JPH0283039A - 窒素酸化物除去触媒 - Google Patents
窒素酸化物除去触媒Info
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- JPH0283039A JPH0283039A JP63233793A JP23379388A JPH0283039A JP H0283039 A JPH0283039 A JP H0283039A JP 63233793 A JP63233793 A JP 63233793A JP 23379388 A JP23379388 A JP 23379388A JP H0283039 A JPH0283039 A JP H0283039A
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はボイラ、ガスタービン、ディーゼルエンジン及
び各種工業プロセスから排出される排ガス中に含まれる
窒素酸化物(以下、NOxという)の除去用触媒に関す
る。
び各種工業プロセスから排出される排ガス中に含まれる
窒素酸化物(以下、NOxという)の除去用触媒に関す
る。
特に、本発明はNOxを含有する排ガスに還元剤として
アンモニアを加え、400℃以上の高温で効率よ<NO
xを無害な窒素と水に還元し、しかも耐久性の優れた触
媒に関する。
アンモニアを加え、400℃以上の高温で効率よ<NO
xを無害な窒素と水に還元し、しかも耐久性の優れた触
媒に関する。
〈従来の技術〉
現在、排気ガス中のNOxを除去する方法としては、1
4濃度の酸素を含む排ガスでもNOxを選択的に除去で
き、また使用する還元剤も少量ですみ、経済的であるた
め、アンモニアを還元剤として用いる選択的接触還元法
が主流となっている。
4濃度の酸素を含む排ガスでもNOxを選択的に除去で
き、また使用する還元剤も少量ですみ、経済的であるた
め、アンモニアを還元剤として用いる選択的接触還元法
が主流となっている。
アンモニアを還元剤とする選択的接触還元法に用いられ
る触媒としてアルミナ、シリカ、ゼオライト及び酸化チ
タン等の担体にバナジウム、銅、タングステン、モリブ
デン、鉄等の酸化物を担持した触媒がこれまで数多く提
案されているが中でも、チタンを主成分とする触媒は排
ガス中のSOxの影響を受けずまた、排ガス中の802
からS03への酸化能力が低いことから現在では広く実
用化されている。一方、ガスタービン排ガスやディーゼ
ルエンジン排ガスのように、排ガス温度が500℃を越
えるものもあり、これ等の高温排ガス中のNOxを処理
するための触媒が特開昭55−167044号公報及び
特開昭57−127426号公報に既に開示されている
。
る触媒としてアルミナ、シリカ、ゼオライト及び酸化チ
タン等の担体にバナジウム、銅、タングステン、モリブ
デン、鉄等の酸化物を担持した触媒がこれまで数多く提
案されているが中でも、チタンを主成分とする触媒は排
ガス中のSOxの影響を受けずまた、排ガス中の802
からS03への酸化能力が低いことから現在では広く実
用化されている。一方、ガスタービン排ガスやディーゼ
ルエンジン排ガスのように、排ガス温度が500℃を越
えるものもあり、これ等の高温排ガス中のNOxを処理
するための触媒が特開昭55−167044号公報及び
特開昭57−127426号公報に既に開示されている
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかし、上記公報に記載された触媒4よ高温においては
、アンモニアの酸化(または分解)反応がNOxの還元
と同時に起こるため脱硝活性が今一つ充分でなく、また
、耐熱性にも問題があり、実用触媒としては決して満足
できるものでないのが現状である。
、アンモニアの酸化(または分解)反応がNOxの還元
と同時に起こるため脱硝活性が今一つ充分でなく、また
、耐熱性にも問題があり、実用触媒としては決して満足
できるものでないのが現状である。
〈本発明の目的〉
本発明の目的は400℃以上の高温において、高い脱硝
活性を有し、かつ長期間に亘って効率良くNOxを除去
できる触媒を提供することにある。
活性を有し、かつ長期間に亘って効率良くNOxを除去
できる触媒を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者等は上記目的を達成するために鋭意検討した結
果、本発明を完成させた。
果、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は排ガス中の窒素酸化物をアンモニア
と共に400〜700℃の温度で反応せしめて接触的に
還元する触媒としてチタン(Ti )およびケイ素(S
i )からなる二元系酸化物および/またはチタン(T
i)、ジルコニウム(Zr )およびケイ素(Si)か
らなる三元系酸化物を触媒A成分とし、タングステン(
W)、セリウム(Ce)、15よびスズ(Sn )より
なる群から選ばれた少くとも一種の元素の酸化物を触媒
B成分とし、さらに、酸化アルミニウム(Aj!203
)に対する酸化ケイ素(Si 02 )の比が8以上
含有してなるゼオライトを触tsC成分としてなり、か
つ触媒A成分は50〜95重量%、触媒日成分は0.5
〜10重ω%および触媒C成分は5〜50重量%の範囲
であり、さらに触媒A成分の組成が原子百分率でチタン
(■1)40〜95重量%、ケイ素(Si )および/
またはジルコニウム(Zr)5〜60重醇%の範囲であ
ることを特徴とする窒素酸化物除去用触媒を提供するも
のである。 本発明者等はチタンおよびケイ素からなる
二元系複合酸化物(以下、Ti 02−8i 02と略
記する)ならびにチタン、ジルコニウムおよびケイ素か
らなる三元系複合酸化物(以下Ti 02−Zr 02
−8i 02と略記する)を主成分とする触媒を特開昭
52=122293号公報に提案している。また、チタ
ン、リンおよびケイ素からなる三元系複合酸化物(以下
、Ti 02−P205−8i 02と略記する)なら
びにチタン、リン、ジルコニウムおよびケイ素からなる
四元系複合酸化物(以下、Ti 02−P20s −Z
r 02−8i 02と略記する)を主成分とする触媒
も特開昭57−127426号公報に既に提案している
。
と共に400〜700℃の温度で反応せしめて接触的に
還元する触媒としてチタン(Ti )およびケイ素(S
i )からなる二元系酸化物および/またはチタン(T
i)、ジルコニウム(Zr )およびケイ素(Si)か
らなる三元系酸化物を触媒A成分とし、タングステン(
W)、セリウム(Ce)、15よびスズ(Sn )より
なる群から選ばれた少くとも一種の元素の酸化物を触媒
B成分とし、さらに、酸化アルミニウム(Aj!203
)に対する酸化ケイ素(Si 02 )の比が8以上
含有してなるゼオライトを触tsC成分としてなり、か
つ触媒A成分は50〜95重量%、触媒日成分は0.5
〜10重ω%および触媒C成分は5〜50重量%の範囲
であり、さらに触媒A成分の組成が原子百分率でチタン
(■1)40〜95重量%、ケイ素(Si )および/
またはジルコニウム(Zr)5〜60重醇%の範囲であ
ることを特徴とする窒素酸化物除去用触媒を提供するも
のである。 本発明者等はチタンおよびケイ素からなる
二元系複合酸化物(以下、Ti 02−8i 02と略
記する)ならびにチタン、ジルコニウムおよびケイ素か
らなる三元系複合酸化物(以下Ti 02−Zr 02
−8i 02と略記する)を主成分とする触媒を特開昭
52=122293号公報に提案している。また、チタ
ン、リンおよびケイ素からなる三元系複合酸化物(以下
、Ti 02−P205−8i 02と略記する)なら
びにチタン、リン、ジルコニウムおよびケイ素からなる
四元系複合酸化物(以下、Ti 02−P20s −Z
r 02−8i 02と略記する)を主成分とする触媒
も特開昭57−127426号公報に既に提案している
。
本発明者らは、上記触媒の高温度領域における脱硝活性
について改良を試みた結果、TiO28102、Ti
02−Zr 02−8i 02にタングステン、セリウ
ム、スズ等の酸化物と共に、さらにA1203に対する
SiO2の比が8以上のゼオライトを分散担持させるこ
とにより驚くべきことに脱硝活性が大幅に向上し、特に
、400℃以上の高温における脱硝活性の向上が顕著で
あると同時に、耐熱性も大幅に改善されることを見い出
した。本発明触媒の高温活性向上の作用vIWJについ
て、現時点では定かではないが、以下の如く推察される
。
について改良を試みた結果、TiO28102、Ti
02−Zr 02−8i 02にタングステン、セリウ
ム、スズ等の酸化物と共に、さらにA1203に対する
SiO2の比が8以上のゼオライトを分散担持させるこ
とにより驚くべきことに脱硝活性が大幅に向上し、特に
、400℃以上の高温における脱硝活性の向上が顕著で
あると同時に、耐熱性も大幅に改善されることを見い出
した。本発明触媒の高温活性向上の作用vIWJについ
て、現時点では定かではないが、以下の如く推察される
。
触媒A成分子アルTi 02−3i 02 オJ:UT
i 02−Zr 02−8i 02は、固体酸として。
i 02−Zr 02−8i 02は、固体酸として。
知られ、構成するおのおのの単独の酸化物には、見られ
ない顕著な酸性を示し、また高比表面積を有する一方ゼ
オライドも比表面積が大きく、固体酸としての性質を示
すことは良く知られているが、本発明触媒の如<Ti
02−8i 02およびTiO2−Zr 02−8i
02にゼオライトを添加することにより、完成触媒の酸
性質が最適にコントロールされ、好ましい酸分布が得ら
れ、その結果、400℃以上、特に450℃以上の高温
で通常起こるとされているNHsのNOXへの酸化(ま
たはN2への分解)が極力抑制され、それ故、脱硝活性
が著るしく向上したものと考えられる。
ない顕著な酸性を示し、また高比表面積を有する一方ゼ
オライドも比表面積が大きく、固体酸としての性質を示
すことは良く知られているが、本発明触媒の如<Ti
02−8i 02およびTiO2−Zr 02−8i
02にゼオライトを添加することにより、完成触媒の酸
性質が最適にコントロールされ、好ましい酸分布が得ら
れ、その結果、400℃以上、特に450℃以上の高温
で通常起こるとされているNHsのNOXへの酸化(ま
たはN2への分解)が極力抑制され、それ故、脱硝活性
が著るしく向上したものと考えられる。
触媒A成分であるTi 02−8i 02またはTi
02−Zr 02−8i 02の含有量が50重量%未
満では耐熱性が悪くなり、95重量%を越えると400
℃以上でNH3の酸化(または分解)が起こり、脱硝活
性が低下するため、本発明においては触媒A成分の全触
媒中に占める割合は50〜95重員%が好ましい結果を
与える。
02−Zr 02−8i 02の含有量が50重量%未
満では耐熱性が悪くなり、95重量%を越えると400
℃以上でNH3の酸化(または分解)が起こり、脱硝活
性が低下するため、本発明においては触媒A成分の全触
媒中に占める割合は50〜95重員%が好ましい結果を
与える。
触媒A成分の組成は原子百分率でチタンが40〜95%
ケイ素および/またはジルコニウムが5〜60%の範囲
が好ましく、比表面積は30TIt/(1以上、特に、
50nt/Q以上が好ましい。
ケイ素および/またはジルコニウムが5〜60%の範囲
が好ましく、比表面積は30TIt/(1以上、特に、
50nt/Q以上が好ましい。
触媒B成分は015重量%未満になると脱硝活性が低下
し、また10重置火を越えると、脱硝活性の向上もあま
り期待できず、触媒の原料費が高くなるために、0.5
〜10重量%が好ましい。
し、また10重置火を越えると、脱硝活性の向上もあま
り期待できず、触媒の原料費が高くなるために、0.5
〜10重量%が好ましい。
また、触Il!、C成分であるゼオライトは、S1ω/
Δ1203比が8未満は排ガス中のSOxとAl2O3
が反応してその構造を破壊するのみならず、脱硝性能も
低イタメ、Si 02 /Al2O3比は8以上が好ま
しい。
Δ1203比が8未満は排ガス中のSOxとAl2O3
が反応してその構造を破壊するのみならず、脱硝性能も
低イタメ、Si 02 /Al2O3比は8以上が好ま
しい。
ゼオライトとしては例えば、モルデナイト、フェリエラ
イト、ZSM−5等が挙げられる。ゼオライトの含有量
が5重量%未満では脱硝活性が低り、40重開気を越え
ると耐熱性が悪くなり、さらに、成型性も劣るため5〜
40重量%の範囲が好ましい結果を与える。
イト、ZSM−5等が挙げられる。ゼオライトの含有量
が5重量%未満では脱硝活性が低り、40重開気を越え
ると耐熱性が悪くなり、さらに、成型性も劣るため5〜
40重量%の範囲が好ましい結果を与える。
本発明において用いられるTi 02−3i 02を調
製するには、まずチタン源として塩化チタン類、硫酸チ
タンなどの無機性チタン化合物および蓚酸チタン、テト
ライソプロピルチタネートなどの有機性チタン化合物な
どから選ぶことができ、またケイ素源としてはコロイド
状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素など無機性のケイ素
化合物およびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素化
合物などから選ぶことができる。そしてこれら原料中に
は、微量の不純物、混入物のあるものがあるが、えられ
るTi 02−8i 02の物性に大きく影響を与える
ものでない限り問題とならない。
製するには、まずチタン源として塩化チタン類、硫酸チ
タンなどの無機性チタン化合物および蓚酸チタン、テト
ライソプロピルチタネートなどの有機性チタン化合物な
どから選ぶことができ、またケイ素源としてはコロイド
状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素など無機性のケイ素
化合物およびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素化
合物などから選ぶことができる。そしてこれら原料中に
は、微量の不純物、混入物のあるものがあるが、えられ
るTi 02−8i 02の物性に大きく影響を与える
ものでない限り問題とならない。
好ましいTi 02−8i 02の調製法としては、以
下の方法が挙げられる。
下の方法が挙げられる。
■ 四塩化チタンをシリカゾルと共に混合し、アンモニ
アを添加して沈澱を生成せしめ、この沈澱を洗滌、乾燥
後300〜650℃で焼成せしめる方法。
アを添加して沈澱を生成せしめ、この沈澱を洗滌、乾燥
後300〜650℃で焼成せしめる方法。
■ 四塩化チタンにケイ酸ナトリウム水溶液を添加し、
反応せしめて沈澱を生成させ、これを洗浄乾燥後300
〜650℃で焼成せしめる方法。
反応せしめて沈澱を生成させ、これを洗浄乾燥後300
〜650℃で焼成せしめる方法。
■ 四塩化チタンの水−アルコール溶液にエチルシリケ
ート[(C21−1s 0)4Si ]を添加し加水分
解反応せしめ沈澱を形成させ、これを洗浄、乾燥後30
0〜650℃で焼成せしめる方法。
ート[(C21−1s 0)4Si ]を添加し加水分
解反応せしめ沈澱を形成させ、これを洗浄、乾燥後30
0〜650℃で焼成せしめる方法。
■ 酸化塩化チタン(Ti OCj!2)とエチルシリ
ケートの水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈澱
を形成せしめ、これを洗浄乾燥後300〜650℃で焼
成せしめる方法。
ケートの水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈澱
を形成せしめ、これを洗浄乾燥後300〜650℃で焼
成せしめる方法。
以上の好ましい方法のうちでもとくに■の方法が好まし
く、この方法は具体的には以下のごと〈実施される。す
なわち、上記チタン源およびケイ素源の化合物をTi
02とSiO2のモル比が所定量になるようにとり、酸
性の水溶液状態またはゾル状態でチタンおよびケイ素を
酸化物換算して1〜100(1/ j!の濃度とし10
〜100℃に保つ・。
く、この方法は具体的には以下のごと〈実施される。す
なわち、上記チタン源およびケイ素源の化合物をTi
02とSiO2のモル比が所定量になるようにとり、酸
性の水溶液状態またはゾル状態でチタンおよびケイ素を
酸化物換算して1〜100(1/ j!の濃度とし10
〜100℃に保つ・。
その中へ攪拌上中和剤としてアンモニア水を滴下し、1
0分間ないし3時間pH2〜10にてチタンおよびケイ
素よりなる共沈化合物を生成せしめ、濾別しよく洗浄し
たのち80〜140℃で1〜10時間乾燥し、450〜
700℃で1〜10時間焼成してT02−8i 02が
できる。
0分間ないし3時間pH2〜10にてチタンおよびケイ
素よりなる共沈化合物を生成せしめ、濾別しよく洗浄し
たのち80〜140℃で1〜10時間乾燥し、450〜
700℃で1〜10時間焼成してT02−8i 02が
できる。
また、Ti 02−Zr 02−3i 02にライては
、Ti 02−3i 02と同様の方法で調製されるも
のであり、ジルコニウム源として、塩化ジルコニウム、
硫酸ジルコニウムなどの無機性ジルコニウム化合物およ
び蓚酸ジルコニウムなど有機性ジルコニウム化合物のな
かから選ぶことができる。
、Ti 02−3i 02と同様の方法で調製されるも
のであり、ジルコニウム源として、塩化ジルコニウム、
硫酸ジルコニウムなどの無機性ジルコニウム化合物およ
び蓚酸ジルコニウムなど有機性ジルコニウム化合物のな
かから選ぶことができる。
すなわち、ジルコニウム化合物をチタン化合物と共に上
述の方法と同様に扱うことによりTi 02Zr 02
−8i 02は容易に調製しつるのである。そして、こ
のジルコニウムの存在囲は、TlO2+Zr 02 +
Si 02の合計量に対しzrO2に換算して30重量
%までの範囲内にあるのが好ましい。
述の方法と同様に扱うことによりTi 02Zr 02
−8i 02は容易に調製しつるのである。そして、こ
のジルコニウムの存在囲は、TlO2+Zr 02 +
Si 02の合計量に対しzrO2に換算して30重量
%までの範囲内にあるのが好ましい。
つぎにTi 02−8i 02 、およびTi 02−
Zr 02−8i 02と共に用いる他の触媒成分の出
発原料としては酸化物、水酸化物、アンモニウム塩、シ
lつ酸塩、ハロゲン化物などから適宜選ばれる。
Zr 02−8i 02と共に用いる他の触媒成分の出
発原料としては酸化物、水酸化物、アンモニウム塩、シ
lつ酸塩、ハロゲン化物などから適宜選ばれる。
本発明触媒の調製法の一例を示せば、モノエタノールア
ミンを含む水溶液にパラタングステン酸アンモニウムを
溶解させてえられた溶液を加えて、タングステンを含む
溶液をえる。つぎにこのえられた水溶液に上述の方法で
得たTi 02−8i02の粉体とゼオライト粉体を成
型助剤とともに加え、混合、混練し、押し出し成型機で
ハニカム状に成型する。成型物を50〜120℃で乾燥
後400〜100℃、好ましくはSOO〜650℃で1
〜10時間、好ましくは2〜6時間空気流中で焼成して
触媒を得ることができる。また別法としてTiO2−5
iO2の粉体とゼオライト粉体を予めへ二カム状とし、
これにタングステンを含む水溶液を含浸させて担持させ
る方法も採用できる。また、ざらに担体を使用すること
も可能である。担体としては、例えばアルミナ、シリカ
、シリカアルミナ、ベントナイト、ケイソウ土、シリコ
ンカーバイド、チタニア、ジルコニア、マグネシア、コ
ープイライト、ムライト、軽石、無機繊維などを用いる
ことができ、例えば粒状のシリコンカーバイドにTi
02−8i 02とゼオライト粉体および伯の触媒成分
をスラリー状としそれを含浸法により担持させる方法で
調製することができる。もちろん触媒調製法はこれらの
方法に限定されるものではない。
ミンを含む水溶液にパラタングステン酸アンモニウムを
溶解させてえられた溶液を加えて、タングステンを含む
溶液をえる。つぎにこのえられた水溶液に上述の方法で
得たTi 02−8i02の粉体とゼオライト粉体を成
型助剤とともに加え、混合、混練し、押し出し成型機で
ハニカム状に成型する。成型物を50〜120℃で乾燥
後400〜100℃、好ましくはSOO〜650℃で1
〜10時間、好ましくは2〜6時間空気流中で焼成して
触媒を得ることができる。また別法としてTiO2−5
iO2の粉体とゼオライト粉体を予めへ二カム状とし、
これにタングステンを含む水溶液を含浸させて担持させ
る方法も採用できる。また、ざらに担体を使用すること
も可能である。担体としては、例えばアルミナ、シリカ
、シリカアルミナ、ベントナイト、ケイソウ土、シリコ
ンカーバイド、チタニア、ジルコニア、マグネシア、コ
ープイライト、ムライト、軽石、無機繊維などを用いる
ことができ、例えば粒状のシリコンカーバイドにTi
02−8i 02とゼオライト粉体および伯の触媒成分
をスラリー状としそれを含浸法により担持させる方法で
調製することができる。もちろん触媒調製法はこれらの
方法に限定されるものではない。
触媒形状としては上記のハニカム状にとどまらず、円柱
状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイプ状、ドー
ナツ状、格子状、その他一体化成型されたもの等適宜選
択することができる。
状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイプ状、ドー
ナツ状、格子状、その他一体化成型されたもの等適宜選
択することができる。
本発明の触媒が使用される処理の対象となる排ガスの組
成としては、通常SOx O〜3000ppm 。
成としては、通常SOx O〜3000ppm 。
酸素1〜20容j%、炭酸ガス1〜15容凹%、水蒸気
5〜15容量%、煤11 O,01〜30(+/Nゴお
よびNOx (主にN O) 20〜11000pp
の程度に含有するものである。通常のボイラー排ガスは
この範囲に入るが、特にガス組成を限定しない。本発明
の触媒は、例えばSOxを含まない含N0XIガス、お
よびハロゲン化合物を含む含NOX排ガス等の特殊な排
ガスをも処理することができるからである。
5〜15容量%、煤11 O,01〜30(+/Nゴお
よびNOx (主にN O) 20〜11000pp
の程度に含有するものである。通常のボイラー排ガスは
この範囲に入るが、特にガス組成を限定しない。本発明
の触媒は、例えばSOxを含まない含N0XIガス、お
よびハロゲン化合物を含む含NOX排ガス等の特殊な排
ガスをも処理することができるからである。
また、処理条件としては排ガスの種類、性状によって異
なるが、まずアンモニア(NH3)の添加聞は、NOx
1部に対して0.5〜3部が好ましい。例えばボイラ
ーの排ガス組成ではNOxのうちの大部分がNoである
ので、NoとNH3のモル比1:1の近辺が特に好まし
い。過剰のNH3は未反応分として排出されないよう留
意しなければならないからである。さらに、未反応分の
NH3を極力抑制する必要のある場合はNH3/NOx
のモル比を1以下で使用することが好ましい。次に、反
応温度は300〜700℃、特に400〜650℃が好
ましく、空間速度は、1000〜100000hr”、
特に3000〜30000Hr−1の範囲が好適である
。圧力は特に限定はないが0.01〜10kO/cjの
範囲が好ましい。
なるが、まずアンモニア(NH3)の添加聞は、NOx
1部に対して0.5〜3部が好ましい。例えばボイラ
ーの排ガス組成ではNOxのうちの大部分がNoである
ので、NoとNH3のモル比1:1の近辺が特に好まし
い。過剰のNH3は未反応分として排出されないよう留
意しなければならないからである。さらに、未反応分の
NH3を極力抑制する必要のある場合はNH3/NOx
のモル比を1以下で使用することが好ましい。次に、反
応温度は300〜700℃、特に400〜650℃が好
ましく、空間速度は、1000〜100000hr”、
特に3000〜30000Hr−1の範囲が好適である
。圧力は特に限定はないが0.01〜10kO/cjの
範囲が好ましい。
反応器の形式としては特に限定はないが、通常の固定床
、移動床、流動床等の反応器が適用できる。
、移動床、流動床等の反応器が適用できる。
以下に実施例および比較例を用いて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
実施例1
Ti 02−8i 02を以下に述べる方法で調製した
。
。
水80Jlに四塩化チタン(Ti Cj!4) 11.
4kgを水冷攪拌下体々に滴下し、次にスノーテックス
−〇(8産化学(44)製シリカゾルSiO2として2
0〜21重世%含有) 4.5k(lを加えた。これ
を温度的30℃に保持しつつよく攪拌しながらアンモニ
ア水を徐々に滴下し、pHが7になるまで加え、さらに
そのまま放置して、2時間熟成した。
4kgを水冷攪拌下体々に滴下し、次にスノーテックス
−〇(8産化学(44)製シリカゾルSiO2として2
0〜21重世%含有) 4.5k(lを加えた。これ
を温度的30℃に保持しつつよく攪拌しながらアンモニ
ア水を徐々に滴下し、pHが7になるまで加え、さらに
そのまま放置して、2時間熟成した。
かくして得られたTi 02−8i 02ゲルを櫨過し
、水洗後120℃で10時間乾燥し、さらに水洗した後
600℃で3時間焼成した。得られた粉体の組成は酸化
物としてTi 02 /Si 02 =4 (モル比)
で、BET表面積は18G?7f/!IIであった。
、水洗後120℃で10時間乾燥し、さらに水洗した後
600℃で3時間焼成した。得られた粉体の組成は酸化
物としてTi 02 /Si 02 =4 (モル比)
で、BET表面積は18G?7f/!IIであった。
ここで得られた粉体を以後TS−1と呼ぶ。
モノエタノールアミン21ai!を水210Idと混合
し、これにパラタングステン酸アンモニウム58.3σ
を加え溶解させ、均一な溶液とする。さらにこの溶液を
上記の粉体(T 5−1) 6500と東洋ソーダ製H
型ゼオライトTSZ620HOA (Si 02 /A
1203= 10) 300aに加えニーダで適量の水
を添加しつつよく混合、混練した後、押し出し成型機で
直径4sφ、長さ5 trta Lのペレット状に成型
した。ついで60℃で乾燥し600℃で5時間空気流通
下で焼成した。得られた完成触媒中のTS−1、H型ゼ
オライトおよびWO3の含有量は、重量%でそれぞれ6
5%、30%、5%であった。
し、これにパラタングステン酸アンモニウム58.3σ
を加え溶解させ、均一な溶液とする。さらにこの溶液を
上記の粉体(T 5−1) 6500と東洋ソーダ製H
型ゼオライトTSZ620HOA (Si 02 /A
1203= 10) 300aに加えニーダで適量の水
を添加しつつよく混合、混練した後、押し出し成型機で
直径4sφ、長さ5 trta Lのペレット状に成型
した。ついで60℃で乾燥し600℃で5時間空気流通
下で焼成した。得られた完成触媒中のTS−1、H型ゼ
オライトおよびWO3の含有量は、重量%でそれぞれ6
5%、30%、5%であった。
実施例2
4塩化チタン11.41(g、酸塩化ジルコニウム[Z
r 0Cf2−8t−42071,2Kgおよびスノー
テックス−03,4Kgを用いた以外は実施例1に準じ
てTi 02−Zr 02−8i 02を調製した。得
られた粉体の組成は酸化物としてTi 02 :Zr
O2:Si 02 =80: 5:15(T−/L/
比)でSET表面積は210Td/(lであった。得ら
れた粉体をT Z S −1と呼び、このT Z S−
1を用いて実施例1と同様にして同様の組成の触媒を調
製した。得られた完成触媒中の丁ZS−1、H型ぜオラ
イドおよびWO3の含有量は重量%でそれぞれ65%、
30%、5%であった。
r 0Cf2−8t−42071,2Kgおよびスノー
テックス−03,4Kgを用いた以外は実施例1に準じ
てTi 02−Zr 02−8i 02を調製した。得
られた粉体の組成は酸化物としてTi 02 :Zr
O2:Si 02 =80: 5:15(T−/L/
比)でSET表面積は210Td/(lであった。得ら
れた粉体をT Z S −1と呼び、このT Z S−
1を用いて実施例1と同様にして同様の組成の触媒を調
製した。得られた完成触媒中の丁ZS−1、H型ぜオラ
イドおよびWO3の含有量は重量%でそれぞれ65%、
30%、5%であった。
実施例3〜7
実施例1で得られたTi 02−8i 02粉体(TS
−1)を用いてWO3、Ce 02 、Sn 02およ
びH型ゼオライトの組成を変えて実施例1に準じて触媒
を調製した。得られた触媒組成はfiffi%で示すと
下記の通りである。
−1)を用いてWO3、Ce 02 、Sn 02およ
びH型ゼオライトの組成を変えて実施例1に準じて触媒
を調製した。得られた触媒組成はfiffi%で示すと
下記の通りである。
比較例1〜3
実施例1で得られたTi 02−8i 02粉体(T
5−1)を用いてWO3およびH型ゼオライトの組成を
変えて実施例1に準じて触媒を調製した。
5−1)を用いてWO3およびH型ゼオライトの組成を
変えて実施例1に準じて触媒を調製した。
得られた触媒組成は、m聞%で示すと下記の通りである
。
。
実施例1〜7および比較例1〜3の各触媒について次の
ような方法で脱硝率を求めた。
ような方法で脱硝率を求めた。
触120.ml!を電気炉に投入した内116.の石英
製反応管に充填し、下記組成の合成ガスを触媒層に導入
した。反応器前後のNOx濃度を柳本製作所製化学発光
式NOx計(ECL−77A型)により測定し、次式に
従って脱硝率を算出した。
製反応管に充填し、下記組成の合成ガスを触媒層に導入
した。反応器前後のNOx濃度を柳本製作所製化学発光
式NOx計(ECL−77A型)により測定し、次式に
従って脱硝率を算出した。
脱硝率(%)=
入口NOx濃度−出口NOx濃度
反応ガス条件
ガスffi 3.33 N 1 /
1lin空間速a (S V ) 100OO
Hr −1NH3/NOX (モル比)1.0 ガス組成 N Ox 100100pp 1
5% 802 200ppm )120 10% N2 残り 胃られた結果を表1に示す。
1lin空間速a (S V ) 100OO
Hr −1NH3/NOX (モル比)1.0 ガス組成 N Ox 100100pp 1
5% 802 200ppm )120 10% N2 残り 胃られた結果を表1に示す。
また、実施例1,5.6および比較例1.3の各触媒に
ついて次のような方法で耐熱試験を行なった。
ついて次のような方法で耐熱試験を行なった。
電気炉を用いて500℃で熱曝露を行ない、経過時間に
伴う500℃での脱硝率の変化を調べた。得られた結果
を表2に示す。
伴う500℃での脱硝率の変化を調べた。得られた結果
を表2に示す。
表
(脱
硝
率
%)
表1 (脱硝率%)
〈発明の効果〉
本発明における触媒は、400℃以上の高温において高
い脱硝性能を有しかつ長期間に亘って効率良<NOxを
除去できる触媒である。
い脱硝性能を有しかつ長期間に亘って効率良<NOxを
除去できる触媒である。
Claims (1)
- (1)排ガス中の窒素酸化物をアンモニアと共に400
〜700℃の温度で反応せしめて接触的に還元する触媒
としてチタン(Ti)およびケイ素(Si)からなる二
元系酸化物および/またはチタン(Ti)、ジルコニウ
ム(Zr)およびケイ素(Si)からなる三元系酸化物
を触媒A成分とし、タングステン(W)、セリウム(C
e)およびスズ(Sn)よりなる群から選ばれた少くと
も一種の元素の酸化物を触媒B成分とし、さらに、酸化
アルミニウム(Al_2O_3)に対する酸化ケイ素(
SiO_2)の比が8以上含有してなるゼオライトを触
媒C成分としてなり、かつ触媒A成分は50〜95重量
%、触媒B成分は0.5〜10重量%および触媒C成分
は5〜50重量%の範囲であり、さらに触媒A成分の組
成が原子百分率でチタン(Ti)40〜95重量%、ケ
イ素(Si)および/またはジルコニウム(Zr)5〜
60重量%の範囲であることを特徴とする窒素酸化物除
去用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63233793A JPH0283039A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 窒素酸化物除去触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63233793A JPH0283039A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 窒素酸化物除去触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283039A true JPH0283039A (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=16960657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63233793A Pending JPH0283039A (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 窒素酸化物除去触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0283039A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108554462A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-09-21 | 南京工业大学 | 一种铈钨钛脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP63233793A patent/JPH0283039A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108554462A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-09-21 | 南京工业大学 | 一种铈钨钛脱硝催化剂及其制备方法和应用 |
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