JPH027656Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH027656Y2 JPH027656Y2 JP679384U JP679384U JPH027656Y2 JP H027656 Y2 JPH027656 Y2 JP H027656Y2 JP 679384 U JP679384 U JP 679384U JP 679384 U JP679384 U JP 679384U JP H027656 Y2 JPH027656 Y2 JP H027656Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glazing
- glaze
- substrate
- nozzle
- roof
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
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- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Spray Control Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は施釉用素地、例えばタイル素地の施釉
量を調整するための2個の遮へい板を有する施釉
装置に関する。
量を調整するための2個の遮へい板を有する施釉
装置に関する。
従来、タイル等の施釉用素地への施釉は、搬送
用ベルトで搬送されたタイルに対し、施釉器具に
備えられたコツクの調整によつて量を調整してい
た。このコツクの開閉によつて施釉ノズルからの
施釉量を調整する欠点は、斑点掛けをタイル表面
に施す場合には、コツクの開閉弁を閉じる方向に
してノズルからの施釉量を少なくすることにより
行うが、釉の流量が少なくなるとノズル先端付近
に釉のたまりを生じ、ノズルの閉塞を引起すこと
である。全面に施釉する場合にも、該コツクの開
閉による微妙な調整は困難である。
用ベルトで搬送されたタイルに対し、施釉器具に
備えられたコツクの調整によつて量を調整してい
た。このコツクの開閉によつて施釉ノズルからの
施釉量を調整する欠点は、斑点掛けをタイル表面
に施す場合には、コツクの開閉弁を閉じる方向に
してノズルからの施釉量を少なくすることにより
行うが、釉の流量が少なくなるとノズル先端付近
に釉のたまりを生じ、ノズルの閉塞を引起すこと
である。全面に施釉する場合にも、該コツクの開
閉による微妙な調整は困難である。
かかる欠点を克服するために本考案者等は種々
研究した結果、搬送施釉用素地上に屋根状の1対
の遮へい板を間隔をおいて設置することにより、
施釉ノズルからの釉流量を変えることなく該素地
上の施釉量を調整し得えることを見出し、本考案
に至つた。
研究した結果、搬送施釉用素地上に屋根状の1対
の遮へい板を間隔をおいて設置することにより、
施釉ノズルからの釉流量を変えることなく該素地
上の施釉量を調整し得えることを見出し、本考案
に至つた。
従つて、本考案の主目的は、従来の欠点を克服
した施釉装置、特に外装タイル等の施釉用素地の
斑点模様施釉に適した施釉装置を提供することで
ある。
した施釉装置、特に外装タイル等の施釉用素地の
斑点模様施釉に適した施釉装置を提供することで
ある。
本考案は、施釉用素地3を継続して搬送して該
素地搬送手段4の上方に設置された施釉ノズル5
から該素地に施釉する施釉装置において、釉剤が
拡がる範囲内の該ノズル5の下方且つ該素地3の
上方の位置に、遮へいした釉剤を該素地の搬送方
向(矢印)と実質的に直交する方向に流下させる
に充分な傾斜角度にて互いに反対方向に傾斜した
二つの傾斜面を有する屋根状遮へい板1,22個
を、該屋根の棟7,8が該搬送方向と実質的に平
行となるように間隔dをおいて設置し、該間隔の
調節により該素地への施釉量を調整することを特
徴とする施釉装置である。
素地搬送手段4の上方に設置された施釉ノズル5
から該素地に施釉する施釉装置において、釉剤が
拡がる範囲内の該ノズル5の下方且つ該素地3の
上方の位置に、遮へいした釉剤を該素地の搬送方
向(矢印)と実質的に直交する方向に流下させる
に充分な傾斜角度にて互いに反対方向に傾斜した
二つの傾斜面を有する屋根状遮へい板1,22個
を、該屋根の棟7,8が該搬送方向と実質的に平
行となるように間隔dをおいて設置し、該間隔の
調節により該素地への施釉量を調整することを特
徴とする施釉装置である。
上記の屋根状遮へい板1,2の最も簡単な形体
は、板をある角度に折り曲げて得られるような、
二つの傾斜面から構成される板である。該傾斜面
は、釉を施釉用素地の搬送方向と実質的に直交す
る方向に流下させ得る傾斜を有する限り、湾曲し
ていてもよく、あるいは多段に折り曲つていても
よい。施釉ノズル5から噴出されそして該屋根状
の遮へい板上に当つた釉剤を該素地搬送方向と、
実質的に直交する方向に流下させるためには、該
屋根状遮へい板を構成する二つの傾斜面の各傾斜
角度θは屋根頂点において15゜〜45゜程度にて傾斜
している(水平の場合θ=0゜)。実用的には二つ
の傾斜面の各傾斜角度θは約30゜(従つて屋根の頂
角は約120゜)である。傾斜角度θが大きすぎる
と、搬送される施釉用素地の幅を充分におおうた
めに屋根を長くしなければならず、また施釉の均
一性も問題となる。一方傾斜角度θが小さすぎる
と、屋根に当つた釉剤がその粘性により流下しに
くくなる。なお、上記傾斜面が湾曲する場合に
は、該面上を釉剤が該素地搬送方向と実質的に直
交する方向に流下する程度に該面が湾曲していれ
ばよい。また該傾斜面が多段に折り曲つた多角状
の屋根状遮へい板を形成する場合には、釉剤が該
面上を流下するが該素地上には流下しないような
角度に折り曲つていればよい。
は、板をある角度に折り曲げて得られるような、
二つの傾斜面から構成される板である。該傾斜面
は、釉を施釉用素地の搬送方向と実質的に直交す
る方向に流下させ得る傾斜を有する限り、湾曲し
ていてもよく、あるいは多段に折り曲つていても
よい。施釉ノズル5から噴出されそして該屋根状
の遮へい板上に当つた釉剤を該素地搬送方向と、
実質的に直交する方向に流下させるためには、該
屋根状遮へい板を構成する二つの傾斜面の各傾斜
角度θは屋根頂点において15゜〜45゜程度にて傾斜
している(水平の場合θ=0゜)。実用的には二つ
の傾斜面の各傾斜角度θは約30゜(従つて屋根の頂
角は約120゜)である。傾斜角度θが大きすぎる
と、搬送される施釉用素地の幅を充分におおうた
めに屋根を長くしなければならず、また施釉の均
一性も問題となる。一方傾斜角度θが小さすぎる
と、屋根に当つた釉剤がその粘性により流下しに
くくなる。なお、上記傾斜面が湾曲する場合に
は、該面上を釉剤が該素地搬送方向と実質的に直
交する方向に流下する程度に該面が湾曲していれ
ばよい。また該傾斜面が多段に折り曲つた多角状
の屋根状遮へい板を形成する場合には、釉剤が該
面上を流下するが該素地上には流下しないような
角度に折り曲つていればよい。
本考案の施釉装置の一例を第1図に示す。
第1図に示す本考案による施釉装置例は、施釉
用素地3を搬送するための搬送用ベルト4、該搬
送手段の実質的に真上に設置された施釉ノズル5
および搬送方向(矢印にて示す)に沿つて所定の
間隔dをおいて、素地3の上方且つ施釉ノズル5
の下方の、噴出した釉剤6が拡がる範囲の位置に
設置された2個の屋根状遮へい板1,2を有す
る。屋根状遮へい板1,2は夫々の屋根の棟7,
8が搬送手段4の実質的に真上の位置に搬送用ベ
ルト4と平行となるよう且つ遮へい板1,2の
夫々の二つの傾斜面が実質的に同じ傾斜角度θと
なるように、搬送用ベルト4と平行に設置された
2本の支持体(ポール)9,9′により支持され
ている。また二つの遮へい板1,2はそれらの間
隔dにより形成される素地3の釉塗布帯域がノズ
ル5の下方の釉剤が通過する領域となるような位
置に置かれている。
用素地3を搬送するための搬送用ベルト4、該搬
送手段の実質的に真上に設置された施釉ノズル5
および搬送方向(矢印にて示す)に沿つて所定の
間隔dをおいて、素地3の上方且つ施釉ノズル5
の下方の、噴出した釉剤6が拡がる範囲の位置に
設置された2個の屋根状遮へい板1,2を有す
る。屋根状遮へい板1,2は夫々の屋根の棟7,
8が搬送手段4の実質的に真上の位置に搬送用ベ
ルト4と平行となるよう且つ遮へい板1,2の
夫々の二つの傾斜面が実質的に同じ傾斜角度θと
なるように、搬送用ベルト4と平行に設置された
2本の支持体(ポール)9,9′により支持され
ている。また二つの遮へい板1,2はそれらの間
隔dにより形成される素地3の釉塗布帯域がノズ
ル5の下方の釉剤が通過する領域となるような位
置に置かれている。
各遮へい板の寸法、施釉ノズルからの釉流量、
釉の拡がる範囲、施釉用素地の寸法、該遮へい板
の設置位置等は、適宜変えることができる。これ
らは本考案の開示にもとづいて当業者が容易に選
定できる。
釉の拡がる範囲、施釉用素地の寸法、該遮へい板
の設置位置等は、適宜変えることができる。これ
らは本考案の開示にもとづいて当業者が容易に選
定できる。
二つの遮へい板1,2の間隔dを変えることに
より施釉量を、施釉ノズル5からの釉流量を変え
ることなく、容易に変化させることができる。間
隔dは意図とする施釉模様、素地への施釉量、ノ
ズルからの釉流量等によつて変化する。斑点模様
に施釉する場合には、間隔dを小さく(例えば5
〜20mm)する。流し掛け模様(全面施釉)を得る
場合は、dを比較的大きくすればよい。
より施釉量を、施釉ノズル5からの釉流量を変え
ることなく、容易に変化させることができる。間
隔dは意図とする施釉模様、素地への施釉量、ノ
ズルからの釉流量等によつて変化する。斑点模様
に施釉する場合には、間隔dを小さく(例えば5
〜20mm)する。流し掛け模様(全面施釉)を得る
場合は、dを比較的大きくすればよい。
上記の遮へい板の材質は特に限定されないが、
耐食性材料、例えばステンレス鋼等、から成るの
が好ましい。
耐食性材料、例えばステンレス鋼等、から成るの
が好ましい。
第2図の断面略図に例示するように、本考案の
装置の釉剤が飛散する範囲、すなわち施釉ノズ
ル、遮へい板、および施釉用素地等には、これら
全体を囲う覆い等の外装10、例えば透明プラス
チツク板またはシール等からなる外装10を設置
するのが望ましい。更に第2図に例示するよう
に、遮へい板を流下した余分な釉剤13を回収す
るための回収手段11,12を設けることが普通
である。釉剤は実質的に不揮発性であるので、該
回収手段によつて容易に回収できる。
装置の釉剤が飛散する範囲、すなわち施釉ノズ
ル、遮へい板、および施釉用素地等には、これら
全体を囲う覆い等の外装10、例えば透明プラス
チツク板またはシール等からなる外装10を設置
するのが望ましい。更に第2図に例示するよう
に、遮へい板を流下した余分な釉剤13を回収す
るための回収手段11,12を設けることが普通
である。釉剤は実質的に不揮発性であるので、該
回収手段によつて容易に回収できる。
更に、第3図の斜視略図に例示するように一方
又は両方の遮へい板の片側に垂直板14を設け、
該垂直板14が他方の遮へい板の位置と反対側と
なるように設置することにより、施釉帯域以外で
施釉用素地に釉剤が掛かるのをより完全に防止す
ることもできる。
又は両方の遮へい板の片側に垂直板14を設け、
該垂直板14が他方の遮へい板の位置と反対側と
なるように設置することにより、施釉帯域以外で
施釉用素地に釉剤が掛かるのをより完全に防止す
ることもできる。
以下に本考案による施釉装置の具体例を示す。
例 1
第1〜2図に示すように、固定された施釉ノズ
ル5の下方200mmそして搬送用ベルト4上の施釉
用素地3の上方200mmの位置に、水平に置かれた
平行な2本のポール9,9′にて、一枚のステン
レス鋼板を頂角120゜にて折りまげた形状の2個の
遮へい板1,2を支持し、施釉ノズル5、遮へい
板1,2および施釉用素地3等を透明プラスチツ
ク製外装10で囲んだ施釉装置が例示される。該
外装10の下部には遮へい板1,2から流下した
釉剤13を受ける受板11およびそれに接続する
回収口12が設けられている。
ル5の下方200mmそして搬送用ベルト4上の施釉
用素地3の上方200mmの位置に、水平に置かれた
平行な2本のポール9,9′にて、一枚のステン
レス鋼板を頂角120゜にて折りまげた形状の2個の
遮へい板1,2を支持し、施釉ノズル5、遮へい
板1,2および施釉用素地3等を透明プラスチツ
ク製外装10で囲んだ施釉装置が例示される。該
外装10の下部には遮へい板1,2から流下した
釉剤13を受ける受板11およびそれに接続する
回収口12が設けられている。
例 2
例1における二つの屋根状遮へい板において、
施釉用素地の入口側の遮へい板1の片側(入口
側)に垂直板14を設けた(第3図参照)、例1
の施釉装置の改良型が例示される。施釉ノズル5
からの釉量が多い場合、施釉用素地3が二つの遮
へい板の間隙を通過する前に施釉されるのをより
良く防止できる。
施釉用素地の入口側の遮へい板1の片側(入口
側)に垂直板14を設けた(第3図参照)、例1
の施釉装置の改良型が例示される。施釉ノズル5
からの釉量が多い場合、施釉用素地3が二つの遮
へい板の間隙を通過する前に施釉されるのをより
良く防止できる。
例 3
例1において、第2図における施釉ノズル5が
搬送方向と直交する面内で矢印のように左右に振
れる(いわゆる首振りの)態様が例示される。こ
れによつて、例えば施釉の均一化等の利点が得ら
れる。
搬送方向と直交する面内で矢印のように左右に振
れる(いわゆる首振りの)態様が例示される。こ
れによつて、例えば施釉の均一化等の利点が得ら
れる。
なお、本考案を簡略化して遮へい板を一つとす
ることもできる。その場合には施釉量の多い斑点
模様又は通常の流し掛け模様の全面施釉用素地が
得られる。
ることもできる。その場合には施釉量の多い斑点
模様又は通常の流し掛け模様の全面施釉用素地が
得られる。
本考案の施釉装置によれば、施釉ノズルからの
釉量を少なくすることなく施釉素地表面上の施釉
量を少なくできる。その結果、安定した状態にて
該ノズルの閉塞等のトラブルを引き起すことなく
斑点模様又は薄い霧掛け模様の施釉素地、例えば
外装用施釉タイル、を得ることができる。また、
施釉上のトラブルで施釉を中断する場合には、該
ノズルを閉鎖することなく単に一対の遮へい板上
に別の遮へい板を置いて間隔dを塞ぐことによ
り、該素地上への施釉を止めることができる。
釉量を少なくすることなく施釉素地表面上の施釉
量を少なくできる。その結果、安定した状態にて
該ノズルの閉塞等のトラブルを引き起すことなく
斑点模様又は薄い霧掛け模様の施釉素地、例えば
外装用施釉タイル、を得ることができる。また、
施釉上のトラブルで施釉を中断する場合には、該
ノズルを閉鎖することなく単に一対の遮へい板上
に別の遮へい板を置いて間隔dを塞ぐことによ
り、該素地上への施釉を止めることができる。
本考案の装置は流し掛け模様の施釉素地にも有
利に適用できるが、特に斑点模様の場合に顕著な
効果を示す。
利に適用できるが、特に斑点模様の場合に顕著な
効果を示す。
第1図は、本考案による施釉装置の一例を示す
斜視略図である。第2図は、例1における施釉装
置の搬送方向に直交する断面略図である。第3図
は、例2における一方の遮へい板の斜視略図であ
る。 1,2……遮へい板、3……施釉用素地、4…
…搬送用ベルト、5……施釉ノズル、10……外
装、14……垂直板。
斜視略図である。第2図は、例1における施釉装
置の搬送方向に直交する断面略図である。第3図
は、例2における一方の遮へい板の斜視略図であ
る。 1,2……遮へい板、3……施釉用素地、4…
…搬送用ベルト、5……施釉ノズル、10……外
装、14……垂直板。
Claims (1)
- 施釉用素地を継続して搬送して該素地搬送手段
の上方に設置された施釉ノズルから該素地に施釉
する施釉装置において、釉剤が拡がる範囲内の該
ノズルの下方且つ該素地の上方の位置に、遮へい
した釉剤を該素地の搬送方向と実質的に直行する
方向に流下させるに充分な傾斜角度にて互いに反
対方向に傾斜した二つの傾斜面を有する屋根状遮
へい板2個を、該屋根の棟を該搬送方向と実質的
に平行にして間隔をおいて設置し、該間隔によつ
て施釉量を調整することを特徴とする施釉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP679384U JPS60119965U (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 施釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP679384U JPS60119965U (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 施釉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119965U JPS60119965U (ja) | 1985-08-13 |
| JPH027656Y2 true JPH027656Y2 (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=30484562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP679384U Granted JPS60119965U (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 施釉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119965U (ja) |
-
1984
- 1984-01-20 JP JP679384U patent/JPS60119965U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60119965U (ja) | 1985-08-13 |
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