JPH0280408A - 電子部品用組成物 - Google Patents
電子部品用組成物Info
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- JPH0280408A JPH0280408A JP22972188A JP22972188A JPH0280408A JP H0280408 A JPH0280408 A JP H0280408A JP 22972188 A JP22972188 A JP 22972188A JP 22972188 A JP22972188 A JP 22972188A JP H0280408 A JPH0280408 A JP H0280408A
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical group CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- -1 hydroxypivalyl aldehyde Chemical class 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHZSIICAWWWAM-UHFFFAOYSA-K 2-[2-[carboxylatomethyl-[2-[[3-[[2-(methylamino)-3-oxo-3-(propan-2-ylamino)propyl]disulfanyl]-1-oxo-1-(propan-2-ylamino)propan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]ethyl-[2-[2-oxidoprop-2-enyl(2-oxopropyl)amino]ethyl]amino]acetate;gadolinium(3+);hydrate Chemical compound O.[Gd+3].CC(C)NC(=O)C(NC)CSSCC(C(=O)NC(C)C)NC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CCN(CC(C)=O)CC([O-])=C CPHZSIICAWWWAM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylpyrrolidine Chemical compound C1CCNC1C1CCCCC1 KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOHVEOHMUTVZOS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxybutane Chemical compound CCC(C)OOC(C)(C)C NOHVEOHMUTVZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFRHHAYSXIKGH-UHFFFAOYSA-N 3-(5-methoxy-2-methoxycarbonyl-1h-indol-3-yl)prop-2-enoic acid Chemical compound C1=C(OC)C=C2C(C=CC(O)=O)=C(C(=O)OC)NC2=C1 XYFRHHAYSXIKGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101500028161 Homo sapiens Tumor necrosis factor-binding protein 1 Proteins 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACFIXJIJDZMPPO-NNYOXOHSSA-N NADPH Chemical compound C1=CCC(C(=O)N)=CN1[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](COP(O)(=O)OP(O)(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](O2)N2C3=NC=NC(N)=C3N=C2)O)O1 ACFIXJIJDZMPPO-NNYOXOHSSA-N 0.000 description 1
- PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate Chemical compound BrCC(Br)COP(=O)(OCC(Br)CBr)OCC(Br)CBr PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102400000089 Tumor necrosis factor-binding protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- DTGWMJJKPLJKQD-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical group CCCCOOC(=O)C(C)(C)C DTGWMJJKPLJKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBWZTOAYWHAYJX-UHFFFAOYSA-N butylperoxycyclohexane Chemical compound CCCCOOC1CCCCC1 KBWZTOAYWHAYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012969 di-tertiary-butyl peroxide Substances 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004482 other powder Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- PFBLRDXPNUJYJM-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(C)(C)C PFBLRDXPNUJYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Sealing Material Composition (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、耐熱性、耐湿性に優れた電子部品用材料に関
するものである。
するものである。
(従来の技術)
従来、コイル、コンデンサ、トランジスタ、ICなど電
子部品の封止用としてエポキシ樹脂成形材料が広く用い
られている。
子部品の封止用としてエポキシ樹脂成形材料が広く用い
られている。
このような電子部品の封止等に使用されるエポキシ樹脂
組成物においては、それと併用される金属材料の腐食を
少なくすることが信頼性を高くする大きな要因となって
いる。この腐食減少のためには、材料の耐水性の向上及
びイオン性不純物の低減化が必要とされており、組成物
に用いられるエポキシ樹脂の加水分解性ハロゲン量を3
00 ppm以下に制限することが提案されている(特
開昭6O−255860)。
組成物においては、それと併用される金属材料の腐食を
少なくすることが信頼性を高くする大きな要因となって
いる。この腐食減少のためには、材料の耐水性の向上及
びイオン性不純物の低減化が必要とされており、組成物
に用いられるエポキシ樹脂の加水分解性ハロゲン量を3
00 ppm以下に制限することが提案されている(特
開昭6O−255860)。
しかしながらビスフェノール型エポキシ樹脂及びノポラ
クク型エポキシ樹脂の加水分解性塩素を低減する事は容
易ではない。
クク型エポキシ樹脂の加水分解性塩素を低減する事は容
易ではない。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、耐水性が良好で、しかもイオン性不純
物を含まない樹脂組成物を用いる事により金属腐食性の
低下という改善を行うことである。
物を含まない樹脂組成物を用いる事により金属腐食性の
低下という改善を行うことである。
(課題を解決するための手段)
本発明の電子部品用組成物は、−量大〔1〕〔l〕
(式中、R+はHまたはCH3を示す。)で表わされる
エチレン性不飽和化合物囚と有機パーオキサイド(Bを
含む事を特徴とするもので従来のエポキシ樹脂を用いる
場合に比較して、イオン性の不純物、特GCIC,LS
I等の電子部品の信頼性を低下させる加水分解性塩素の
含有量を低減させることが出来る。
エチレン性不飽和化合物囚と有機パーオキサイド(Bを
含む事を特徴とするもので従来のエポキシ樹脂を用いる
場合に比較して、イオン性の不純物、特GCIC,LS
I等の電子部品の信頼性を低下させる加水分解性塩素の
含有量を低減させることが出来る。
本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物はペンタエ
リスリトールとヒドロキシピバリルアルデヒドの反応に
よって得られるスピログリコールと(メタ)アクリル酸
の縮合によって得られる1分子中に2個のエチレン性不
飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基がアク
リロイル基の場合120℃の融点を示し、エチレン性不
飽和基がメタクリロイル基の場合130℃の融点を示す
。これ等の化合物は有機溶媒中で再結晶する事等により
精製出来るので電子部品等に有害なNa 、CI−*カ
ルボン酸等のイオン性不純物を数ppm以下に抑える事
が出来る。
リスリトールとヒドロキシピバリルアルデヒドの反応に
よって得られるスピログリコールと(メタ)アクリル酸
の縮合によって得られる1分子中に2個のエチレン性不
飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基がアク
リロイル基の場合120℃の融点を示し、エチレン性不
飽和基がメタクリロイル基の場合130℃の融点を示す
。これ等の化合物は有機溶媒中で再結晶する事等により
精製出来るので電子部品等に有害なNa 、CI−*カ
ルボン酸等のイオン性不純物を数ppm以下に抑える事
が出来る。
このようにして得られたエチレン性不飽和化合物をジェ
ットミル等を用いて好ましくは平均粒度lO〜50μの
粒度を持つ粉末にする。10μより粒度が小さいと粉体
の流動性が悪くなる傾向があり、50μより大きくなる
と以下に述べる重合開始剤(有機パーオキサイド)と混
合した場合の均一性が悪くなる傾向がある。
ットミル等を用いて好ましくは平均粒度lO〜50μの
粒度を持つ粉末にする。10μより粒度が小さいと粉体
の流動性が悪くなる傾向があり、50μより大きくなる
と以下に述べる重合開始剤(有機パーオキサイド)と混
合した場合の均一性が悪くなる傾向がある。
更にこのエチレン性不飽和化合物囚の粉末に重合開始剤
となる有機パーオキサイドを添加しナウターミキサ−等
を用いて均一に混合する。
となる有機パーオキサイドを添加しナウターミキサ−等
を用いて均一に混合する。
本発明に用いられる有機パーオキサイドとしては、例え
ば、ターシャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキサノ
エート、ターシャリブチルパーオキシピバレート、ター
シャリブチルパーオキシイノブチレート、ターシャリア
ミルパーオキシイノブチレート、I、 I−ジターシャ
リフチルバーオキシシクロヘキサン、ビス−3,5,5
−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ターシャリ
ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエ
ート、ターシャリブチルパーオキシイノグロピルカーポ
ネート、ジターシャリブチルパーオキシアズレート、ジ
ターシャリブチルパーオキシトリメチルアジベート、2
.2−ジターシャリブチルパーオキシブタン、ターシャ
リブチルパーオキシアセテート、4.4−ジターシャリ
プチルパーオキシバレリアン酸−〇−フチルエステル、
トリス−ターシャリフチルバーオキシトリアジン、2.
5−ジメチル−2,5−ジターシャリブチルパーオキシ
ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジターシャリブ
チルパーオキシヘキシン−3及びターシャリブチルクミ
ルパーオキサイド、ジターシャリ−ブチルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、0−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジ−1〜
ブチルバーオキンへキサヒドロテレフタレート、ターシ
ャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキソエート等が挙
げられこれらは単独で又は二種以上混合して用いられる
。使用される有機パーオキサイドの量はエチレン性不飽
和化合物囚の量に対して好ましくはQ、 5 phr
〜5 phr使用されるo o、 5 phrより少
ない場合は硬化が不充分になり易く、5 phrより多
いと硬化のコントロールが難しく、又重合度が上がらな
いため硬化物性が低下する傾向がある。
ば、ターシャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキサノ
エート、ターシャリブチルパーオキシピバレート、ター
シャリブチルパーオキシイノブチレート、ターシャリア
ミルパーオキシイノブチレート、I、 I−ジターシャ
リフチルバーオキシシクロヘキサン、ビス−3,5,5
−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ターシャリ
ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエ
ート、ターシャリブチルパーオキシイノグロピルカーポ
ネート、ジターシャリブチルパーオキシアズレート、ジ
ターシャリブチルパーオキシトリメチルアジベート、2
.2−ジターシャリブチルパーオキシブタン、ターシャ
リブチルパーオキシアセテート、4.4−ジターシャリ
プチルパーオキシバレリアン酸−〇−フチルエステル、
トリス−ターシャリフチルバーオキシトリアジン、2.
5−ジメチル−2,5−ジターシャリブチルパーオキシ
ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジターシャリブ
チルパーオキシヘキシン−3及びターシャリブチルクミ
ルパーオキサイド、ジターシャリ−ブチルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、0−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジ−1〜
ブチルバーオキンへキサヒドロテレフタレート、ターシ
ャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキソエート等が挙
げられこれらは単独で又は二種以上混合して用いられる
。使用される有機パーオキサイドの量はエチレン性不飽
和化合物囚の量に対して好ましくはQ、 5 phr
〜5 phr使用されるo o、 5 phrより少
ない場合は硬化が不充分になり易く、5 phrより多
いと硬化のコントロールが難しく、又重合度が上がらな
いため硬化物性が低下する傾向がある。
充填剤を添加して用いる事も出来る。充填剤としては、
シリカ、石英ガラス粉、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、クレー、マイカ、アエロジル等があげられ、エチレ
ン性不飽和化合物囚に対して好ましくは5〜50 ph
rが用(・られる。
シリカ、石英ガラス粉、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、クレー、マイカ、アエロジル等があげられ、エチレ
ン性不飽和化合物囚に対して好ましくは5〜50 ph
rが用(・られる。
本発明でいう電子部品とは、例えばトランジスター ダ
イオード、IC,LS1.ハイブリッドIC1高集積複
合プロ7り、気密電子部品、抵抗器、コンデンサー パ
ワーサプライ、トランス、磁気ヘッド、スイッチ、フレ
キシブルプリント基板などである。
イオード、IC,LS1.ハイブリッドIC1高集積複
合プロ7り、気密電子部品、抵抗器、コンデンサー パ
ワーサプライ、トランス、磁気ヘッド、スイッチ、フレ
キシブルプリント基板などである。
本発明の組成物は、特に電子部品封止用組成物として有
用である。
用である。
本発明の組成物は融点を持つ結晶性化合物であるので、
加熱する事により低粘度溶液にする事が出来るので、内
部迄充分に均一な硬化物を得る事が出来る。加熱溶融の
温度は充填物の種類等によって一定ではないが、130
°CJR上、好ましくは150℃以上であれば良い。
加熱する事により低粘度溶液にする事が出来るので、内
部迄充分に均一な硬化物を得る事が出来る。加熱溶融の
温度は充填物の種類等によって一定ではないが、130
°CJR上、好ましくは150℃以上であれば良い。
又重合開始剤の種類と量を選ぶ事によって、硬化時間を
自由に調整する事が出来るのも大きな特徴である。半減
期温度の低い重合開始剤を使用すれば数10秒で硬化反
応を完了させる事が可能であるし、半減期温度の高い重
合開始剤を用いれば数時間液状を保持する事も出来る。
自由に調整する事が出来るのも大きな特徴である。半減
期温度の低い重合開始剤を使用すれば数10秒で硬化反
応を完了させる事が可能であるし、半減期温度の高い重
合開始剤を用いれば数時間液状を保持する事も出来る。
本発明の組成物はエポキシ樹脂等の他の粉体塗料組成物
と混合使用しても良い。又一般の粉体塗料と同様に静電
塗装、流動浸漬等の方法でコーティングする事も出来る
し、金型に充填、注型しして加熱硬化させ使用する事も
出来る。
と混合使用しても良い。又一般の粉体塗料と同様に静電
塗装、流動浸漬等の方法でコーティングする事も出来る
し、金型に充填、注型しして加熱硬化させ使用する事も
出来る。
(実施例)
以下実施例により詳細に説明する。
実施例!−10゜
下記の表−1に示すような成分を混合したものを48メ
ツシユの篩を全通する様に粉砕し粉末成型用組成物を得
た。この粉末成型用組成物を離型剤を塗布したlO10
X20XIoのステンレス製金型に充填し、所定時間硬
化して成型物を得た。この成型物を粉砕して100メツ
シユの篩を通しIgの粉砕試料を得た。これにイオン交
換及び蒸留した純水logを加え、小オートクレーブで
140℃100時間のプレッシャークツカーテストを行
った。抽出液を電位差滴定装置により塩素イオンを測定
し組成物の重量に対して表したものを示した。
ツシユの篩を全通する様に粉砕し粉末成型用組成物を得
た。この粉末成型用組成物を離型剤を塗布したlO10
X20XIoのステンレス製金型に充填し、所定時間硬
化して成型物を得た。この成型物を粉砕して100メツ
シユの篩を通しIgの粉砕試料を得た。これにイオン交
換及び蒸留した純水logを加え、小オートクレーブで
140℃100時間のプレッシャークツカーテストを行
った。抽出液を電位差滴定装置により塩素イオンを測定
し組成物の重量に対して表したものを示した。
実施例11〜l 4゜
次に表−2に示した封止用組成物を用い半田耐熱テスト
、ヒートサイクルテスト及び耐湿試験を行った。その結
果を表−2に示した。
、ヒートサイクルテスト及び耐湿試験を行った。その結
果を表−2に示した。
表−エ中の略零の説明
TBPP:z−ブチルパーオキシビバレート(カヤエス
テルP化薬ヌーリー■製) TBPI : t−ブチルパーオキイソブチレート(カ
ヤエステル1化薬ヌーリー■製) BPC:1,1−ビス−1−、ブチルパーオキシシクロ
ヘキサン(トリボノックス22化薬ヌー リ −■製
) TPNH: t−ブチルパーオキシ−3,3,5−)リ
メチルヘキサノエート(トリボノックス 42化栗ヌーリー■製) TBPIC: t−ブチルパーオキシイソプロピルカー
ボネート(カヤカルボンBIC化薬ヌーリー■製) AZ ニジ−1−ブチルパーオキシアズレート(カヤエ
ステル1化薬ヌーリー■製) TMA ニジ−1−ブチルパーオキシトリメチルアジベ
ート(カヤエステルTMA 化薬ヌーリ −■製 ) DTBP ニジ−1−ブチルパーオキサイド(カヤブチ
ルD化薬ヌーリー■製) スビロゴリコールジアクリレート二一般式mにおいて、
R1がHである化合物 スピログリコールジメタクリレートニー量大(1)にお
いて、R,がC1(3である化合物表−2 (チl)半田耐熱は1010X20X10の成型品中に
1 mmダの銅線を埋め込み250℃の半田浴IC10
秒間2回浸漬した後、クラックの発生状況を見たもので
ある。
テルP化薬ヌーリー■製) TBPI : t−ブチルパーオキイソブチレート(カ
ヤエステル1化薬ヌーリー■製) BPC:1,1−ビス−1−、ブチルパーオキシシクロ
ヘキサン(トリボノックス22化薬ヌー リ −■製
) TPNH: t−ブチルパーオキシ−3,3,5−)リ
メチルヘキサノエート(トリボノックス 42化栗ヌーリー■製) TBPIC: t−ブチルパーオキシイソプロピルカー
ボネート(カヤカルボンBIC化薬ヌーリー■製) AZ ニジ−1−ブチルパーオキシアズレート(カヤエ
ステル1化薬ヌーリー■製) TMA ニジ−1−ブチルパーオキシトリメチルアジベ
ート(カヤエステルTMA 化薬ヌーリ −■製 ) DTBP ニジ−1−ブチルパーオキサイド(カヤブチ
ルD化薬ヌーリー■製) スビロゴリコールジアクリレート二一般式mにおいて、
R1がHである化合物 スピログリコールジメタクリレートニー量大(1)にお
いて、R,がC1(3である化合物表−2 (チl)半田耐熱は1010X20X10の成型品中に
1 mmダの銅線を埋め込み250℃の半田浴IC10
秒間2回浸漬した後、クラックの発生状況を見たもので
ある。
し2)ヒートサイクルテストはl 0X20X10mm
の成型品中にl mm 96の銅線を埋め込み一り0℃
〜+200℃各10分間のサイクルを100サイクル繰
り返した後のクラックの発生状況を見たものである。
の成型品中にl mm 96の銅線を埋め込み一り0℃
〜+200℃各10分間のサイクルを100サイクル繰
り返した後のクラックの発生状況を見たものである。
(チ3)封止用組成物を用いて、2本のアルミニウム配
線を有する電気部品を150℃、3分間の条件でトラン
スファー成型し、その後150℃で更に2時間硬化させ
た。こうして得たテストピース10個について127’
C2,5気圧のプレッシャークツカー耐湿テストを行い
、アルミニウム腐食による1ffI不良を測定した。
線を有する電気部品を150℃、3分間の条件でトラン
スファー成型し、その後150℃で更に2時間硬化させ
た。こうして得たテストピース10個について127’
C2,5気圧のプレッシャークツカー耐湿テストを行い
、アルミニウム腐食による1ffI不良を測定した。
(発明の効果)
本発明の組成物を用いる事によりイオン性不純物の少な
い、耐熱性、耐湿性の優れた高信頼性の電子部品封止用
材料を提供する事が出来る。
い、耐熱性、耐湿性の優れた高信頼性の電子部品封止用
材料を提供する事が出来る。
本発明組成物は電子部品の封止、すなわち埋込み含浸材
、塗装用材料として、あるいは部品と部品の接着剤とし
て有用である。
、塗装用材料として、あるいは部品と部品の接着剤とし
て有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はHまたはCH_3を示す。)で表わさ
れるエチレン性不飽和化合物(A)と有機パーオキサイ
ド(B)を含むことを特徴とする電子部品用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22972188A JPH0280408A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 電子部品用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22972188A JPH0280408A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 電子部品用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0280408A true JPH0280408A (ja) | 1990-03-20 |
Family
ID=16896661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22972188A Pending JPH0280408A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 電子部品用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0280408A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002180032A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Nhk Spring Co Ltd | 電子部品のシーリング方法 |
| EP1561862B1 (fr) * | 2004-02-05 | 2010-08-11 | Marc Struyf | Elément de piste artificielle de glisse et piste artificielle de glisse comprenant un tel élément |
| KR101155453B1 (ko) * | 2005-06-10 | 2012-06-15 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트용 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
-
1988
- 1988-09-16 JP JP22972188A patent/JPH0280408A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002180032A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Nhk Spring Co Ltd | 電子部品のシーリング方法 |
| EP1561862B1 (fr) * | 2004-02-05 | 2010-08-11 | Marc Struyf | Elément de piste artificielle de glisse et piste artificielle de glisse comprenant un tel élément |
| KR101155453B1 (ko) * | 2005-06-10 | 2012-06-15 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트용 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
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