JPH0282041U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0282041U JPH0282041U JP1988162857U JP16285788U JPH0282041U JP H0282041 U JPH0282041 U JP H0282041U JP 1988162857 U JP1988162857 U JP 1988162857U JP 16285788 U JP16285788 U JP 16285788U JP H0282041 U JPH0282041 U JP H0282041U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- moisture absorbent
- substrate according
- bag body
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
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- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims 2
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Description
第１図は本考案のフオトマスク又はフオトマス
ク用基板の吸湿体の１実施例を示す断面図、第２
図は乾燥材シートの拡大断面図、第３図は上記本
考案と従来の吸湿体を容器に収納し、振動を加え
たときの吸湿体からの塵の発生数を比較説明する
ための図、第４図は従来のフオトマスクの容器の
断面図、第５図は従来のフオトマスク用の吸湿体
の斜視図である。 ２１……フオトマスク又はフオトマスク用基板
用吸湿体、２２……袋体、２３……乾燥材シート
、２５……シリカゲル、２６……発泡樹脂。
ク用基板の吸湿体の１実施例を示す断面図、第２
図は乾燥材シートの拡大断面図、第３図は上記本
考案と従来の吸湿体を容器に収納し、振動を加え
たときの吸湿体からの塵の発生数を比較説明する
ための図、第４図は従来のフオトマスクの容器の
断面図、第５図は従来のフオトマスク用の吸湿体
の斜視図である。 ２１……フオトマスク又はフオトマスク用基板
用吸湿体、２２……袋体、２３……乾燥材シート
、２５……シリカゲル、２６……発泡樹脂。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 袋体と該袋体内に積層して収納される乾燥
材シートからなる吸湿体において、前記袋体はマ
イクロポーラスなフイルターであり、前記乾燥材
シートはシリカゲルを発泡樹脂内に封入したもの
であることを特徴とするフオトマスク又はフオト
マスク用基板の吸湿体。 (2) 前記袋体がポリプロピレンシートであり、
前記発泡樹脂がポリエチレンであることを特徴と
する請求項１記載のフオトマスク又はフオトマス
ク用基板の吸湿体。 (3) 前記乾燥材シートの表面に凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項１記載のフオトマスク又
はフオトマスク用基板の吸湿体。 (4) 前記吸湿体を容器の蓋部に収納することを
特徴とする請求項１記載ないし請求項３にいずれ
か記載のフオトマスク又はフオトマスク用基板の
容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988162857U JPH0626903Y2 (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | フォトマスク又はフォトマスク用基板の吸湿体及び容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988162857U JPH0626903Y2 (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | フォトマスク又はフォトマスク用基板の吸湿体及び容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0282041U true JPH0282041U (ja) | 1990-06-25 |
| JPH0626903Y2 JPH0626903Y2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=31447067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988162857U Expired - Fee Related JPH0626903Y2 (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | フォトマスク又はフォトマスク用基板の吸湿体及び容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626903Y2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6046114U (ja) * | 1983-09-05 | 1985-04-01 | 加藤 隆義 | 湿度調整体 |
| JPS61185313A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 複合シ−ト及び脱湿具 |
| JPS6334273U (ja) * | 1986-04-07 | 1988-03-05 |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP1988162857U patent/JPH0626903Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6046114U (ja) * | 1983-09-05 | 1985-04-01 | 加藤 隆義 | 湿度調整体 |
| JPS61185313A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 複合シ−ト及び脱湿具 |
| JPS6334273U (ja) * | 1986-04-07 | 1988-03-05 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0626903Y2 (ja) | 1994-07-20 |
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| JPH0318787U (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |