JPH0275376A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［〔産業上の利用分野〕 ；　　　本発明は塗布装置、特に大型の液晶表示装置用
ガラス基板上に薄膜を種々のパターンで積層するときの
、写真処理用フォトレジスト層やカラーフィルタ用被染
色層の塗布に好適な塗布装置に関する。

〔従来の技術〕

従来のスピン塗布装置では、基板へのホトレジ・　゛ス
ト塗布、乾燥、裏面洗浄を同一ユニットで連続に処理し
ていた。具体的には、例えば第１図で説明するならば、
ユニット３の同じスピンナー９上ｆ　　に被処理物を置
いて回転させながら塗布、乾燥部【　　び洗浄の一連の
作業を行っていた。なお、この方・　　式の装置は半導
体の製造設備としては極−殻内で【　　ある。

〔発明が解決しようとする１１１ＩＤ）上記従来技術は
、大型の特に角形基板でのスピン塗布の場合（例えば５
インチサイズ以上の液陥表示装置用ガラス基板）、ホト
レジスト塗布面積が大きくなるため、塗布後の乾燥に時
間がかかりすぎ塗布プロセス全体の処理時間を長くする
。そのため装置の処理能力を低下させるという問題があ
った（単位時間当りの処理枚数が塗布、乾燥、洗浄時間
の和に反比例）。

本発明の目的は上記の装置処理能力の低下を回避するこ
とにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の一実施例によれば、塗布、乾燥、裏面洗浄の３
つの作業を別のユニットに分割し、各ユニット間で基板
を連続送りするようにした塗布装置が提供される。

〔作用〕

塗布、乾燥及び洗浄の一連の作業を別ユニットで行なう
ため、時間軸でみるとこれらの作業が平行して行なわれ
るので、従来の直列処理（時間軸で）に比ベスループッ
ト（単位時間当たりの処理能力）が大幅に向上する。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例について説明する。第２図は一
般的なスピン塗布プログラムを示すものであるが、本作
業は通常１つのユニット内で連続して処理するため、ホ
トレジストの塗布量が多くなる大型基板については乾燥
時間が特に長くなり、塗布ユニットでの処理時間が装置
自体のマシンインデックスとなり装置能力の低下につな
がる。

そこで、本発明では第２図のスピン塗布プログラムでの
作業を塗布、乾燥、裏面洗浄と３つの作業に分割し、別
ユニットで処理する。第１図はその構成を示すもので、
ＩＮ側ベルト４で送られてきた基板を塗布ユニット１で
、第２図のｔｏ−ｔｌの処理を行なう。次に乾燥ユニッ
ト２でｔｌ−ｔｚの処理、裏面洗浄ユニット３でｔｚ−
ｔ３の処理を行い、ＯＵＴ側ベルト５に送り出す。なお
、本実施例では乾燥ユニット２で、基板に塗布したホト
レジストの乾燥を促進するために温風又は冷風を基板上
側からフィルタ６を通して吹き付けたが、ホットプレー
トを使っても差支えがない。なお、ベルト４，２及び５
とユニット１及び５との間にはそれぞれ基板のロード、
アンロード機構（搬送機構）があるが図では省略してい
る。塗布ユニット１では、溶媒を含むフォトレジスト等
の有機物がノズル１０から基板へ滴下され、スピンナー
８により基板全体に塗布される。乾燥部６では溶媒を蒸
発させる。洗浄部３では、基板の裏面の端部からノズル
７によって同様な溶媒（例えばシンナー）を噴射させ、
基板の裏面から表面の周辺部と側面部についた余分なフ
ォトレジスト等を再び流動可能な状態として遠心力によ
り飛ばす。

本実施例によれば塗布ユニット１、乾燥ユニット２、裏
面洗浄ユニット３の内一番処理時間の長いユニットによ
り装置のスループットが決まることになるため、スルー
プットが各処理時間の和に反比例する従来装置より処理
能力を向上することができる。

なお、第１図の実施例では乾燥ユニット６における同時
処理枚数が２枚となっている。これは１枚当たりの処理
時間が、塗布が４５秒、乾燥が９０秒、洗浄が５５秒と
、乾燥の時間が他の処理に比べて大幅に大きいためであ
る。従って、同時処理枚数を複数に例えば２枚にすると
、乾燥部６からの基板送り出しサイクルは半分の４５秒
とすることができ、スループットを更に向上させること
ができる。同時処理機構としては、第１図に示すように
、基板９が乾燥部に必要な処理時間留まるようベルトを
徐々に移動させるようにするか、ベルトをユニット１か
らの基板送出タイミングに合わせて間欠駆動する方法が
ある。別な方法としては、乾燥部に基板ポジションを２
つ設ける方法である。

また、乾燥部は１枚処理とし、ユニット１に洗浄ノズル
７を設け、ユニット１で塗布、洗浄を行ない、ユニット
７を省略して装置全体を小型化しても良い。

〔発明の効果〕

本発明の実施例によれば、１ユニツトで処理していた従
来の塗布プロセスを３分割できるので、装置のインデッ
クス・アップが図れ、そのため装置能力 を向上できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のユニット構成図、第２図は
一般的なスピン塗布プログラムである。 １・・・塗布ユニット、２・・・乾燥ユニット、３・・
・裏面洗浄ユニット、４・・・ＩＮ側ベルト、５・・・
ＯＵＴ側ベルト、６・・・フィルタ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被処理物に処理液を供給し、該被処理物を回転させ
   るスピンナーを有する塗布部と、上記被処理物上に塗布
   された処理液を乾燥させるための乾燥部と、上記塗布部
   から上記乾燥部へ上記被処理物を搬送させる機構とを具
   備して成ることを特徴とする塗布装置。 ２、塗布部、乾燥部及び洗浄部を具備して成り、上記塗
   布部及び上記洗浄部はそれぞれスピンナーを有し、上記
   塗布部と上記乾燥部間及び上記乾燥部と上記洗浄部間の
   それぞれに搬送機構を設けたことを特徴とする塗布装置
   。 ３、上記塗布部は被処理物を１個ずつ処理し、１個当り
   の処理時間が上記乾燥部の方が上記塗布部より長く、上
   記乾燥部では上記被処理物を複数個同時に処理できるよ
   うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第
   ２項記載の塗布装置。 ４、上記被処理物は四角形状の液晶表示装置用ガラス基
   板を含むものであることを特徴とする特許請求の範囲第
   ３項記載の塗布装置。