JPH0282028U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0282028U JPH0282028U JP16253088U JP16253088U JPH0282028U JP H0282028 U JPH0282028 U JP H0282028U JP 16253088 U JP16253088 U JP 16253088U JP 16253088 U JP16253088 U JP 16253088U JP H0282028 U JPH0282028 U JP H0282028U
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- JP
- Japan
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- base
- storage portion
- induction heating
- frequency induction
- heating type
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
Description
第１図は本考案の一実施例を示す保持台の断面
図、第２図は他の実施例を示す保持台の断面図、
第３図はさらに別の実施例を示す保持台の断面図
、第４図は従来の気相成長装置の一例を示す断面
図である。 １０……保持台、１１……基台、１２，１２Ａ
……貯留部、１３……介在金属、Ｐ……基板。
図、第２図は他の実施例を示す保持台の断面図、
第３図はさらに別の実施例を示す保持台の断面図
、第４図は従来の気相成長装置の一例を示す断面
図である。 １０……保持台、１１……基台、１２，１２Ａ
……貯留部、１３……介在金属、Ｐ……基板。
Claims (1)
- 基板の保持と加熱とを兼ねる高周波誘導加熱式
保持台を備えた気相成長装置において、前記高周
波誘導加熱式保持台は、基台と、該基台の上面に
基板により大径で、かつ適宜深さに形成された凹
部状の貯留部と、該貯留部に貯留される前記基板
より高比重で、かつ気相成長温度で液体となる介
在金属とで構成することを特徴とする気相成長装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16253088U JPH0282028U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16253088U JPH0282028U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0282028U true JPH0282028U (ja) | 1990-06-25 |
Family
ID=31446439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16253088U Pending JPH0282028U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0282028U (ja) |
-
1988
- 1988-12-14 JP JP16253088U patent/JPH0282028U/ja active Pending
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