JPH02792A - トリアリールホスフェート、その製造方法及び難燃剤としての使用方法 - Google Patents
トリアリールホスフェート、その製造方法及び難燃剤としての使用方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5317—Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なトリアリールホスフェート、それらの製
造方法及び難燃剤としてのポリマーのためのそれらの使
用方法に関す/)。
造方法及び難燃剤としてのポリマーのためのそれらの使
用方法に関す/)。
応力亀裂ハ難燃剤としてトリアリールホスフェート?含
有する射出成形ポリマー中に現われつる現象である。こ
の問題を抱えるポリマーのひとつのタイプはポリフェニ
レンオキシド型、特に閤品名ノリル(Noryl)で販
売されているようなポリフェニレンオキシドと耐衝撃性
ポリスチレンとのブレンドである。
有する射出成形ポリマー中に現われつる現象である。こ
の問題を抱えるポリマーのひとつのタイプはポリフェニ
レンオキシド型、特に閤品名ノリル(Noryl)で販
売されているようなポリフェニレンオキシドと耐衝撃性
ポリスチレンとのブレンドである。
ある成形条件下で、難燃剤またに通常複合混合物である
トリアリールホスフェートのようなその成分を揮発1せ
、そして次に射出成形品上に凝縮して液状フィルムを得
ることが可能である。これは”ジュース化”と呼ば、れ
るウ この液状フィルムの形成は、特に繻い応力集中が
ある成形体上の箇所に発生する応力亀裂に至らせうる。
トリアリールホスフェートのようなその成分を揮発1せ
、そして次に射出成形品上に凝縮して液状フィルムを得
ることが可能である。これは”ジュース化”と呼ば、れ
るウ この液状フィルムの形成は、特に繻い応力集中が
ある成形体上の箇所に発生する応力亀裂に至らせうる。
発明者等は応力亀裂の発生を減少もしくは取り除くトリ
アリールホスフェートを製造L7’C。
アリールホスフェートを製造L7’C。
すなわち本発明に、フェノールとイソプロピル化剤を接
触させて、フェノール部分の重量をベーストシてイソプ
ロピル部分を5ないし65重ii傷wするイソプロピル
化フェノールtn造し、インプロピル化フェノールとパ
ラアルキルフェノール(アルキル基は第三ブチル基もし
くは炭素原子数5ないし12のアルキル基を表わす。)
を10:1ないし1:10の重量比で混合し、セしてフ
ェノールの混合物全リン酸化することにより製造される
トリアリールホスフェートを提供する・ イソプロピル化フェノールに、プロピノンのような適す
るイソプロピル化剤を使用して慣用のフリーデルクラフ
ト方法で製造してもよい。
触させて、フェノール部分の重量をベーストシてイソプ
ロピル部分を5ないし65重ii傷wするイソプロピル
化フェノールtn造し、インプロピル化フェノールとパ
ラアルキルフェノール(アルキル基は第三ブチル基もし
くは炭素原子数5ないし12のアルキル基を表わす。)
を10:1ないし1:10の重量比で混合し、セしてフ
ェノールの混合物全リン酸化することにより製造される
トリアリールホスフェートを提供する・ イソプロピル化フェノールに、プロピノンのような適す
るイソプロピル化剤を使用して慣用のフリーデルクラフ
ト方法で製造してもよい。
該反応はフリーデルクラフト触媒または飯性白土の存在
下で高められfC,@[、例えば約140℃で実施して
もよい。アルキル化の十分な記Itil!は、ドイツ連
邦特許第1146173号t−参照する。
下で高められfC,@[、例えば約140℃で実施して
もよい。アルキル化の十分な記Itil!は、ドイツ連
邦特許第1146173号t−参照する。
パラ−アルキルフェノールは例えばパラー第三ブチルフ
ェノール、バラー第三アミルフェノール、パラ−ノニル
フェノール4L<Hパラ−ドデシルフェノールであって
もよく、パラー第三ブチルフェノールが好マシい。
ェノール、バラー第三アミルフェノール、パラ−ノニル
フェノール4L<Hパラ−ドデシルフェノールであって
もよく、パラー第三ブチルフェノールが好マシい。
次にインプロピル化フェノールをパラ−アルキルフェノ
ールと10:1ないし1:10、好ましくげ5:1ない
し1:5の重量比で混合し、そして混合物をリン酸化す
る。フェノールをオキシ塩化リンもしくは五塩化リンの
ようなリン酸化剤と反応させる。該反応は塩化アルミニ
ウムもしくは塩化マグネシウムのような触媒全使用する
か、ま7’(はピリジンのような塩基の存在下で実施し
てもよい。反応は15 ないし250℃、好ましくは1
00 ないし225℃の温度で実施するのが好ましい
。
ールと10:1ないし1:10、好ましくげ5:1ない
し1:5の重量比で混合し、そして混合物をリン酸化す
る。フェノールをオキシ塩化リンもしくは五塩化リンの
ようなリン酸化剤と反応させる。該反応は塩化アルミニ
ウムもしくは塩化マグネシウムのような触媒全使用する
か、ま7’(はピリジンのような塩基の存在下で実施し
てもよい。反応は15 ないし250℃、好ましくは1
00 ないし225℃の温度で実施するのが好ましい
。
得られる生成物に、射出成形中でジュース化に4かない
ホスフェートの複合混合物である。
ホスフェートの複合混合物である。
本発明のホスフェートハ種々のポリマーのための適する
難燃剤である。本発明の化合物を添加することで・離燃
性となりうるポリマーの例を列挙する、: ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビ
ニルアセテート、ポリフェニレンオキシドまたにポリフ
ェニレンオキシドとポリスチレン、特に耐衝撃ポリスチ
レンとのブレンド、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレンコポリマー セルロース、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ゴム、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アミノホルムアルデ
ヒド樹脂、ポリアミドもしくは前記のポリマー及び樹脂
のコポリマー及びポリブレンド。ポリブレンドの例ニ、
ポリスチレン/ポリ−2,6−シメチルー1.4−フェ
ニレンオキシド、特に耐衝撃性ポリスチレン/ポリ2.
6−シメチルー1.4−フェニレンオキシド及びポリカ
ーボネート/へ85である。
難燃剤である。本発明の化合物を添加することで・離燃
性となりうるポリマーの例を列挙する、: ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビ
ニルアセテート、ポリフェニレンオキシドまたにポリフ
ェニレンオキシドとポリスチレン、特に耐衝撃ポリスチ
レンとのブレンド、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレンコポリマー セルロース、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ゴム、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アミノホルムアルデ
ヒド樹脂、ポリアミドもしくは前記のポリマー及び樹脂
のコポリマー及びポリブレンド。ポリブレンドの例ニ、
ポリスチレン/ポリ−2,6−シメチルー1.4−フェ
ニレンオキシド、特に耐衝撃性ポリスチレン/ポリ2.
6−シメチルー1.4−フェニレンオキシド及びポリカ
ーボネート/へ85である。
ポリマー100部につき使用してもよいトリアリールホ
スフェートの量i、1ないし100重量部、好ましくぼ
2ないし65重瞳部、最も好ましくは5ないし15重量
部である。使用されるホスフェートの量は実際のポリマ
ー 要求される難燃性の8度及び存在してもよい他の成
分のタイプに依存して変化する。
スフェートの量i、1ないし100重量部、好ましくぼ
2ないし65重瞳部、最も好ましくは5ないし15重量
部である。使用されるホスフェートの量は実際のポリマ
ー 要求される難燃性の8度及び存在してもよい他の成
分のタイプに依存して変化する。
本発明のホスフェートに他の難燃剤と共に使用してもよ
い。時に少なくとも1種の一般式!:(式中、 RH所望により1種もしくはそれ以上のハロゲン原子も
しくにヒドロキシル基で置換されtlないし5個の炭素
原子を有する直鎖もしくは枝分れ鎖のアルキル基を表わ
し、並びにR’fl水素原子もしくは1ないし3個の炭
素原子を有するアルキル基を表わす。)で表わされるホ
スホン酸の金属もしくにメタロイド塩と一緒に使用して
もよく、ただし上記の金属もしくはメタロイドは元素の
周期表(フィッシャーサイエンティフィック カンパニ
ー C1968)のHA族、■8族、[IA族、IVA
族及びVA族から選択される。
い。時に少なくとも1種の一般式!:(式中、 RH所望により1種もしくはそれ以上のハロゲン原子も
しくにヒドロキシル基で置換されtlないし5個の炭素
原子を有する直鎖もしくは枝分れ鎖のアルキル基を表わ
し、並びにR’fl水素原子もしくは1ないし3個の炭
素原子を有するアルキル基を表わす。)で表わされるホ
スホン酸の金属もしくにメタロイド塩と一緒に使用して
もよく、ただし上記の金属もしくはメタロイドは元素の
周期表(フィッシャーサイエンティフィック カンパニ
ー C1968)のHA族、■8族、[IA族、IVA
族及びVA族から選択される。
これらのホスホン酸塩はヨーロッパ特許出m第245,
207号に記載されている。
207号に記載されている。
ホスフェートrtホスホン酸塩、及び帆に七ノーもしく
はポリカルボン酸またはそれらの金属もしくはメタロイ
ド塩と共に使用してもよく、金4もしくはメタロイドは
、元素の周期表(上記)の1族、tlA族、IIB族、
mA族、IVA族及びVA族から選択される。
はポリカルボン酸またはそれらの金属もしくはメタロイ
ド塩と共に使用してもよく、金4もしくはメタロイドは
、元素の周期表(上記)の1族、tlA族、IIB族、
mA族、IVA族及びVA族から選択される。
モノカルボン酸もしくは塩が使用されるとき、その酸は
4ないし60個の炭素原子を含有してもよく、そしC@
状もしくは枝分れ鎖アルキル、アルアルキルもしくにア
リールカルボン酸であってよい。そのような酸の例にブ
タン酸、ヘキ丈ン酸、2−エチルヘキサン酸、オクタン
酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、フェニル酢
酸、安息香酸及びナフトエ酸である。
4ないし60個の炭素原子を含有してもよく、そしC@
状もしくは枝分れ鎖アルキル、アルアルキルもしくにア
リールカルボン酸であってよい。そのような酸の例にブ
タン酸、ヘキ丈ン酸、2−エチルヘキサン酸、オクタン
酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、フェニル酢
酸、安息香酸及びナフトエ酸である。
ポリカルボン酸の例にコハク酸、マレイン酸、アジピン
酸、ピメリン酸、セバシン酸、フタル酸、クエンを俊、
ピロメリット酸、及びアクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸もしくにイタコン酸のような不飽和上ノーもしく
はジカルボン酸t−重合するか、またに所望により1種
もしくはそれ以上の上記の不飽和カルボン酸とエチレン
、プロピレン、酢酸ビニルもL(dスチレンのようなオ
レフィンを共重合することに上り製造されるポリカルボ
ン酸を包含fる。
酸、ピメリン酸、セバシン酸、フタル酸、クエンを俊、
ピロメリット酸、及びアクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸もしくにイタコン酸のような不飽和上ノーもしく
はジカルボン酸t−重合するか、またに所望により1種
もしくはそれ以上の上記の不飽和カルボン酸とエチレン
、プロピレン、酢酸ビニルもL(dスチレンのようなオ
レフィンを共重合することに上り製造されるポリカルボ
ン酸を包含fる。
上記ポリカルボン酸は、例えばポリアクリル酸、ポリマ
レイン酸、エチレンとアクリル酸のコポリマー マレイ
ン酸トスチレンのコポリマー、並びにマレイン酸と酢酸
ビニル及び/まtはエチルアクリレートのコポリマーを
包含する。
レイン酸、エチレンとアクリル酸のコポリマー マレイ
ン酸トスチレンのコポリマー、並びにマレイン酸と酢酸
ビニル及び/まtはエチルアクリレートのコポリマーを
包含する。
カルボン酸t−それらの金属塩もしくにメタロイド塩の
形状で使用するとき、適するカチオンにリチウム、マグ
ネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、ホウ素、アル
ミニウム、スズもしくにアンチモン金包含する。
形状で使用するとき、適するカチオンにリチウム、マグ
ネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、ホウ素、アル
ミニウム、スズもしくにアンチモン金包含する。
ポリカルボン酸の金属塩もしくはメタロイド塩全使用す
るとき、カルボン酸基は十分に、または部分的にのみ中
和してもよい。すなわちいくつかの遊離のC00I(基
h coo 基と一緒に存在してもよい。
るとき、カルボン酸基は十分に、または部分的にのみ中
和してもよい。すなわちいくつかの遊離のC00I(基
h coo 基と一緒に存在してもよい。
使用されるホスフェート、ホスホン酸塩及び/lfはカ
ルボン酸塩の量はポリマー難燃性、衝撃強さ、加工条件
等で要求される特性のバランスに依り広い範囲で変化し
てもよい。必要とするtは簡単な実験で容易に決定する
ことができる。
ルボン酸塩の量はポリマー難燃性、衝撃強さ、加工条件
等で要求される特性のバランスに依り広い範囲で変化し
てもよい。必要とするtは簡単な実験で容易に決定する
ことができる。
本発明の配合物に、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤
、酸化防止剤、帯電防止剤、防腐剤、定着剤、充填剤、
顔料、潤滑剤、発泡剤、殺菌剤、加工助剤及び発煙抑制
剤のような他の慣用の成分を含有してもよい。
、酸化防止剤、帯電防止剤、防腐剤、定着剤、充填剤、
顔料、潤滑剤、発泡剤、殺菌剤、加工助剤及び発煙抑制
剤のような他の慣用の成分を含有してもよい。
イソプロピル化フェノールを約140℃で酸性白土触媒
の存在下でフェノールとプロピレン全反応させて製造す
る、以下の実施例で本発明を説明する。
の存在下でフェノールとプロピレン全反応させて製造す
る、以下の実施例で本発明を説明する。
実施例1 p−第三ブチルフェノール55X8 i(五
692モル* M−W、 =150)、イソプロピル化
フェノール混合物49&2部(五776モル、M、W、
=131.4)及び塩化アルミニウムQ、77部を攪拌
器、接触温度計、滴下ろうと及び還流コンデンサーを備
えた反応器に入れる。150℃に加熱されているこの混
合物に2間抜半かけて一定速度でオキシ塩化すン′57
五3部(143モル、M、W、=15五5)を添加する
。添加している間、温度を105℃ないし115℃に上
昇させる。オキシ塩化リンをフェノール性混合物の表面
より下層部に添加する。
692モル* M−W、 =150)、イソプロピル化
フェノール混合物49&2部(五776モル、M、W、
=131.4)及び塩化アルミニウムQ、77部を攪拌
器、接触温度計、滴下ろうと及び還流コンデンサーを備
えた反応器に入れる。150℃に加熱されているこの混
合物に2間抜半かけて一定速度でオキシ塩化すン′57
五3部(143モル、M、W、=15五5)を添加する
。添加している間、温度を105℃ないし115℃に上
昇させる。オキシ塩化リンをフェノール性混合物の表面
より下層部に添加する。
反応の間に発生する塩化水素ガスを水中に吸収し、得ら
れた塩化水素酸m液を水酸化ナトリウム溶液で滴定する
。オキシ塩化リンの添加の最後の時点で、温度を2時間
15分の間に200℃に上昇式せ、セして200℃で1
時間保持すると反応が完了する。
れた塩化水素酸m液を水酸化ナトリウム溶液で滴定する
。オキシ塩化リンの添加の最後の時点で、温度を2時間
15分の間に200℃に上昇式せ、セして200℃で1
時間保持すると反応が完了する。
最後に残った少量の塩化水素ガスを減圧下で除去すると
、粗製ホスフェート1149.9部を得る。
、粗製ホスフェート1149.9部を得る。
減圧下でホスフェートに蒸留すると以下のものを得た。
:
回収され友アルキル化フェノール 6!h、7部2、1
mbarでの沸点 110−266℃〜複合ホスフェ
ートエステル 1071.38 2.5mbarでの沸
点266−272℃ 残渣 11.6部 複合ホスフェートエステルは以下の物理的性質を有する
。
mbarでの沸点 110−266℃〜複合ホスフェ
ートエステル 1071.38 2.5mbarでの沸
点266−272℃ 残渣 11.6部 複合ホスフェートエステルは以下の物理的性質を有する
。
40℃での粘度(+ma/s) 19!1中和
価(mgKOH9−’ ) [1092
0720℃でのS、G、 1.09
725℃でのR,1,1,5367 色(ハーゼン)75 実施例2 p−第三ブチルフェノール2B&6都(1,911モル
、 M、W、=150)及びインプロピル化フェノー
ル混合物41五4部(五146モル、 M、 W、 =
131.4 )をオキシ塩1ヒリン24五5部(1,5
85モル、M、W、=15五5)でリン酸化すること以
外は実施例1で記載し定操作に従ってホスフェ−トラ製
造する。
価(mgKOH9−’ ) [1092
0720℃でのS、G、 1.09
725℃でのR,1,1,5367 色(ハーゼン)75 実施例2 p−第三ブチルフェノール2B&6都(1,911モル
、 M、W、=150)及びインプロピル化フェノー
ル混合物41五4部(五146モル、 M、 W、 =
131.4 )をオキシ塩1ヒリン24五5部(1,5
85モル、M、W、=15五5)でリン酸化すること以
外は実施例1で記載し定操作に従ってホスフェ−トラ製
造する。
製造され友粗製ホスフェート766.8部を減圧下で蒸
留すると以下のものを得る。: 回収されたアルキル化フェノール619部zOmbar
での沸点98’−254℃ 複合ホスフヱートエステル679.3部2jmbarで
の沸点254°−282℃ 残渣 1!lLZ部 実施例5 p−WE三ズブチルフェノール583部i87モル、
M、W、=1so)及びインプロピル化フェノール混
合物117部((L89モル、 M、 W、=I S
1,4 )をオキシ塩化リン242.1部(1,577
モル、 M、 W、 =155.5)でリン酸化するこ
と以外に実施例1に記載しt操作に従ってホスフェート
1kIA造する。
留すると以下のものを得る。: 回収されたアルキル化フェノール619部zOmbar
での沸点98’−254℃ 複合ホスフヱートエステル679.3部2jmbarで
の沸点254°−282℃ 残渣 1!lLZ部 実施例5 p−WE三ズブチルフェノール583部i87モル、
M、W、=1so)及びインプロピル化フェノール混
合物117部((L89モル、 M、 W、=I S
1,4 )をオキシ塩化リン242.1部(1,577
モル、 M、 W、 =155.5)でリン酸化するこ
と以外に実施例1に記載しt操作に従ってホスフェート
1kIA造する。
製造された粗製ホスフェート764.7部金減圧下で蒸
留すると以下のもの金得る。
留すると以下のもの金得る。
回収式れたアルキル化フェノール11.Oi2.1mb
arでの沸点91°−276℃ 複合ホスフェートエステル711.0部2t1mbar
での沸点276−286℃ 残渣9.3部 実施例4 p−第三ブチルフェノール117部(178モル。
arでの沸点91°−276℃ 複合ホスフェートエステル711.0部2t1mbar
での沸点276−286℃ 残渣9.3部 実施例4 p−第三ブチルフェノール117部(178モル。
M、W、=150)及びイソプロピル化フェノール混合
物583部(4,437モル、 M、W、=131.4
)をオキシ塩化リン245.9部(1,602モル、M
、W、=15五5)でリン酸化すること以外は実施例1
に記載した操作に従ってホスフェート全製造する。
物583部(4,437モル、 M、W、=131.4
)をオキシ塩化リン245.9部(1,602モル、M
、W、=15五5)でリン酸化すること以外は実施例1
に記載した操作に従ってホスフェート全製造する。
製造された粗製ホスフェート76&4部全減圧下で蒸留
すると以下のもの金得る。
すると以下のもの金得る。
回収されたアルキル化フェノール91.5部2.0mb
arでの沸点94°−236℃ 複合ホスフェートエステル64&3部1.9mbarで
の沸点256°−269℃ 残渣2[lLO部 実施例5 p−第三ブチルフェノール554.8部(2,36モル
、 M、’■、=150)及び塩化アルミニウムα51
部tl−々拌器、接触温度計、滴下ろうと及び還流コン
テンサーを備えた反応器に入れる。105℃に加熱した
この混合物に1時間15分かげて一定速度ですキシ塩化
リン121.0部([179モル、 M、W。
arでの沸点94°−236℃ 複合ホスフェートエステル64&3部1.9mbarで
の沸点256°−269℃ 残渣2[lLO部 実施例5 p−第三ブチルフェノール554.8部(2,36モル
、 M、’■、=150)及び塩化アルミニウムα51
部tl−々拌器、接触温度計、滴下ろうと及び還流コン
テンサーを備えた反応器に入れる。105℃に加熱した
この混合物に1時間15分かげて一定速度ですキシ塩化
リン121.0部([179モル、 M、W。
=15五5)を添加する。添加している間、温度全10
5℃ないし110℃に上昇させる。オキシ塩化リンをフ
ェノール性混合物の表面より下層部に添加する。添加の
最後の時点で、反応温度t82℃に低下させて、イソプ
ロピル化フェノール混合物(266モル、 Vi、W、
==129.7)14a2部全反応器に入れる。
5℃ないし110℃に上昇させる。オキシ塩化リンをフ
ェノール性混合物の表面より下層部に添加する。添加の
最後の時点で、反応温度t82℃に低下させて、イソプ
ロピル化フェノール混合物(266モル、 Vi、W、
==129.7)14a2部全反応器に入れる。
110℃に加熱したこの混合物に、1時間かけて一定速
度でオキシ塩化リン125.5部(0,82モル、 M
、W、=15五5)を添加する。添加中に!度t−11
0ないし115℃に上昇させる。オキシ塩化リンを反応
物の表面より下l−に添加する。
度でオキシ塩化リン125.5部(0,82モル、 M
、W、=15五5)を添加する。添加中に!度t−11
0ないし115℃に上昇させる。オキシ塩化リンを反応
物の表面より下l−に添加する。
反応の間に発生する塩化水素ガス金水中に吸収し、そし
て得られた塩化水素酸溶液を水酸化ナトリウム溶液で滴
定する。オキシ塩(ヒリ/の添加の最後の時点で、温度
を2時間15分の間に200℃に上昇させて、そして2
00℃で1時間保持すると反応が完了する。
て得られた塩化水素酸溶液を水酸化ナトリウム溶液で滴
定する。オキシ塩(ヒリ/の添加の最後の時点で、温度
を2時間15分の間に200℃に上昇させて、そして2
00℃で1時間保持すると反応が完了する。
最後に残った少量の塩化水素ガスを減圧下で除去すると
、粗製ホスフェート76翫1部を得る。
、粗製ホスフェート76翫1部を得る。
減圧下でホスフェート’l蒸留すると以下のものを得友
。: 回収されたアルキル化フェノール41.9i1J2.0
1nl)arでの沸点92’−244℃複合ホス7z−
)工XテA/ 68F3.292[]mbarでの沸点
244’−285℃ 残渣11o9部 実施例6 p−第三アミルフェノール191.9部(1,17モル
、〒4W、==164)、イソプロピル化フェノール混
合物17Z4部(1,35モル、M、W、=131.4
)及び塩化マグネシウム127部′t−攪拌器、接触温
度計、滴下ろうと及び還流コンテンサーを備えた反応器
に入れる。140℃に加熱したこの混合物に2時間かけ
て一定速度ですキシ塩化リン124.49(11,81
モル、 M、W、 =15A5)i添加スル。添加中に
温度t−150℃に上昇させる。反応物i2.75時間
で次第に200℃に加熱して、更に1時間200℃で加
熱する。塩素含有量が約Q、OZ4になるまで水流ポン
プ減圧(約、sOmbar)t−使用して200℃で混
合物のガス抜きを行なう。
。: 回収されたアルキル化フェノール41.9i1J2.0
1nl)arでの沸点92’−244℃複合ホス7z−
)工XテA/ 68F3.292[]mbarでの沸点
244’−285℃ 残渣11o9部 実施例6 p−第三アミルフェノール191.9部(1,17モル
、〒4W、==164)、イソプロピル化フェノール混
合物17Z4部(1,35モル、M、W、=131.4
)及び塩化マグネシウム127部′t−攪拌器、接触温
度計、滴下ろうと及び還流コンテンサーを備えた反応器
に入れる。140℃に加熱したこの混合物に2時間かけ
て一定速度ですキシ塩化リン124.49(11,81
モル、 M、W、 =15A5)i添加スル。添加中に
温度t−150℃に上昇させる。反応物i2.75時間
で次第に200℃に加熱して、更に1時間200℃で加
熱する。塩素含有量が約Q、OZ4になるまで水流ポン
プ減圧(約、sOmbar)t−使用して200℃で混
合物のガス抜きを行なう。
オイルポンプ真空全使用してホスフェートを蒸留すると
、2.66mbarで沸点260℃の混合ホスフェート
の主留公金生成する。
、2.66mbarで沸点260℃の混合ホスフェート
の主留公金生成する。
実施例7
p−第三アミルフェノールの代わりにp−ノニルフェノ
ール2514部(1,17モル、M、W、=220)、
及び塩化マグネシウム137部を使用して実施例6金繰
り返す。生成物を同様の方法で回収する。
ール2514部(1,17モル、M、W、=220)、
及び塩化マグネシウム137部を使用して実施例6金繰
り返す。生成物を同様の方法で回収する。
実施例8
実施例1.6及びフのホスフェートの応力亀裂性を以下
の実験室試験方法で評価する。商品名ノリルで販売てれ
ているボリフェニレンオヤシド/耐衝撃性ポリスチレン
アロイの射出成形試験片金ジグ中で曲げることにより慎
重に応力を加え、そしてホスフェートのフィルムラ最大
の応力点に貼り付ける。ジグは最高14の応力を与える
。最初の亀裂が発生する時間及び破壊する時間全記録す
る。結果を下記に示し友。
の実験室試験方法で評価する。商品名ノリルで販売てれ
ているボリフェニレンオヤシド/耐衝撃性ポリスチレン
アロイの射出成形試験片金ジグ中で曲げることにより慎
重に応力を加え、そしてホスフェートのフィルムラ最大
の応力点に貼り付ける。ジグは最高14の応力を与える
。最初の亀裂が発生する時間及び破壊する時間全記録す
る。結果を下記に示し友。
実施例1のホスフェートは96時間後に亀裂を示さなか
った。;実施例6のホスフェートは25時間後に最初の
亀裂を示し、セして35時間後に破壊しなかった。:そ
して実施例7のホスフェートは28時間以上杼通しても
亀裂金示さなかった。
った。;実施例6のホスフェートは25時間後に最初の
亀裂を示し、セして35時間後に破壊しなかった。:そ
して実施例7のホスフェートは28時間以上杼通しても
亀裂金示さなかった。
Claims (10)
- (1)フェノールとイソプロピル化剤を接触させて、フ
ェノール部分の重量をベースとしてイソプロピル部分を
5ないし65重量%有するイソプロピル化フェノールを
製造し、イソプロピル化フェノールとパラアルキルフェ
ノール(アルキル基は第三ブチル基もしくは炭素原子数
5ないし12のアルキル基を表わす。)を10:4ない
し1:10の重量比で混合し、そしてフェノールの混合
物をリン酸化することにより製造されるトリアリールホ
スフェート。 - (2)イソプロピル化フェノールとパラアルキルフェノ
ールの比が5:4ないし1:5である請求項1記載のト
リアリールホスフェート。 - (3)パラアルキルフェノールがp−第三ブチルフェノ
ール、p−第三アミルフェノールもしくはp−ノニルフ
ェノールである請求項1記載のトリアリールホスフェー
ト。 - (4)ポリマー及び難燃剤として請求項1記載のトリア
リールホスフェートをポリマー100部につき、ないし
100部含有することからなる組成物。 - (5)ホスフェートの量がポリマー100部につき2な
いし35部である請求項4記載の組成物。 - (6)ホスフェートの量がポリマー100部につき5な
いし15部である請求項5記載の組成物。 - (7)ポリマーがポリフェニレンオキシドもしくは耐衝
撃性ポリスチレンとそれらのブレンドである請求項4記
載の組成物。 - (8)ポリマーがポリカーボネート/ABSブレンドで
ある請求項4記載の組成物。 - (9)更に少なくとも1種の一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、 Rは所望により1種もしくはそれ以上のハ ロゲン原子もしくはヒドロキシル基で置換された、ない
し3個の炭素原子を有する直鎖もしくは枝分れ鎖のアル
キル基を表わし、並びに R′は水素原子もしくは、ないし3個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わす。)で表わされるホスホン酸の金
属もしくはメタロイド塩を含有し、金属もしくはメタロ
イドは元素の周期表(フィッシャーサイエンティフィッ
クカンパニーC1968)のIIA族、IIB族、IIIA族
、IVA族及びVA族から選択される請求項4記載の組成
物。 - (10)更にモノ−もしくはポリカルボン酸またはそれ
らの金属もしくはメタロイド塩を含有し、金属もしくは
メタロイドが元素の周期表(上記)の I 族、IIA族、
IIB族、IIIA族、IVA族及びVA族から選択される請
求項4記載の組成物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8800582 | 1988-01-12 | ||
| GB888800582A GB8800582D0 (en) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | Triaryl phosphates |
| GB888815628A GB8815628D0 (en) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | Triaryl phosphates |
| GB8815628.6 | 1988-06-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02792A true JPH02792A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26293295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1005858A Pending JPH02792A (ja) | 1988-01-12 | 1989-01-12 | トリアリールホスフェート、その製造方法及び難燃剤としての使用方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0324716A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02792A (ja) |
| KR (1) | KR890011897A (ja) |
| AU (1) | AU2837889A (ja) |
| BR (1) | BR8900117A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113058A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-04-25 | General Electric Co <Ge> | 耐衝撃性ポリフェニレンエーテル混合物に基づくポリマー材料 |
| WO2012014955A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2012014954A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| EP2455431A1 (en) | 2003-10-23 | 2012-05-23 | Fujifilm Corporation | Ink and ink set for inkjet recording |
| JP2013151552A (ja) * | 2006-04-24 | 2013-08-08 | Albemarle Corp | 燐酸トリフェニル含有量が低くて燐含有量が高くかつオルソアルキル置換度が高い燐酸イソプロピルフェニルの製造方法 |
| EP2712894A1 (en) | 2012-09-26 | 2014-04-02 | Fujifilm Corporation | Azo compound, aqueous solution, ink composition, ink for inkjet recording, inkjet recording method, ink cartridge for inkjet recording, and inkjet recorded material |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11501348A (ja) * | 1995-03-03 | 1999-02-02 | 旭化成工業株式会社 | スチレン系樹脂用難燃剤およびそれを含む樹脂組成物 |
| KR100360714B1 (ko) * | 1997-10-23 | 2003-04-03 | 제일모직주식회사 | 난연성을 갖는 폴리카보네이트계 열가소성 수지 조성물 |
| KR100448419B1 (ko) * | 1997-12-04 | 2004-11-16 | 삼성종합화학주식회사 | 신규한 모노(2,2,6,6-테트라메틸 피페리딜) 디아릴 포스페이트화합물, 그의 제조방법 및 그를 포함하는 수지 조성물 |
| GB9802181D0 (en) * | 1998-02-03 | 1998-04-01 | Fmc Corp Uk Ltd | Polymer compositions |
| DE10223649C1 (de) * | 2002-05-28 | 2003-08-14 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäuretriester |
| DE10247973B4 (de) * | 2002-10-15 | 2005-05-04 | Clariant Gmbh | Halogenreduzierte Flammschutzmittelmischungen zur Herstellung von emissionsstabilen Polyurethanweichschäumen |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT969424B (it) * | 1971-09-09 | 1974-03-30 | Sumitomo Co Ltd | Composizione di ossido polifenile nico modificato in particolare a propagazione di fiamma ritardata |
| GB2027712B (en) * | 1978-07-21 | 1983-03-23 | Ciba Geigy Ag | Triary phosphates |
| BR8205225A (pt) * | 1981-09-08 | 1983-08-16 | Fmc Corp | Composicao de resina de eter de polifenileno-estireno |
| US4559184A (en) * | 1983-11-14 | 1985-12-17 | Stauffer Chemical Company | Phosphate ester synthesis without phosphorylation catalyst |
| US4883835A (en) * | 1987-04-17 | 1989-11-28 | Bayer Aktiengesellschaft | Flame resistant antistatic polycarbonate moulding compounds |
-
1989
- 1989-01-03 EP EP89810001A patent/EP0324716A3/en not_active Withdrawn
- 1989-01-11 BR BR898900117A patent/BR8900117A/pt unknown
- 1989-01-12 JP JP1005858A patent/JPH02792A/ja active Pending
- 1989-01-12 KR KR1019890000261A patent/KR890011897A/ko not_active Withdrawn
- 1989-01-12 AU AU28378/89A patent/AU2837889A/en not_active Abandoned
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113058A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-04-25 | General Electric Co <Ge> | 耐衝撃性ポリフェニレンエーテル混合物に基づくポリマー材料 |
| EP2455431A1 (en) | 2003-10-23 | 2012-05-23 | Fujifilm Corporation | Ink and ink set for inkjet recording |
| JP2013151552A (ja) * | 2006-04-24 | 2013-08-08 | Albemarle Corp | 燐酸トリフェニル含有量が低くて燐含有量が高くかつオルソアルキル置換度が高い燐酸イソプロピルフェニルの製造方法 |
| WO2012014955A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2012014954A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| EP2712894A1 (en) | 2012-09-26 | 2014-04-02 | Fujifilm Corporation | Azo compound, aqueous solution, ink composition, ink for inkjet recording, inkjet recording method, ink cartridge for inkjet recording, and inkjet recorded material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR8900117A (pt) | 1989-09-05 |
| EP0324716A3 (en) | 1990-05-16 |
| KR890011897A (ko) | 1989-08-23 |
| AU2837889A (en) | 1989-07-13 |
| EP0324716A2 (en) | 1989-07-19 |
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