、乗物のステアリングハンドルの回転に応答して作動さ
れる。

ステアリングモータは、ステアリング制御弁の作動に応
答して乗物のステアリングハンドルの動きを補助してい
る。ポンプは乗物℃エンジンにより駆動される。乗物の
エンジンの速度が増加すればポンプ速度も増加していく
。バイパスフロー制御弁は、ポンプから流体貯槽に余剰
流体を流す働きをする。

バイパス弁を備えた周知の液圧パワーステアリング装置
が米国特許筒４，６９１，７９７号に記載されている。

米国特許筒４，６９１，７９７号のパワーステアリング
装置は、流体貯槽から主要流体導管のフロー制御オリフ
ィスを通じて作動式のオーブンセンター・パワーステア
リング制御弁（ａｃｔｕａｔａｂｌｅ、　ｏｐｅｎ−ｃ
ｅｎｔｅｒ、　ｐｏｗｅｒ　ｓｔｅｅｒｉｎｇｃｏｎｔ
ｒｏｌ　ｖａｌｖｅ）に流体を供給するエンジン被駆動
パワーステアリングポンプを備えている。バイパス弁は
、開放時にはポンプから流体貯槽に余剰流体を送ってい
る。スプリング室内のスプリングはバイパス弁に作用し
、バイパス弁を閉鎖位置に押圧している。またスプリン
グ室内の流体圧力がバイパス弁に作用し、バイパス弁を
閉鎖位置に向けて押圧するようになっている。

米国特許筒４，６９１，７９７号では、ポンプからパイ
ロット流体導管の可変オリフィスを通じ少量のパイロッ
ト流体を流すことにより、流体圧力信号が作り出されて
いる。流体圧力信号はバイパス弁のスプリング室に送ら
れ、バイパス弁を閉鎖位置に向けて押圧する働きをして
いる。パイロット流体導管の可変オリフィスはソレノイ
ド作動弁である。ソレノイド作動弁は、乗物の速度に応
答してパイロット流体導管内の流体の流れを調節する。

乗物の低速時には、ステアリング操作が行なわれるか否
かに関係なく、ソレノイド作動弁は全開の状態にある。

このためバイパス弁は閉鎖位置に向けて押圧され、ステ
アリング制御弁への流体の流量は最大となる。こうして
、乗物の低速時のステアリング操作には最大の動力補助
が行なわれる。

乗物の低速運転中の非ステアリング状況下では、ステア
リング制御弁を通じて多量の流体を流す必要はない。ス
テアリング制御弁に多量の流体を流すことは出力エネル
ギーの無駄使いである。

米国特許筒４，６９１，７９７号のパワーステアリング
装置では、乗物の低速時の非ステアリング状況下でオー
プンセンター・ステアリング制御弁を通じ多量の流体が
流れており、出力エネルギーが不必要に無駄使いされて
いる。

バイパス弁を備えた別の周知のパワーステアリング装置
が、現在継続中の米国特許出願（５ｅｒｉａｌ）第０９
３，８０２号に記載されている。この米国特許出願筒０
９３，８０２号のパワーステアリング装置はエンジン被
駆動パワーステアリングポンプを備えている。このポン
プは、流体計槽から主要流体導管のフロー制御オリフィ
スを通じ、乗物のステアリングハンドルの回転時に作動
するパワーステアリング制御弁に加圧流体を供給してい
る。ステアリング制御弁が作動されると、パワーステア
リング制御弁を通じてパワーステアリングモータに送る
加圧流体の流通需要が高まる。

先の米国特許出願筒０９３，８０２号のパワーステアリ
ング装置では、パイロット流体導管内の可変オリフィス
を少量のパイロット流体が通り抜けることにより、流体
圧力信号が作り出されている。バイパス弁は、この流体
圧力信号に応答して制御される。パイロット流体導管内
の可変オリフィスは圧力応答パイロット弁組立体に連絡
している。圧力応答パイロット弁組立体は、流体需要に
応答してパイロット流体導管内の流体の流れを制御して
いる。流体の需要が高まるにつれ、主要流体導管内の流
体圧力も高まっていく。主要流体導管内の流体圧力が高
まると、圧力応答パイロット弁組立体が開き、増加した
流体圧力信号を送ってバイパス弁を閉鎖位置に向けて押
圧するようにしている。このバイパス弁は、乗物の速度
、横方向加速度、ステアリング車輪の向き、ステアリン
グ車輪の角速度、ヨーイング位置またはスロットル位置
等の乗物の運転パラメータに応答して制御されてはいな
い、しかもこうしたシステム装置では、乗物が低速で運
転されステアリング状態になければ比較的少量の流体が
ステアリング制御弁を通り抜けるようにしている。従っ
て、出力エネルギーの無駄使いは比較的少な（済んでい
る。

本発明は、乗物用パワーステアリング装置に使用するフ
ロー制御装置に関係している。フロー制御装置は、エン
ジン被駆動パワーステアリングモータから作動式のオー
ブンセンター・パワーステアリング制御弁を通じてパワ
ーステアリング装置に送られる液圧流体の流量を制御し
ている。この流量制御は、（ｉ）ステアリング制御弁を
通じてパワーステアリングモータに至る流体需要の関数
として変化する流体圧力信号、および（ｉｉ）乗物の速
度のような乗物の少なくとも１つの運転パラメータの関
数として変化する電気信号に応答して行なわれる。

（課題を解決するための手段） 本発明の好ましい実施例では、バイパス弁がポンプから
貯槽へ流体をバイパスさせている。流体圧力がバイパス
弁を開放位置に向けて押圧している。スプリング室内に
収容されたスプリングがバイパス弁に作用し、バイパス
弁を閉鎖位置に向けて押圧している。スプリング室内の
流体圧力もバイパス弁に作用し、バイパス弁を閉鎖位置
に向けて押圧している。スプリング室内の流体圧力は、
（ｉ゛）主要導管内の流体圧力に応答する圧力応答パイ
ロット弁組立体、および（ｉｉ１乗物の速度を表わす電
気信号に応答するソレノイド作動弁組立体により制御さ
れる。またステアリング制御弁に送られる流体の流量は
、流体需要の関数としてまた乗物の速度の関数として変
化する。

本発明のパワーステアリング装置は、（ｉ）ステアリン
グ荷重が加わるとステアリング制御弁への流体の流れを
増やし、（ｉｉ１乗物の速度が太き（なるにつれてステ
アリング制御弁への流体の流れを減らし、（ｉｉｉ）乗
物が低速で運転されステアリング操作の行なわれていな
い状況下では、ステアリング制御弁への流体の流れを最
少限度に留める働きをしている。流体需要に応答し、ま
た乗物の速度に応答してステアリング制御弁に向う流体
の流れを調節することにより、乗物が低速で運転されて
いても、乗物のステアリング操作が行なわれていない状
況の下でステアリング制御弁に送られていく流体の流量
を比較的少なく保つことができる０乗物が低速で運転さ
れステアリング操作の行なわれていない状況下で、ステ
アリング制御弁に送られる流体の流れをできるだけ少量
にすることにより出力エネルギーの無駄使いが抑えられ
、米国特許筒４，６９１．’７９７号のパワーステアリ
ング装置に比べても大幅に改善されている。従って本発
明は、出力エネルギーの無駄使いのない荷重応答式の速
度比例パワーステアリング装置であると言える。

本発明の前述した目的、他の目的および特徴は、添付図
面に基づいた以下の説明を読めば、本発明の属する技術
分野の当業者にはさらに明らかになる。

（実施例） 第１図は、乗物のステアリング車輪１４．１６の回転動
作を動力補助する乗物用パワーステアリング装置１０を
示している。乗物用パワーステアリング装置１０は、乗
物のステアリングハンドル（図示せず）に加わるステア
リング荷重に応答して、ステアリング車輪１４．１６を
回転操作するパワーステアリング機構１２を備えている
。パワーステアリング機構１２は、ステアリングハンド
ルの回転に合わせて、パワーステアリングモータ２０に
加圧流体を供給する働きのあるオーブンセンター・パワ
ーステアリング制御弁１８を備えている。パワーステア
リングモータ２０は、乗物のステアリングリンク装置２
２より、ステアリング車輪１４．１６に作動連結されて
いる。パワーステアリング機構１２の具体構造は変える
ことができる。本発明に使用可能なパワーステアリング
機構には、１９７１年９月２１日に発行された、「パワ
ーステアリング歯車組立体」を発明の名称とする米国特
許第３，６０６，８１９号に記載されている。必要とあ
らば、その他の周知のパワーステアリング機構を使用す
ることもできる。

エンジン被駆動パワーステアリングモータ２６が、流体
導管２９を通じて流体貯槽２８に流体導通状態に連絡し
ている。ポンプ２６は、加圧流体をパワーステアリング
機構１２に供給している。

ポンプ２６は乗物のエンジン（図示せず）により駆動さ
れ、主要導管３０の第１の導管部分３４に流体を送り出
している。導管部分３４は、ポンプ２６と固定オリフィ
ス３２を流体導通状態に連結している。固定オリフィス
３２は、主要流体導管３０の第２の導管部分３６を通じ
て、ステアリング制御弁１８の入口ボートに流体導通状
態に連結されている。ステアリング制御弁１８の出口ボ
ートは、流体導管３８を通じて流体貯槽２８に流体導通
状態に連結されている。

また導管部分３４は、バイパス弁４０の入口ボートに流
体導通状態に連結されている。バイパス弁４０の出口ボ
ートは、流体導管３３を通じて流体貯槽２８に流体導通
状態に連結されている。バイパス弁４０は、パイロット
導管４２を通じて導管部分３４から送られてくるパイロ
ット流体圧力信号により開放位置に向けて押圧されてい
る。バイパス弁４０のスプリング室４４内の偏倚スプリ
ング４６は、バイパス弁４０を閉鎖位置に向けて押圧し
ている。またスプリング室４４内の流体圧力もバイパス
弁４０を閉鎖位置に向けて押圧している。

第１図と第２図を参照する。主要導管部分３４も、流体
導管３１を通じて圧力応答パイロット弁組立体５０に流
体導通状態に連結されている。圧力応答パイロット弁組
立体５０は、パイロット弁部分５２と逃し弁部分５４を
備えている。パイロット弁部分５２は、円筒状胴体部分
５８と円錐状先端部分６０からなる軸方向テーパービン
５６を備えている。ビン５６の円錐状先端部分６０は、
流体導管３１内の流体圧力に晒されている。ビン５６の
反対側の端部は円筒状スプリング室６２内に配置されて
いる。ビン５６は、スプリング室６２内に配置された偏
倚スプリング６４により、（第１図および第２図で見て
）上向きに押圧されている。

ビン５６の先端部分６０に加わる流体圧力が第１の所定
の流体圧力以下であれば、ビン５６は第１図および第２
図に示す全閉位置を占め、るようになる、ビン５６が全
閉位置にあれば、ビン５６の円筒状胴体部分５８は流体
導管３１と流体導管６６の流体連絡を絶つ。流体導管６
６は、弁組立体５０のパイロット弁部分５２の出口ボー
トに流体導通状態に連結されている。流体導管６６は、
流体導管７６を通じて弁組立体５０の逃し弁部分５４の
入口ボートに流体導通状態に連結されている。バイパス
弁４０は、パイロット導管７４を通じて流体導管７６か
ら送られてくるパイロット流体圧力信号により、閉鎖位
置に向けて押圧されている。

導管部分３４内の流体圧力が高まると、流体導管３１内
の流体圧力は上昇する。その結果、ビン５６の先端部分
６０に加わる流体圧力が増加する。これにより、ビン５
６は図示の全閉位置から開放位置に向けて移動するよう
になる。導管部分３４内の流体圧力が第１の所定の流体
圧力を越える場合、ビン５６が開放位置に向けて移動す
る距離はこの超過量から求められる。ビン５６が全開位
置から開放位置に向けて移動すると、流体導管６６と流
体導管７６内の流体圧力が増加する。これにより、パイ
ロット導管７４を通じてバネ室４４に送られているパイ
ロット流体圧力信号が増大する。その結果、導管部分３
４内の流体圧力が増加すると、バイパス弁４０は閉鎖位
置に向けて押圧される。

パイロット弁部分５２は、開放時に、主要導管３０の導
管部分３４内の流体圧力変動に応答してスプリング室４
４内の流体圧力を調節する。導管部分３４内の流体圧力
は、ステアリング荷重、すなわちパワーステアリングモ
ーター２０の流体圧力の関数として変化する。

この導管内に過剰な流体圧力が発生するのを防ぐために
、流体導管７６内の圧力を逃すことが望ましい。こうし
た作用は、弁組立体５０の逃し弁部分５４が受は持って
いる。逃し弁部分５４は、スプリング６４により全閉位
置に押圧されている逃し弁部材６８を備えている。従っ
て、パイロット弁部分５２と逃し弁部分５４を全開位置
に向けて押圧するのに、偏倚スプリングが１つあれば足
りる。

逃し弁部分５４の゛出ロボートは、流体導管７２を通じ
て固定オリフィス７０に流体導通状態に連結されている
。固定オリフィス７０は、流体導管７８を通じて流体貯
槽２８に流体導通状態に連結されている。流体導管３６
内の流体圧力の上昇は、流体導管８０．８８．７６を通
じて逃し弁部材６８に伝えられる。逃し弁部材６８は、
流体導管７６内の増加流体圧力により開放位置に向けて
押圧される。流体導管７６内の流体圧力が第２の所定の
流体圧力を越えると、逃し弁部材６８は開放位置まで移
動していく。流体導管７６内の流体圧力は、固定オリフ
ィス７０を通じて流体貯槽２８に排圧される。これに伴
って差圧がバイパス弁４０に作用し、バイパス弁は開放
される。

固定オリフィス３２により、この固定オリフィス３２を
通り抜ける流体の流量に比例したパイロット流体圧力信
号が作り出される。このパイロット流体圧力信号は、流
体導管８０を経てソレノイド作動弁組立体２００に伝え
られる。ソレノイド作動弁組立体２００のボートは、流
体導管８８に流体導通状態に連結されている。

ソレノイド弁２００は比例弁であり、パルス幅変調電気
信号により制御される。ソレノイド作動弁組立体２００
の具体例が米国特許筒４．６９１，７９７号に記載され
ている。米国特許筒４，６９１，７９７号に記載された
ソレノイド作動弁組立体について、ここで特許番号を引
用することにより構造の説明に代える。第１図に概略的
に示した弁２００は全開状態にあり、流体導管８０と８
８の間に流体を流すことができる。弁２００を制御すれ
ば、流体導管８８から流体導管８０に流れる流体の流量
を調節することができる。電気制御ユニット２５２が、
乗物の速度センサー２５４とソレノイド弁２００のソレ
ノイド２５６に電気的に接続されている。速度センサー
２５４は、乗物の速度をモニターしこの乗物の速度に比
例した周波数の電気信号を発生する、数多（の周知のセ
ンサーから選択することができる。

電子制御ユニット２５２は速度センサー２５４から受け
た速度信号を処理し、ソレノイド２５６を介して弁２０
０を制御するパルス幅変調制御信号を作り出している。

速度信号を変換して、速度信号に応じた衝撃係数のパル
ス幅変調信号を作り出す技術は周知である。例えば、電
子制御ユニット２５２には、中央処理ユニット　（ＣＰ
Ｕ）と消去可能なプログラムの組める固定記憶装置（Ｅ
ＦＲＯＭＩからなるマイクロコンピュータを組み込むこ
とができる。

ＥＰＲＯＭは、乗物の速度とパルス幅変調制御信号の衝
撃ケースを関連づける変換テーブルを備えている。電子
制御ユニット２５２は、速度センサ−２５４の出力信号
から乗物の速度を求めている。マイクロコンピュータは
、求めた乗物の速度に合わせて変換テーブルから衝撃ケ
ースの値を得るようにしている。パルス幅変調信号発生
器は、変換テーブルから得た値に応じマイクロコンピュ
ータにより制御されている。

電子制御ユニット２５２から送られてくるパルス幅変調
出力信号は一定の周波数を持ち、ＯＮタイムの幅は検知
した乗物の速度に応答して変化する。弁２００の開閉の
程度は、パルス幅変調出力信号のＯＮタイムの比率に応
答している。

流体導管８８は、第１図のＡで示す合流地点で流体導管
６６と流体導管７６に流体導通状態に連結されている。

スプリング室４４内の流体圧力は、合流地点Ａにおける
流体圧力の関数として変化する。合流地点Ａの流体圧力
は、ステアリング荷重と乗物の速度に応答して変化する
。その結果、バイパス弁組立体４０はステアリング荷重
と乗物の速度の変化に応答するようになる。

乗物の低速時に、パルス幅変調制御信号は弁２０を最も
狭まった有効オリフィス径の状態に保っている。弁２０
０が最も狭まった有効オリフィス径の状態にあり、しか
もステアリング操作が行なわれていない状態でエンジン
をアイドリンクしている時期には、合流地点Ａにおける
流体圧力は充分な大きさを持ち、１分あたりほぼ２ガロ
ン分は通すが、ポンプ２６かもパワーステアリング機構
１２に向う流体は、１針当たりほぼ２ガロンを除いて、
バイパス弁４０により流れのすべてをバイパスさせるこ
とができる。ステアリングの行なわれない状況下で乗物
の速度が増加するにつれ、ソレノイド弁２００の有効オ
リフィス径は徐々に拡大していく。乗物の速度が予め決
められた高速に達する時期に、弁２００は全開状態にな
っている。弁２００が開いてい（につれて、有効オリフ
ィス径も拡大していく。ステアリング操作が開始され、
また乗物の速度が増加してい（につれて、弁２００の有
効オリフィス径も拡大していき、合流地点Ａの圧力は低
下する。バイパス弁組立体４０はいっそう開いた状態に
なり、ポンプ２６からの流体の流れのバイパス量は増加
していく。このように、弁２００と電子制御ユニット２
５２を組合わせて使用した結果、乗物の速度が増加する
につれて動力補助機能を低下させることができる。

乗物の速度が比較的低速の時にステアリング操作を行な
う際、ステアリング車輪１４．１６の回転時の抵抗は比
較的大きい。こうした状態が生じると、主要導管３０の
両方の導管部分３４．３６内の流体圧力が大幅に高まる
。主要導管３０の導管部分３４内の流体圧力が高まると
、パイロット弁部分５２を開放位置まで動かすようにな
る。主要導管３０の導管部分３４内の流体圧力は、ステ
アリング車輪１４．１６に加わる荷重に応じ約７００ｐ
ｓｉまで増加してい（。

パイロット弁部分５２を開放位置まで動かすと、導管部
分３４内の流体圧力信号はパイロット弁部分５２を通じ
て流体導管６６に送られる。

この流体圧力信号は、ソレノイド操作弁組立体２００か
ら送られてくる流体導管８８内の流体圧力信号を加減す
る。ソレノイド作動弁２００が乗物の速度に応じて制御
されるため、乗物の速度が変化しない限りソレノイド作
動弁２００の状態はそのままである。従って、導管部分
３４内の流体圧力が増加する結果、速度に変化がなくて
も合流地点Ａの流体圧力を変化させることができる。

合流地点Ａの増加流体圧力は、流体導管７６とパイロッ
ト導管７４を経てバイパス弁４０のスプリング室４４に
送られる。これによりバイパス弁４０は移動し、さらに
閉じた状態になる。バイパス弁４０は閉鎖位置に向けて
押圧されて移動し、流体のバイパス量は減少する。その
結果、ポンプ２６から送られてくる多量の流体の流れを
利用して、比較的低速の時期にステアリング車輪１４．
１６を回転させる際に遭遇する比較的大きな抵抗力に抗
し、このステアリング車輪１４．１６を回転させること
ができる。

前述した説明から明らかなように、ステアリング制御弁
１８に至る流体の流れは、荷重から検知した流体の必要
量に応じて、また乗物の速度等の乗物の少なくとも１つ
の運転パラメータに応じて制御される。乗物がステアリ
ング操作されないまま低速で走行している際、ステアリ
ング制御弁１８に送られる流体の流れは比較的少量に保
たれている。従って、ポンプ２６からステアリング制御
弁１８に送られる流体の流れは最少の状態にある。ステ
アリング操作の行なわれていない低速時にステアリング
制御弁１８に流体を流すことは、出力の無駄使いになっ
ている。従って、乗物のステアリング操作の行なわれな
い低速時に、ステアリング制御弁１８に送られる流体の
流れをできるだけ少なくすれば、出力エネルギーの無駄
使いを防ぐことができる。

以上の説明から明らかなように、出願人は新規で且つ改
良されたパワーステアリング装置を提供しており、また
当業者であればこの装置に適当な変更または修正を加え
ることができる。しかしながら、こうした変更およ、び
修正は特許請求の範囲内に含まれるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明により構成したパワーステアリング装
置の概略図である。 第２図は、第１図のパワーステアリング装置の１２・・
・パワーステアリング機構；１４，１６・・・ステアリ
ング車輪：１８・・・パワーステアリング制御弁；２０
・・・パワーステアリングモータ；２２・・・リンク装
置；２６・・・パワーステアリングポンプ；２８・・・
流体貯槽；２９．３１．３３．３　・・・流体導管；３
０・・・主要導管：３２・・・オリフィス；３４．３６
・・・導管部分、４０・・・バイパス弁；４２・・・パ
イロット導管；４４・・・バイパス弁のスプリング室；
４６・・・偏倚スプリング；５０・・・パイロット弁組
立体；５２・・・パイロット弁部分；５４・・・逃し弁
部分；５６・・・軸方向テーパービン；５８・・・円筒
状胴体部分；６０・・・円錐状先端部分：６２・・・円
筒状スプリング室：６４・・・偏倚スプリング；６６・
・・流体導管；６８・・・逃し弁部材；７０・・・オリ
フィス；７２・・・流体４’ｌ　；　７４・・・パイロ
ット導管；７６・・・流体導管；８０・・・流体導管；
８８・・・流体導管；２００・・・ソレノイド作動弁組
立体：２５２・・・電子制御ユニット；２５４・・・乗
物の速度センサー；２５６・・・ソレノイド＼７４ 日α２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、パワーステアリング制御弁の動作に応答して乗物の
   ステアリング車輪を回転操作することのできる、パワー
   ステアリングモータを備えたパワーステアリング装置に
   して、当該装置は、 ポンプからパワーステアリング制御弁に流体を案内する
   ための主要導管手段と、 当該主要導管手段からの流体をバイパスさせるための、
   開放位置に向けて押圧されているバイパス弁手段と、 開放時に前記主要導管手段内の流体圧力を前記バイパス
   弁手段に伝え、当該バイパス弁手段を閉鎖位置に向けて
   押圧するための第１のパイロット弁手段と、 開放時に前記主要導管手段とバイパス弁手段を連絡し、
   乗物の少なくとも１つの運転パラメータを表わす信号に
   応答して制御される第２のパイロット弁手段とを有して
   いるパワーステアリング装置。 ２、請求項１記載のパワーステアリング装置において、
   さらに、前記主要導管手段内の流体圧力を伝えて前記バ
   イパス弁手段を開放位置に向けて押圧する、パイロット
   導管手段を備えているパワーステアリング装置。 ３、請求項１記載のパワーステアリング装置において、
   前記第１のパイロット弁手段は、前記主要導管手段の流
   体圧力に晒されている表面部分を持つ弁部材と、主要導
   管手段内の流体圧力に抗して前記弁部材を偏倚させるス
   プリングとを備え、当該弁部材は、所定の流体圧力を越
   える前記主要導管手段内の流体圧力に応答して開放位置
   に向けて移動するようなパワーステアリング装置。 ４、請求項１記載のパワーステアリング装置において、
   前記第１のパイロット弁手段は、前記バイパス弁手段を
   閉鎖位置に向けて押圧している流体圧力が所定の流体圧
   力を越える場合、当該バイパス弁手段を閉鎖位置に向け
   て押圧している流体圧力を放出するための圧力逃し弁手
   段を備えているパワーステアリング装置。 ５、請求項１記載のパワーステアリング装置において、
   前記第１のパイロット弁手段は、前記主要導管手段の流
   体圧力に晒されている表面部分を持つ弁部材と、主要導
   管手段内の流体圧力に抗して前記弁部材を偏倚させるス
   プリングとを備え、当該弁部材は、第１の所定の流体圧
   力を越える前記主要導管手段内の流体圧力に応答して開
   放位置に向けて移動し、前記第１のパイロット弁手段は
   、さらに、前記バイパス弁手段を閉鎖位置に向けて押圧
   している流体圧力が所定の流体圧力を越える場合、当該
   バイパス弁手段を閉鎖位置に向けて押圧している流体圧
   力を放出するための圧力逃し弁手段を備えているパワー
   ステアリング装置。 ６、請求項１記載のパワーステアリング装置において、
   前記第２のパイロット弁手段は、作動時に前記バイパス
   弁手段内の流体圧力を前記主要導管手段に伝え、当該バ
   イパス弁手段が開放位置に向けて移動できるようにする
   ソレノイド作動弁と、乗物の速度の変化に応答して前記
   ソレノイド弁を作動させるための手段とを備えているパ
   ワーステアリング装置。 ７、液圧ポンプから液圧パワーステアリング機構に送ら
   れる流体の流れを制御するためのパワーステアリング装
   置にして、当該装置は、 ポンプから送られてくる流体が通り抜けてパワーステア
   リング機構に向けて流れるようにし、通り抜ける流体の
   流量に比例した第１の液圧制御信号を発生するためのオ
   リフィス手段と、 前記第１の液圧制御信号を修正し、乗物の少なくとも１
   つの運転パラメータを表わす信号に応答して第２の液圧
   制御信号を得るための第１の制御手段と、 パイロット流体回路およびこのパイロット流体回路内に
   ある圧力応答弁手段を備えた、前記第２の液圧制御信号
   を修正するための第２の制御手段と、 修正した前記第２の液圧制御信号に応答して、流体の流
   れをステアリング機構を避けてバイパスさせるためのバ
   イパス弁手段とを有しているパワーステアリング装置。 ８、請求項７記載のパワーステアリング装置において、
   前記圧力応答弁手段は、ポンプと前記オリフィス手段の
   間の流体圧力の変化の関数として、前記第２の液圧制御
   信号を変化させる働きをすることのできるパワーステア
   リング装置。 ９、請求項８記載のパワーステアリング装置において、
   前記第２の制御手段は、さらに、前記パイロット流体回
   路内の流体圧力が所定の流体圧力を越えている場合、当
   該パイロット流体回路の排圧を行なう逃し弁手段を備え
   ているパワーステアリング装置。 １０、請求項７記載のパワーステアリング装置において
   、前記第１の制御手段はソレノイド弁を備え、また乗物
   の速度の変化に応答して前記ソレノイド弁を作動させる
   ための手段を備えているパワーステアリング装置。 １１、液圧ポンプから液圧パワーステアリング機構に送
   られる流体の流れを制御するためのパワーステアリング
   装置にして、当該装置は、 ポンプからパワーステアリング機構に流体を案内するた
   めの主要導管手段と、 開放時に当該主要導管手段からの流体をバイパスさせる
   ためのバイパス弁手段と、 乗物が減速する際、乗物の速度を表わす信号に応答して
   第１の流体圧力信号を作り出し、前記バイパス弁手段を
   閉鎖位置に向けて押圧する第１の制御手段と、 前記主要導管手段内の流体圧力の変化に応答して第２の
   流体圧力制御信号を作り出し、前記バイパス弁手段を閉
   鎖位置に向けて押圧する第２の制御手段とを有している
   パワーステアリング装置。 １２、請求項１１記載のパワーステアリング装置におい
   て、前記第１の制御手段は、乗物の速度の増加に応答し
   て閉鎖位置から開放位置へと操作可能な電気制御ソレノ
   イド弁組立体を備えているパワーステアリング装置。 １３、請求項１１記載のパワーステアリング装置におい
   て、前記第２の制御手段は、前記主要導管手段に流体導
   通状態に連結されている圧力応答弁組立体を備え、当該
   圧力応答弁組立体は、前記主要導管手段から伝えられる
   流体圧力の増加の影響を受けて、閉鎖位置から全開位置
   へと操作可能であるパワーステアリング装置。 １４、請求項１３記載のパワーステアリング装置におい
   て、前記第２の制御手段は、さらに、前記バイパス弁手
   段を閉鎖位置に向けて押圧している流体圧力が所定の流
   体圧力を越える場合、バイパス弁手段を閉鎖位置に向け
   て押圧している流体圧力を放出するための逃し弁手段を
   備えているパワーステアリング装置。