JPH0278510A - 光ディスク基板の製造法 - Google Patents
光ディスク基板の製造法Info
- Publication number
- JPH0278510A JPH0278510A JP23066888A JP23066888A JPH0278510A JP H0278510 A JPH0278510 A JP H0278510A JP 23066888 A JP23066888 A JP 23066888A JP 23066888 A JP23066888 A JP 23066888A JP H0278510 A JPH0278510 A JP H0278510A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- glass
- mold
- stamper
- outer circumferential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光で読みとる方式のディスク基板、特にデジ
タル、オーディオディスク、ビデオディスク、メモリー
ディスク等の光デイスク基板に関する。
タル、オーディオディスク、ビデオディスク、メモリー
ディスク等の光デイスク基板に関する。
光ディスクの製造法には、ポリカーボネート樹脂、ポリ
メチルメタクリレート樹脂を射出成形する方法、またガ
ラス、エポキシ樹脂の平板上に光硬化樹脂により情報、
溝を形成する２Ｐ法がある。
メチルメタクリレート樹脂を射出成形する方法、またガ
ラス、エポキシ樹脂の平板上に光硬化樹脂により情報、
溝を形成する２Ｐ法がある。
しかしながら、これらの方法において、射出成形法では
光学歪、耐溶性などに問題があり、２Ｐ法では生産性、
溝部密着性などに問題があった。
光学歪、耐溶性などに問題があり、２Ｐ法では生産性、
溝部密着性などに問題があった。
そこで、これらの問題点を解決する方法として、特開昭
５５−１６０３３８号公報、特開昭６０−１１２４０９
号公報、特開昭６０−２０２５５７号公報に示されてい
るように型内の樹脂を光硬化反応により硬化させてディ
スク基板を製造する方法が提案されている。
５５−１６０３３８号公報、特開昭６０−１１２４０９
号公報、特開昭６０−２０２５５７号公報に示されてい
るように型内の樹脂を光硬化反応により硬化させてディ
スク基板を製造する方法が提案されている。
この方法によれば、樹脂は光により秒単位で硬化するた
め生産性に優れ、また、三次元架橋するため耐溶剤性、
耐熱性などに優れる方法である。
め生産性に優れ、また、三次元架橋するため耐溶剤性、
耐熱性などに優れる方法である。
その上、光学歪の点においても低粘度の樹脂を低圧で型
内に注入するため、樹脂の流動による歪の発生を低減さ
せることができる。しかしながら、光により象、激に樹
脂が硬化するため硬化収縮による歪の発生が大きくこの
点で若干光学歪が大きくなる問題があった。
内に注入するため、樹脂の流動による歪の発生を低減さ
せることができる。しかしながら、光により象、激に樹
脂が硬化するため硬化収縮による歪の発生が大きくこの
点で若干光学歪が大きくなる問題があった。
本発明は光学歪みが特に小さく、耐熱性、耐溶剤性に優
れる光デイスク基板を、光硬化により短時間に成形する
ことができる光デイスク基板の製造法を提供することを
目的とする。
れる光デイスク基板を、光硬化により短時間に成形する
ことができる光デイスク基板の製造法を提供することを
目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結
果、これら光学歪の発生原因は、成形品部分と外周部分
の肉厚が異なるため両者の厚み方向での硬化速度に差が
生じるためと考え、これら問題点の解決方法として次の
３つの方法を見出し、本発明を完成するに至った。
果、これら光学歪の発生原因は、成形品部分と外周部分
の肉厚が異なるため両者の厚み方向での硬化速度に差が
生じるためと考え、これら問題点の解決方法として次の
３つの方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の光硬化ディスク基板の製造法は下型
がガラス製スタンパ、上型がガラス板から成り、成形デ
ィスクの外径を形成するための外周リングが該ガラスス
タンパ上又は該ガラススタンパの外周に設置されている
型内に、光硬化性樹脂を注入し、上下両側から光硬化を
行いディスク基板を成形する方法において、前記外周リ
ングの材質が曲げ弾性率５〜５０ｋｇ／ｍ”の比較的柔
らかいものを用い硬化収縮時に発生する応力を緩和した
り、また、前記外周リングの形状がガラススタンパの成
形面より低い底面の凹部を有する構造として外周リング
上の樹脂を取り除いたり、また、前記外周リングの真上
にあたる上型ガラス板の内面の外周部分に金属蒸着処理
又は着色処理等のマスキングをおこない外周リング上の
樹脂の硬化速度を成形品部分の硬化速度に比べ遅くする
ことにより、成形品部分とディスク外周部分の硬化速度
に差が生じないようにして光学歪みを除去したものであ
る。
がガラス製スタンパ、上型がガラス板から成り、成形デ
ィスクの外径を形成するための外周リングが該ガラスス
タンパ上又は該ガラススタンパの外周に設置されている
型内に、光硬化性樹脂を注入し、上下両側から光硬化を
行いディスク基板を成形する方法において、前記外周リ
ングの材質が曲げ弾性率５〜５０ｋｇ／ｍ”の比較的柔
らかいものを用い硬化収縮時に発生する応力を緩和した
り、また、前記外周リングの形状がガラススタンパの成
形面より低い底面の凹部を有する構造として外周リング
上の樹脂を取り除いたり、また、前記外周リングの真上
にあたる上型ガラス板の内面の外周部分に金属蒸着処理
又は着色処理等のマスキングをおこない外周リング上の
樹脂の硬化速度を成形品部分の硬化速度に比べ遅くする
ことにより、成形品部分とディスク外周部分の硬化速度
に差が生じないようにして光学歪みを除去したものであ
る。
なお曲げ弾性率が５〜１０ｋｇ／ｍｍ”に対応する材料
としては各種熱可塑性樹脂あるいは各種エラストマがあ
る。
としては各種熱可塑性樹脂あるいは各種エラストマがあ
る。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例Ｌ２．３
光硬化性樹脂として、２．２−ビス（４−メタクリロキ
シエトキシフェニル）プロパン１００重量部及び１−（
４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロパン−１−オン、２重量部からなる樹脂組成物
を第１．２及び３図に示す様な、上側がガラス板、下側
がガラススタンパ及び外周リングから成る型内に注入し
、上、下両側から１００ｒａＨ／ｃ１ａの紫外線を３０
秒間照射し基板を得た。この基板を用いてリターデーシ
ョンの測定を行ったところ第５及び６図に示す様に低減
することができた。
シエトキシフェニル）プロパン１００重量部及び１−（
４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロパン−１−オン、２重量部からなる樹脂組成物
を第１．２及び３図に示す様な、上側がガラス板、下側
がガラススタンパ及び外周リングから成る型内に注入し
、上、下両側から１００ｒａＨ／ｃ１ａの紫外線を３０
秒間照射し基板を得た。この基板を用いてリターデーシ
ョンの測定を行ったところ第５及び６図に示す様に低減
することができた。
第１図、第２図及び第３図において１は上型ガラス板、
２はガラス製スタンパ、３は外周リング、４は硬化樹脂
、５はセンタビンである。
２はガラス製スタンパ、３は外周リング、４は硬化樹脂
、５はセンタビンである。
第１図では外周リングとして曲げ弾性率２０ｋｇ／ｆｆ
ｌｌ１１２のシリコーンゴムリング（幅１０間、厚み１
ｍｍ）を用いた。
ｌｌ１１２のシリコーンゴムリング（幅１０間、厚み１
ｍｍ）を用いた。
第２図では外周リングとして５ＵＳ３０４製の幅７胴、
深さ５ＩＩｉｌの凹部を有するリング（幅１０鵬、厚み
１ｍｍ）を用いた。
深さ５ＩＩｉｌの凹部を有するリング（幅１０鵬、厚み
１ｍｍ）を用いた。
第３図では、外周リングとして５ＵＳ３０４製のリング
（幅１０胴、厚みｌｏｗ）を用い、リングの真上のガラ
ス板の外周を幅５ＩＩＩｆｆｉにアルミ蒸着膜６を設け
た。
（幅１０胴、厚みｌｏｗ）を用い、リングの真上のガラ
ス板の外周を幅５ＩＩＩｆｆｉにアルミ蒸着膜６を設け
た。
リターデーションは厚さ１．２胴の基板に８３０ｎｍの
光をあてて複屈折率を求め、リターデーションを測定し
た。結果を第５図及び第６図中に示す。
光をあてて複屈折率を求め、リターデーションを測定し
た。結果を第５図及び第６図中に示す。
比較例１及び比較例２
比較例として、射出成形法によるポリカーボネート樹脂
製基板（比較例１）及び実施例１〜３に示す光硬化性樹
脂及び第４図に示すステンレス（ＳＵＳ３０４）製外周
リング（幅１０ｍｎ＋、厚みｉｎ＋ａ）を用いて成形し
た基板（比較例２）のりタープ−ジョンについて測定し
た結果を第５図及び第６図中に示す。
製基板（比較例１）及び実施例１〜３に示す光硬化性樹
脂及び第４図に示すステンレス（ＳＵＳ３０４）製外周
リング（幅１０ｍｎ＋、厚みｉｎ＋ａ）を用いて成形し
た基板（比較例２）のりタープ−ジョンについて測定し
た結果を第５図及び第６図中に示す。
本発明の製造法により得られた光デイスク基板は、光学
歪（リターデーション）が特に小さく、耐熱性、耐溶剤
性に優れている。また、本発明の製造法は光硬化により
短時間で成形出来るので、生産性が著しく優れている。
歪（リターデーション）が特に小さく、耐熱性、耐溶剤
性に優れている。また、本発明の製造法は光硬化により
短時間で成形出来るので、生産性が著しく優れている。
第Ｌ２．３及び４図はディスク基板注型用型の断面図で
ある。第５図及び第６図は本発明の実施例及び比較例の
基板のリタデーションの測定結果を示すグラフである。 符号の説明 １ 上型ガラス板 ２ ガラス製スタンパ３ 外周
リング ４ 樹脂
ある。第５図及び第６図は本発明の実施例及び比較例の
基板のリタデーションの測定結果を示すグラフである。 符号の説明 １ 上型ガラス板 ２ ガラス製スタンパ３ 外周
リング ４ 樹脂
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下型がガラス製スタンパ、上型がガラス板から成り
、成形ディスクの外径を形成するための外周リングが該
ガラススタンパ上又は該ガラススタンパの外周に設置さ
れている型内に、光硬化性樹脂を注入し、上下両側から
光硬化を行いディスク基板を成形する方法において、前
記外周リングの材質が曲げ弾性率５〜５０ｋｇ／ｍｍ＾
２であることを特徴とする光硬化ディスク基板の製造法
。 ２、下型がガラス製スタンパ、上型がガラス板から成り
、成形ディスクの外径を形成するための外周リングが該
ガラススタンパ上又は該ガラススタンパの外周に設置さ
れている型内に、光硬化性樹脂を注入し、上下両側から
光硬化を行いディスク基板を成形する方法において、前
記外周リングの形状がガラススタンパの成形面より低い
底面の凹部を有する構造であることを特徴とする光硬化
ディスク基板の製造法。 ３、下型がガラス製スタンパ、上型がガラス板から成り
、成形ディスクの外径を形成するための外周リングが該
ガラススタンパ上又は該ガラススタンパの外周に設置さ
れている型内に、光硬化性樹脂を注入し、上下両側から
光硬化を行いディスク基板を成形する方法において、前
記外周リングの真上にあたる上型ガラス板の内面の外周
部分が金属蒸着処理又は着色処理されていることを特徴
とする光硬化ディスク基板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23066888A JPH0278510A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 光ディスク基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23066888A JPH0278510A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 光ディスク基板の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0278510A true JPH0278510A (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=16911427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23066888A Pending JPH0278510A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 光ディスク基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0278510A (ja) |
-
1988
- 1988-09-14 JP JP23066888A patent/JPH0278510A/ja active Pending
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