JPH0280498A - フラックス用洗浄材料 - Google Patents

フラックス用洗浄材料

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JPH0280498A
JPH0280498A JP23271588A JP23271588A JPH0280498A JP H0280498 A JPH0280498 A JP H0280498A JP 23271588 A JP23271588 A JP 23271588A JP 23271588 A JP23271588 A JP 23271588A JP H0280498 A JPH0280498 A JP H0280498A
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JP
Japan
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flux
rosin
cleaning
activator
cleaning solution
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Pending
Application number
JP23271588A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriko Ikeda
紀子 池田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 ロジン系フラックス用洗浄材料に関し、フラックス用洗
浄液中の活性剤である塩基性塩酸アミン塩を除去するた
め、 該塩酸アミン塩とイオン会合体を形成する二塩基酸染料
をフラックス用洗浄液に添加して構成する。
〔産業上の利用分野) 本発明は、イオン会合体の形成を利用してフラックス用
洗浄液中の活性剤の塩酸アミン塩を選択的に除去する機
能を持ち、主成分のロジンを除去できるロジン系フラッ
クス用洗浄材料に関する。
〔従来の技術〕
電子工業分野の接合技術の中にはんだ付がある。
はんだ付とは「接合すべき母材を溶かさず、母材間に融
点の低い金属および合金を溶融・流入させて低温で接合
すること」である。一般の金属表面は特別な場合を除き
、常に酸化膜で覆われており、はんだ付作業温度ではん
だが酸化されることを防ぐために用いられるのがフラッ
クスである。特に、非腐食性フラックスとして松脂(ロ
ジン)を用いることが多い。この松脂を活性化するため
に塩基性の有機ハロゲン化合物として塩酸アミン塩が一
般に、1.0wt%以下の範囲でフラックス中に添加さ
れている。
塩酸アミン塩としては、モノメチルアミン塩酸、ジメチ
ルアミン塩酸、ジエチルアミン塩酸、nブチルアミン塩
酸およびシクロヘキシル塩酸等が用いられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ロジン系フラックス用洗浄液としては、各種の有m溶媒
が単独あるいは混合されて使用されている。これらの洗
浄液は、はぼロジンを除去できるものの、活性剤を完全
に除去できず、残渣の活性剤により母材の腐食が発生す
るという問題点がある。
これらの問題を解決することを目的とし、洗浄液と塩基
性の活性剤との溶解性を増加させるために、洗浄液を塩
基性にして用いられた。しかし、洗浄力が強くなり過ぎ
ると、母材も浸食してしまうので洗浄液の調整が困難で
ある。そこで母材を浸食することなく活性剤をi!沢的
に除去できる機能を有する材料の開発が望まれていた。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記課題を解決することを目的とし、ロジンを
除去するための有機ハロゲン化合物溶媒を主剤とするフ
ラックス用洗浄液に、フラックス中の活性剤である塩基
性塩酸アミン塩を除青するために該塩酸アミン塩とイオ
ン会合体を形成する二塩基酸染料を添加したことを特徴
とする。
〔作 用〕
酸性染料の内二塩基酸染料(11□A)が、11八−型
又はA2″型の陰イオンとして四級アンモニウムイオン
(R4N”)と選択的に結合し二元イオン会合体を形成
することの知見に基づき、かかる染料をフラックス用法
浄液に添加して活性剤である塩基性塩酸アミン塩を二元
イオン会合体として選択的に除去せんとするものである
本発明において、二塩基酸染料として特に、フロモクレ
ゾールグリーン(BCG)、ブロモクレゾールパープル
(BCP)、ブロモクロロフェノールブルー(BCPB
) 、ブロモフェノールブルー(BPB)およびブロモ
チモールブルー(BTB)が有効に使用できる。またそ
の添加量は例えば1〜10eMの範囲で好ましく選択で
きる。
なお、洗浄液の主剤である有機ハロゲン化合物溶媒とし
て特に、トリクロルエチレンと1.1゜2−トリクロル
−1,2,2−トリフルオルエタンが有効である。
以下、更に本発明を実施例により説明する。
〔実施例〕
例  l 洗浄液の主剤としてトリクロルエチレンを用い、二塩基
酸染料として5ミリモルのブロモクロロフェノールブル
ー(BCPB)を用いた。
フラックス(活性剤としてジエチルアミンを含有)を用
いてはんだ付けした母材について、主剤のみの洗浄液と
上記染料を添加した洗浄材料を用いてそれぞれ洗浄した
。それぞれの洗浄液について使用前後の500〜650
nmの分光光度測定を行ったところ、本発明の洗浄材料
の使用後についてのみ吸収極大600nmが得られた。
これはイオン会合体の生成すなわち、活性剤が除去され
たことを示している。
例2 主剤としてトリクロルエチレンを用い、二塩基酸染料と
して5mMのブロモクレゾールパープル(B CP)を
用いて洗浄材料を調製し、例1と同様に洗浄を行い分光
光度測定を行った。
その結果、上記組成の洗浄材料の使用後についてのみ吸
収極大580nmが得られた。従ってイオン会合体の生
成が確認され、活性剤が除去されたことが判明した。
〔発明の効果〕
本発明の洗浄液材料は、以上説明したように構成したも
のであるから、ロジン系フラックスを用いてはんだ付し
た母材の洗浄に利用すれば、母材を浸食することなく、
フラックス中のロジンと併せて活性剤を有効に除去でき
るし、母材の腐食を防止する効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1で得られたイオン会合体の吸収スペク
トルである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ロジンを除去するための有機ハロゲン化合物溶媒を
    主剤とするフラックス用洗浄液に、フラックス中の活性
    剤である塩基性塩酸アミン塩を除去するために該塩酸ア
    ミン塩とイオン会合体を形成する二塩基酸染料を添加し
    たことを特徴とする、ロジン系フラックス用洗浄材料。
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