JPH0280408A - 電子部品用組成物 - Google Patents

電子部品用組成物

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JPH0280408A
JPH0280408A JP22972188A JP22972188A JPH0280408A JP H0280408 A JPH0280408 A JP H0280408A JP 22972188 A JP22972188 A JP 22972188A JP 22972188 A JP22972188 A JP 22972188A JP H0280408 A JPH0280408 A JP H0280408A
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JP
Japan
Prior art keywords
electronic components
composition
peroxide
sealing electronic
butyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP22972188A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Oi
大井 吉晴
Toru Ozaki
徹 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、耐熱性、耐湿性に優れた電子部品用材料に関
するものである。
(従来の技術) 従来、コイル、コンデンサ、トランジスタ、ICなど電
子部品の封止用としてエポキシ樹脂成形材料が広く用い
られている。
このような電子部品の封止等に使用されるエポキシ樹脂
組成物においては、それと併用される金属材料の腐食を
少なくすることが信頼性を高くする大きな要因となって
いる。この腐食減少のためには、材料の耐水性の向上及
びイオン性不純物の低減化が必要とされており、組成物
に用いられるエポキシ樹脂の加水分解性ハロゲン量を3
00 ppm以下に制限することが提案されている(特
開昭6O−255860)。
しかしながらビスフェノール型エポキシ樹脂及びノポラ
クク型エポキシ樹脂の加水分解性塩素を低減する事は容
易ではない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的は、耐水性が良好で、しかもイオン性不純
物を含まない樹脂組成物を用いる事により金属腐食性の
低下という改善を行うことである。
(課題を解決するための手段) 本発明の電子部品用組成物は、−量大〔1〕〔l〕 (式中、R+はHまたはCH3を示す。)で表わされる
エチレン性不飽和化合物囚と有機パーオキサイド(Bを
含む事を特徴とするもので従来のエポキシ樹脂を用いる
場合に比較して、イオン性の不純物、特GCIC,LS
I等の電子部品の信頼性を低下させる加水分解性塩素の
含有量を低減させることが出来る。
本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物はペンタエ
リスリトールとヒドロキシピバリルアルデヒドの反応に
よって得られるスピログリコールと(メタ)アクリル酸
の縮合によって得られる1分子中に2個のエチレン性不
飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基がアク
リロイル基の場合120℃の融点を示し、エチレン性不
飽和基がメタクリロイル基の場合130℃の融点を示す
。これ等の化合物は有機溶媒中で再結晶する事等により
精製出来るので電子部品等に有害なNa 、CI−*カ
ルボン酸等のイオン性不純物を数ppm以下に抑える事
が出来る。
このようにして得られたエチレン性不飽和化合物をジェ
ットミル等を用いて好ましくは平均粒度lO〜50μの
粒度を持つ粉末にする。10μより粒度が小さいと粉体
の流動性が悪くなる傾向があり、50μより大きくなる
と以下に述べる重合開始剤(有機パーオキサイド)と混
合した場合の均一性が悪くなる傾向がある。
更にこのエチレン性不飽和化合物囚の粉末に重合開始剤
となる有機パーオキサイドを添加しナウターミキサ−等
を用いて均一に混合する。
本発明に用いられる有機パーオキサイドとしては、例え
ば、ターシャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキサノ
エート、ターシャリブチルパーオキシピバレート、ター
シャリブチルパーオキシイノブチレート、ターシャリア
ミルパーオキシイノブチレート、I、 I−ジターシャ
リフチルバーオキシシクロヘキサン、ビス−3,5,5
−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ターシャリ
ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエ
ート、ターシャリブチルパーオキシイノグロピルカーポ
ネート、ジターシャリブチルパーオキシアズレート、ジ
ターシャリブチルパーオキシトリメチルアジベート、2
.2−ジターシャリブチルパーオキシブタン、ターシャ
リブチルパーオキシアセテート、4.4−ジターシャリ
プチルパーオキシバレリアン酸−〇−フチルエステル、
トリス−ターシャリフチルバーオキシトリアジン、2.
5−ジメチル−2,5−ジターシャリブチルパーオキシ
ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジターシャリブ
チルパーオキシヘキシン−3及びターシャリブチルクミ
ルパーオキサイド、ジターシャリ−ブチルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、0−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジ−1〜
ブチルバーオキンへキサヒドロテレフタレート、ターシ
ャリアミルパーオキシ−2−エチルヘキソエート等が挙
げられこれらは単独で又は二種以上混合して用いられる
。使用される有機パーオキサイドの量はエチレン性不飽
和化合物囚の量に対して好ましくはQ、 5 phr 
〜5 phr使用されるo  o、 5 phrより少
ない場合は硬化が不充分になり易く、5 phrより多
いと硬化のコントロールが難しく、又重合度が上がらな
いため硬化物性が低下する傾向がある。
充填剤を添加して用いる事も出来る。充填剤としては、
シリカ、石英ガラス粉、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、クレー、マイカ、アエロジル等があげられ、エチレ
ン性不飽和化合物囚に対して好ましくは5〜50 ph
rが用(・られる。
本発明でいう電子部品とは、例えばトランジスター ダ
イオード、IC,LS1.ハイブリッドIC1高集積複
合プロ7り、気密電子部品、抵抗器、コンデンサー パ
ワーサプライ、トランス、磁気ヘッド、スイッチ、フレ
キシブルプリント基板などである。
本発明の組成物は、特に電子部品封止用組成物として有
用である。
本発明の組成物は融点を持つ結晶性化合物であるので、
加熱する事により低粘度溶液にする事が出来るので、内
部迄充分に均一な硬化物を得る事が出来る。加熱溶融の
温度は充填物の種類等によって一定ではないが、130
°CJR上、好ましくは150℃以上であれば良い。
又重合開始剤の種類と量を選ぶ事によって、硬化時間を
自由に調整する事が出来るのも大きな特徴である。半減
期温度の低い重合開始剤を使用すれば数10秒で硬化反
応を完了させる事が可能であるし、半減期温度の高い重
合開始剤を用いれば数時間液状を保持する事も出来る。
本発明の組成物はエポキシ樹脂等の他の粉体塗料組成物
と混合使用しても良い。又一般の粉体塗料と同様に静電
塗装、流動浸漬等の方法でコーティングする事も出来る
し、金型に充填、注型しして加熱硬化させ使用する事も
出来る。
(実施例) 以下実施例により詳細に説明する。
実施例!−10゜ 下記の表−1に示すような成分を混合したものを48メ
ツシユの篩を全通する様に粉砕し粉末成型用組成物を得
た。この粉末成型用組成物を離型剤を塗布したlO10
X20XIoのステンレス製金型に充填し、所定時間硬
化して成型物を得た。この成型物を粉砕して100メツ
シユの篩を通しIgの粉砕試料を得た。これにイオン交
換及び蒸留した純水logを加え、小オートクレーブで
140℃100時間のプレッシャークツカーテストを行
った。抽出液を電位差滴定装置により塩素イオンを測定
し組成物の重量に対して表したものを示した。
実施例11〜l 4゜ 次に表−2に示した封止用組成物を用い半田耐熱テスト
、ヒートサイクルテスト及び耐湿試験を行った。その結
果を表−2に示した。
表−エ中の略零の説明 TBPP:z−ブチルパーオキシビバレート(カヤエス
テルP化薬ヌーリー■製) TBPI : t−ブチルパーオキイソブチレート(カ
ヤエステル1化薬ヌーリー■製) BPC:1,1−ビス−1−、ブチルパーオキシシクロ
ヘキサン(トリボノックス22化薬ヌー リ −■製 
) TPNH: t−ブチルパーオキシ−3,3,5−)リ
メチルヘキサノエート(トリボノックス 42化栗ヌーリー■製) TBPIC: t−ブチルパーオキシイソプロピルカー
ボネート(カヤカルボンBIC化薬ヌーリー■製) AZ ニジ−1−ブチルパーオキシアズレート(カヤエ
ステル1化薬ヌーリー■製) TMA ニジ−1−ブチルパーオキシトリメチルアジベ
ート(カヤエステルTMA 化薬ヌーリ −■製 ) DTBP ニジ−1−ブチルパーオキサイド(カヤブチ
ルD化薬ヌーリー■製) スビロゴリコールジアクリレート二一般式mにおいて、
R1がHである化合物 スピログリコールジメタクリレートニー量大(1)にお
いて、R,がC1(3である化合物表−2 (チl)半田耐熱は1010X20X10の成型品中に
1 mmダの銅線を埋め込み250℃の半田浴IC10
秒間2回浸漬した後、クラックの発生状況を見たもので
ある。
し2)ヒートサイクルテストはl 0X20X10mm
の成型品中にl mm 96の銅線を埋め込み一り0℃
〜+200℃各10分間のサイクルを100サイクル繰
り返した後のクラックの発生状況を見たものである。
(チ3)封止用組成物を用いて、2本のアルミニウム配
線を有する電気部品を150℃、3分間の条件でトラン
スファー成型し、その後150℃で更に2時間硬化させ
た。こうして得たテストピース10個について127’
C2,5気圧のプレッシャークツカー耐湿テストを行い
、アルミニウム腐食による1ffI不良を測定した。
(発明の効果) 本発明の組成物を用いる事によりイオン性不純物の少な
い、耐熱性、耐湿性の優れた高信頼性の電子部品封止用
材料を提供する事が出来る。
本発明組成物は電子部品の封止、すなわち埋込み含浸材
、塗装用材料として、あるいは部品と部品の接着剤とし
て有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はHまたはCH_3を示す。)で表わさ
    れるエチレン性不飽和化合物(A)と有機パーオキサイ
    ド(B)を含むことを特徴とする電子部品用組成物。
JP22972188A 1988-09-16 1988-09-16 電子部品用組成物 Pending JPH0280408A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002180032A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Nhk Spring Co Ltd 電子部品のシーリング方法
EP1561862B1 (fr) * 2004-02-05 2010-08-11 Marc Struyf Elément de piste artificielle de glisse et piste artificielle de glisse comprenant un tel élément
KR101155453B1 (ko) * 2005-06-10 2012-06-15 주식회사 동진쎄미켐 포토레지스트용 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

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