JPH02843Y2 - - Google Patents
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- JPH02843Y2 JPH02843Y2 JP19935084U JP19935084U JPH02843Y2 JP H02843 Y2 JPH02843 Y2 JP H02843Y2 JP 19935084 U JP19935084 U JP 19935084U JP 19935084 U JP19935084 U JP 19935084U JP H02843 Y2 JPH02843 Y2 JP H02843Y2
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- JP
- Japan
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- sample
- hole
- electron beam
- backscattered
- beam path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案はX線マイクロアナライザーにおいて、
反射電子検出器や光学顕微鏡の対物レンズが反射
電子の照射によつて汚れるのを極力抑えることの
できる装置に関する。
反射電子検出器や光学顕微鏡の対物レンズが反射
電子の照射によつて汚れるのを極力抑えることの
できる装置に関する。
[従来の技術]
X線マイクロアナライザーでは、試料に電子線
を照射した際に発生する特性X線をX線分光器に
より分光して試料表面の微小分析を行うと同時
に、光学顕微鏡を用いて試料の予備観察や分光器
の位置合せあるいは分析位置の位置合せ等を行つ
ている。さらに、反射電子検出器を組込んで、試
料の形態観察もできるようになしてある。
を照射した際に発生する特性X線をX線分光器に
より分光して試料表面の微小分析を行うと同時
に、光学顕微鏡を用いて試料の予備観察や分光器
の位置合せあるいは分析位置の位置合せ等を行つ
ている。さらに、反射電子検出器を組込んで、試
料の形態観察もできるようになしてある。
[考案が解決しようとする問題点]
しかして、このような装置においては、電子線
が試料を照射している間中、その試料から発生す
る反射電子が光学顕微鏡の反射型対物レンズや反
射電子検出器を照射するため、その照射部分が汚
染されるので、これらの部材を頻繁に交換しなけ
ればならなかつた。尚、反射型対物レンズにおい
ては、この対物レンズが直接汚染されるのでな
く、実際には反射電子の照射によりこの対物レン
ズが帯電することを防止するために、対物レンズ
の入射部分にガラス板が設けてあるので、このガ
ラス板が反射電子の照射により汚染されることに
なる。
が試料を照射している間中、その試料から発生す
る反射電子が光学顕微鏡の反射型対物レンズや反
射電子検出器を照射するため、その照射部分が汚
染されるので、これらの部材を頻繁に交換しなけ
ればならなかつた。尚、反射型対物レンズにおい
ては、この対物レンズが直接汚染されるのでな
く、実際には反射電子の照射によりこの対物レン
ズが帯電することを防止するために、対物レンズ
の入射部分にガラス板が設けてあるので、このガ
ラス板が反射電子の照射により汚染されることに
なる。
かかるガラス板や反射電子検出器の汚染をでき
るだけ少なくするために、X線分析を行うときの
み対物レンズと試料との間に試料を照射する電子
線を通過させる穴と試料から発生するX線を通過
させる穴を形成したシヤツタ板を配置することに
よりガラス板や反射電子検出器に反射電子が照射
されのを防止することが考えられるが、シヤツタ
板を余分に設けなければならないため、構成の大
型化及びコストアツプの原因となる。
るだけ少なくするために、X線分析を行うときの
み対物レンズと試料との間に試料を照射する電子
線を通過させる穴と試料から発生するX線を通過
させる穴を形成したシヤツタ板を配置することに
よりガラス板や反射電子検出器に反射電子が照射
されのを防止することが考えられるが、シヤツタ
板を余分に設けなければならないため、構成の大
型化及びコストアツプの原因となる。
一方、対物レンズと試料との間には、冷却槽に
接続された冷却トラツプが設置され、試料近傍の
ガス分子を吸着することにより試料が汚染される
のを防止している。
接続された冷却トラツプが設置され、試料近傍の
ガス分子を吸着することにより試料が汚染される
のを防止している。
そこで、本考案者はかかる冷却トラツプをガラ
ス板や反射電子検出器への反射電子の照射防止用
として利用することを目的とするものである。
ス板や反射電子検出器への反射電子の照射防止用
として利用することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本考案は試料上に
電子線を細く集束して照射するための対物レンズ
と、前記試料からの光を電子線通路を通して取出
し試料の光学像を観察するための光学顕微鏡と、
前記電子線照射により試料から発生する特性X線
を分析するための少なくとも1組のX線分光器
と、前記電子線照射により試料から発生する反射
電子を検出するために対物レンズと試料との間に
電子線通路を避けて配置された反射電子検出器
と、前記試料近傍のガス分子を吸着するために前
記反射電子検出器と試料との間に置かれた冷却ト
ラツプとを備え、前記冷却トラツプに大きな径を
有する第1の穴とこの第1の穴から離れた位置に
形成された小さい径を有する第2の穴を夫々設
け、該第2の穴の近傍にX線通過用の少なくとも
1個の穴を設け、前記冷却トラツプを移動して第
1の穴と第2の穴とを選択的に電子線通路上に配
置するための手段を設け、前記第1の穴が電子線
通路上に置かれたとき試料の光学像や反射電子走
査像の観察が行われるようになし、また第2の穴
が電子線通路上に置かれたときX線分光のみが行
われるようになしたことを特徴とする。
電子線を細く集束して照射するための対物レンズ
と、前記試料からの光を電子線通路を通して取出
し試料の光学像を観察するための光学顕微鏡と、
前記電子線照射により試料から発生する特性X線
を分析するための少なくとも1組のX線分光器
と、前記電子線照射により試料から発生する反射
電子を検出するために対物レンズと試料との間に
電子線通路を避けて配置された反射電子検出器
と、前記試料近傍のガス分子を吸着するために前
記反射電子検出器と試料との間に置かれた冷却ト
ラツプとを備え、前記冷却トラツプに大きな径を
有する第1の穴とこの第1の穴から離れた位置に
形成された小さい径を有する第2の穴を夫々設
け、該第2の穴の近傍にX線通過用の少なくとも
1個の穴を設け、前記冷却トラツプを移動して第
1の穴と第2の穴とを選択的に電子線通路上に配
置するための手段を設け、前記第1の穴が電子線
通路上に置かれたとき試料の光学像や反射電子走
査像の観察が行われるようになし、また第2の穴
が電子線通路上に置かれたときX線分光のみが行
われるようになしたことを特徴とする。
[実施例]
第1図は本考案の一実施例を示す断面図、第2
図は本考案に用いられる冷却トラツプの平面図で
あり、1はX線マイクロアナライザーの試料室で
ある。2はこの試料室1内に置かれた試料、3は
この試料上に図示外の電子銃から発生した電子線
4を細く集束して照射するための対物レンズ、
5,6は試料2の光学像を観察するための光学顕
微鏡の反射型対物レンズで、前記対物レンズ3の
電子線通路内に置かれており、また、これらのレ
ンズの中心部には電子線4を通過させるための穴
が夫々形成されている。さらに、反射型対物レン
ズ6は前記対物レンズ3に固定された環状のガラ
ス板7によつて保持されており、このガラス板を
通して試料2から光Lがこれらの反射型対物レン
ズ5,6に入射するようになしてある。
図は本考案に用いられる冷却トラツプの平面図で
あり、1はX線マイクロアナライザーの試料室で
ある。2はこの試料室1内に置かれた試料、3は
この試料上に図示外の電子銃から発生した電子線
4を細く集束して照射するための対物レンズ、
5,6は試料2の光学像を観察するための光学顕
微鏡の反射型対物レンズで、前記対物レンズ3の
電子線通路内に置かれており、また、これらのレ
ンズの中心部には電子線4を通過させるための穴
が夫々形成されている。さらに、反射型対物レン
ズ6は前記対物レンズ3に固定された環状のガラ
ス板7によつて保持されており、このガラス板を
通して試料2から光Lがこれらの反射型対物レン
ズ5,6に入射するようになしてある。
8は前記試料2と対物レンズ3との間に置かれ
た環状の半導体素子からなる反射電子検出器で、
検出された信号は図示外の陰極線管に映像信号と
して供給され、反射電子による走査像が観察でき
る。また、この反射電子検出器の内径は前記反射
型対物レンズ5,6に入射する光Lの通過を妨げ
ないような大きさを有している。
た環状の半導体素子からなる反射電子検出器で、
検出された信号は図示外の陰極線管に映像信号と
して供給され、反射電子による走査像が観察でき
る。また、この反射電子検出器の内径は前記反射
型対物レンズ5,6に入射する光Lの通過を妨げ
ないような大きさを有している。
9は試料2から発生する特性X線XをX線分析
するための波長分散型X線分光器における分光結
晶で、分光されたX線は図示外のX線検出器に検
出される。また。図示はしないが本実施例では波
長分散型X線分光器はこの他に2つの組込まれて
いて、同時に3種類のX線分析が行えるようにな
してある。
するための波長分散型X線分光器における分光結
晶で、分光されたX線は図示外のX線検出器に検
出される。また。図示はしないが本実施例では波
長分散型X線分光器はこの他に2つの組込まれて
いて、同時に3種類のX線分析が行えるようにな
してある。
10は前記試料2と反射電子検出器8との間に
置かれた冷却トラツプで、熱伝導棒11を介して
大気中に置かれた液体窒素12を満した冷却槽1
3に熱的に接続されており、これにより冷却トラ
ツプ10は低温に保たれるため、試料近傍のガス
分子を吸着し、試料が汚染されることを防止す
る。この冷却トラツプ10には第2図に示すよう
に一定の間隔を保つて第1及び第2の穴14,1
5が夫々形成されており、この内、第1の穴14
の直径は試料照射用電子線4は勿論のこと試料2
からの光L及び特性X線Xの通過を妨げないよう
な大きさを有している。また、第2の穴15の直
径は試料照射電子線のみが通過できる大きさを有
している。この第2の穴15の周りには各分散型
X線分光器の分光結晶に入射する特性X線Xを通
過させるための穴16a,16b,16cが夫々
形成されている。さらに、第1及び第2の穴1
4,15の中心は電子線4の中心(光軸Z)を通
る円弧C上に夫々配置されている。前記円弧Cの
中心は熱伝導棒11と中心と一致している。
置かれた冷却トラツプで、熱伝導棒11を介して
大気中に置かれた液体窒素12を満した冷却槽1
3に熱的に接続されており、これにより冷却トラ
ツプ10は低温に保たれるため、試料近傍のガス
分子を吸着し、試料が汚染されることを防止す
る。この冷却トラツプ10には第2図に示すよう
に一定の間隔を保つて第1及び第2の穴14,1
5が夫々形成されており、この内、第1の穴14
の直径は試料照射用電子線4は勿論のこと試料2
からの光L及び特性X線Xの通過を妨げないよう
な大きさを有している。また、第2の穴15の直
径は試料照射電子線のみが通過できる大きさを有
している。この第2の穴15の周りには各分散型
X線分光器の分光結晶に入射する特性X線Xを通
過させるための穴16a,16b,16cが夫々
形成されている。さらに、第1及び第2の穴1
4,15の中心は電子線4の中心(光軸Z)を通
る円弧C上に夫々配置されている。前記円弧Cの
中心は熱伝導棒11と中心と一致している。
17は前記冷却槽13の外周に空間を保つて置
かれ、且つ熱的に遮断された状態で一体化された
外槽で、この外槽は試料室1の上壁に回転可能に
貫通、保持されている。18はこの外槽17を回
転させるためのハンドルで、外槽17に固定した
カラー19に螺着されている。このカラー19の
外周の同一円周上には2つの窪み20,21(2
1は図示せず)が形成されており、この窪み20
と21との間隔は前記第1と第2の穴14と15
との開き角θと対応している。また、この窪み2
0,21内にはスプリング22により押圧された
ボール23が夫々嵌合され、、その各位置が規制
される。24はこのスプリング22とボール23
とを保持するための台で、試料室1に固定されて
いる。
かれ、且つ熱的に遮断された状態で一体化された
外槽で、この外槽は試料室1の上壁に回転可能に
貫通、保持されている。18はこの外槽17を回
転させるためのハンドルで、外槽17に固定した
カラー19に螺着されている。このカラー19の
外周の同一円周上には2つの窪み20,21(2
1は図示せず)が形成されており、この窪み20
と21との間隔は前記第1と第2の穴14と15
との開き角θと対応している。また、この窪み2
0,21内にはスプリング22により押圧された
ボール23が夫々嵌合され、、その各位置が規制
される。24はこのスプリング22とボール23
とを保持するための台で、試料室1に固定されて
いる。
しかして、今、第1図にその状態を示すように
冷却トラツプ10の第1の穴14が光軸Z上に一
致している場合には、試料2からの光Lが穴1
4、反射電子検出器8の内側を通過して反射型対
物レンズ5,6に入射するため試料の光学像が観
察できると共に、試料から発生する反射電子Eが
穴14を通過して反射電子検出器8に検出される
ため試料の走査像が観察される。さらに、試料2
からの特性X線Xもこの穴14を通過して分光結
晶9に入射するためX線分析を行うことができ
る。その結果、光学像により試料2のX線分析位
置の位置合せを行なつたり、分光器の位置合せ等
を行うことができる。さらに、走査像により試料
の形態観察を行うことができる。
冷却トラツプ10の第1の穴14が光軸Z上に一
致している場合には、試料2からの光Lが穴1
4、反射電子検出器8の内側を通過して反射型対
物レンズ5,6に入射するため試料の光学像が観
察できると共に、試料から発生する反射電子Eが
穴14を通過して反射電子検出器8に検出される
ため試料の走査像が観察される。さらに、試料2
からの特性X線Xもこの穴14を通過して分光結
晶9に入射するためX線分析を行うことができ
る。その結果、光学像により試料2のX線分析位
置の位置合せを行なつたり、分光器の位置合せ等
を行うことができる。さらに、走査像により試料
の形態観察を行うことができる。
次に、ハンドル18により外槽17、つまり冷
却トラツプ10を第2図中矢印A方向に回転させ
て第2の穴15を光軸Z上に配置すると、穴15
を通過した電子線4が試料2を照射することによ
り発生する特性X線X、が穴16a,16b,1
6cを夫々通過して各分光結晶に入射しX線分析
が行われると共に、反射電子E及び光Lは冷却ト
ラツプ10により遮断される。従つて、試料2か
ら発生する反射電子Eがガラス板7及び反射電子
検出器8に衝突するのを阻止することができるた
め、それだけこれらの部材が汚染されるのを防止
でき、寿命を長くすることができる。
却トラツプ10を第2図中矢印A方向に回転させ
て第2の穴15を光軸Z上に配置すると、穴15
を通過した電子線4が試料2を照射することによ
り発生する特性X線X、が穴16a,16b,1
6cを夫々通過して各分光結晶に入射しX線分析
が行われると共に、反射電子E及び光Lは冷却ト
ラツプ10により遮断される。従つて、試料2か
ら発生する反射電子Eがガラス板7及び反射電子
検出器8に衝突するのを阻止することができるた
め、それだけこれらの部材が汚染されるのを防止
でき、寿命を長くすることができる。
尚、前述の説明では冷却トラツプに形成した第
1と第2の穴の切換えはこの冷却トラツプを回転
させることによつて行つたが、これに限定される
ことなく例えば往復運動により切換えを行うよう
になしても良い。また、X線分析を行うためのス
イツチの開閉動作に連動させて、自動的に冷却ト
ラツプを回転させることにより第1と第2の穴の
切換えを行うように構成しても良い。さらに、分
散型X線分光器を3つの組込んだ場合について述
べたが、2つあるいは4つ以上組込んでも良い。
1と第2の穴の切換えはこの冷却トラツプを回転
させることによつて行つたが、これに限定される
ことなく例えば往復運動により切換えを行うよう
になしても良い。また、X線分析を行うためのス
イツチの開閉動作に連動させて、自動的に冷却ト
ラツプを回転させることにより第1と第2の穴の
切換えを行うように構成しても良い。さらに、分
散型X線分光器を3つの組込んだ場合について述
べたが、2つあるいは4つ以上組込んでも良い。
[考案の効果]
以上のように本考案においては、X線分析を行
う際、試料から発生する反射電子が光学顕微鏡の
ガラス板や反射電子検出器に衝突するのを阻止す
る部材として既存の冷却トラツプを使用している
ため、簡単な構成にしてガラス板や反射電子検出
器の寿命を長くすることができる。
う際、試料から発生する反射電子が光学顕微鏡の
ガラス板や反射電子検出器に衝突するのを阻止す
る部材として既存の冷却トラツプを使用している
ため、簡単な構成にしてガラス板や反射電子検出
器の寿命を長くすることができる。
第1図は本考案の一実施例を示す断面図、第2
図は本考案に使用される冷却トラツプの平面図で
ある。 1:試料室、2:試料、3:対物レンズ、4:
電子線、5,6:反射型対物レンズ、7:ガラス
板、8:反射電子検出器、9:分光結晶、10:
冷却トラツプ、11:熱伝導棒、12:液体窒
素、13:冷却槽、14,15:第1、第2の
穴、16a乃至16c:穴、17:外槽、19:
ハンドル、20:窪み、22:スプリング、2
3:ボール。
図は本考案に使用される冷却トラツプの平面図で
ある。 1:試料室、2:試料、3:対物レンズ、4:
電子線、5,6:反射型対物レンズ、7:ガラス
板、8:反射電子検出器、9:分光結晶、10:
冷却トラツプ、11:熱伝導棒、12:液体窒
素、13:冷却槽、14,15:第1、第2の
穴、16a乃至16c:穴、17:外槽、19:
ハンドル、20:窪み、22:スプリング、2
3:ボール。
Claims (1)
- 試料上に電子線を細く集束して照射するための
対物レンズと、前記試料からの光を電子線通路を
通して取出し試料の光学像を観察するための光学
顕微鏡と、前記電子線照射により試料から発生す
る特性X線を分析するための少なくとも1組のX
線分光器と、前記電子線照射により試料から発生
する反射電子を検出するために対物レンズと試料
との間に電子線通路を避けて配置された反射電子
検出器と、前記試料近傍のガス分子を吸着するた
めに前記反射電子検出器と試料との間に置かれた
冷却トラツプとを備え、前記冷却トラツプに大き
な径を有する第1の穴とこの第1の穴から離れた
位置に形成された小さい径を有する第2の穴を
夫々設け、該第2の穴の近傍にX線通過用の少な
くとも1個の穴を設け、前記冷却トラツプを移動
して第1の穴と第2の穴とを選択的に電子線通路
上に配置するための手段を設け、前記第1の穴が
電子線通路上に置かれたとき試料の光学像や反射
電子走査像の観察が行われるようになし、また第
2の穴が電子線通路上に置かれたときX線分光の
みが行われるようになしたことを特徴とするX線
マイクロアナライザー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19935084U JPH02843Y2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19935084U JPH02843Y2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61114757U JPS61114757U (ja) | 1986-07-19 |
| JPH02843Y2 true JPH02843Y2 (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=30759190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19935084U Expired JPH02843Y2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02843Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6046457A (en) * | 1998-01-09 | 2000-04-04 | International Business Machines Corporation | Charged particle beam apparatus having anticontamination means |
| WO2007119873A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | 走査型電子顕微鏡 |
| JP7813455B2 (ja) * | 2022-03-03 | 2026-02-13 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | X線分光装置及びx線分光システム |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP19935084U patent/JPH02843Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61114757U (ja) | 1986-07-19 |
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