JPH0285351A - 真空容器の製造方法 - Google Patents
真空容器の製造方法Info
- Publication number
- JPH0285351A JPH0285351A JP23735688A JP23735688A JPH0285351A JP H0285351 A JPH0285351 A JP H0285351A JP 23735688 A JP23735688 A JP 23735688A JP 23735688 A JP23735688 A JP 23735688A JP H0285351 A JPH0285351 A JP H0285351A
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- stainless steel
- vacuum
- vacuum vessel
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空チャンバー、配管など真空容器の製造方法
に関する。
に関する。
従来より真空容器用材料には素材として5O3304,
5US304Lなどの18Cr−8NiステンレスX(
JISG 4304他)が主に用いられ、その表面はG
BB(ガラスビードブラスト)処理、電解研磨処理され
て使用されることが一般的である。
5US304Lなどの18Cr−8NiステンレスX(
JISG 4304他)が主に用いられ、その表面はG
BB(ガラスビードブラスト)処理、電解研磨処理され
て使用されることが一般的である。
上記ステンレス材料は放出ガス量が少なく、耐食性、加
工性、溶接性にも優れ、真空容器用材料としてほぼ満足
できるものであり、10−’Pa台の真空も比較的容易
に得ることができる。
工性、溶接性にも優れ、真空容器用材料としてほぼ満足
できるものであり、10−’Pa台の真空も比較的容易
に得ることができる。
しかしながら、例えばMBE(モリキュラ、ビーム、エ
ピタキシー)装置のように成長させる結晶の品質面から
10−’Pa台の真空が要求されるのもその一例である
が、最近の真空のニーズは高度になっており、その要求
を満たすには真空容器用材料の放出ガス量が極力少ない
ことが真空装置の設計、制作上必須である。本発明は高
真空容器、配管などに適した放出ガス特性のすぐれたス
テンレス材料を提供せんとするものである。
ピタキシー)装置のように成長させる結晶の品質面から
10−’Pa台の真空が要求されるのもその一例である
が、最近の真空のニーズは高度になっており、その要求
を満たすには真空容器用材料の放出ガス量が極力少ない
ことが真空装置の設計、制作上必須である。本発明は高
真空容器、配管などに適した放出ガス特性のすぐれたス
テンレス材料を提供せんとするものである。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明者らは
、上記事情に鑑み放出ガス量が極めて少な(、かつ耐食
性、加工性、溶接性にも優れた金属材料を得るべく種々
検討をおこなった結果、Mn、 Nを多く含有させたス
テンレス鋼がこのような目的に合致することを見出し、
既に特許出願(特J1162−157893号)してい
るが、さらに詳細な検討を加えた結果、上記ステンレス
鋼の表面酸化処理により同材料放出ガス量がさらに減す
ることを確゛かめた。
、上記事情に鑑み放出ガス量が極めて少な(、かつ耐食
性、加工性、溶接性にも優れた金属材料を得るべく種々
検討をおこなった結果、Mn、 Nを多く含有させたス
テンレス鋼がこのような目的に合致することを見出し、
既に特許出願(特J1162−157893号)してい
るが、さらに詳細な検討を加えた結果、上記ステンレス
鋼の表面酸化処理により同材料放出ガス量がさらに減す
ることを確゛かめた。
表面酸化は通常大気圧の空気中において200〜500
°Cの温度で5〜50時間の加熱によってなされるが、
雰囲気は空気中に限らず他の酸化性雰囲気でもよい。
°Cの温度で5〜50時間の加熱によってなされるが、
雰囲気は空気中に限らず他の酸化性雰囲気でもよい。
本発明が対象とするステンレス鋼の成分範囲は重量比で
、C0,08%以下、Si2.0%以下、Mn2、0〜
15.0%、Cr15〜23%、Nt7〜20%、NO
,05〜0.35%、残部は実質的にFeである。
、C0,08%以下、Si2.0%以下、Mn2、0〜
15.0%、Cr15〜23%、Nt7〜20%、NO
,05〜0.35%、残部は実質的にFeである。
各成分範囲の限定理由は次のとおりである。
CTCはオーステナイト安定化元素であるが、多すぎる
と溶接したときにCr炭化物を析出し、耐食性を損なう
ため上限を0.08%とした。
と溶接したときにCr炭化物を析出し、耐食性を損なう
ため上限を0.08%とした。
S i: S iは製鋼時、脱酸のために必要であり、
耐酸化性には有効に働らくが、強力なフェライト生成元
素であり、2.0%を越えると加工性を損なうた・め上
限を2.0%とした。
耐酸化性には有効に働らくが、強力なフェライト生成元
素であり、2.0%を越えると加工性を損なうた・め上
限を2.0%とした。
M n : M nはオーステナイト安定化元素として
有効であると同時に真空中への放出ガス量を著しく低下
させる。下限の2.0%はこのような放出ガス特性から
定めたもので、これより低くなると効果は少ない、また
15.0%を越えると延性低下により加工性を損なうた
め上限を15.0%とした。
有効であると同時に真空中への放出ガス量を著しく低下
させる。下限の2.0%はこのような放出ガス特性から
定めたもので、これより低くなると効果は少ない、また
15.0%を越えると延性低下により加工性を損なうた
め上限を15.0%とした。
Cr:Crはステンレス鋼の基本成分であり、優れた耐
食性を得るには最低15%を必要とする。
食性を得るには最低15%を必要とする。
一方23%を越えると加工性が悪くなるので上限を23
%とした。
%とした。
Ni:Ni はオーステナイトステンレス鋼の基本成分
の1つである。加工性、耐食性に有効な元素であるが下
限として7%以上を必要とする。また20%を越えると
向上効果割合は小さく、高価であることから上限を20
%とした。
の1つである。加工性、耐食性に有効な元素であるが下
限として7%以上を必要とする。また20%を越えると
向上効果割合は小さく、高価であることから上限を20
%とした。
NUNは強力なオーステナイト安定化元素であると同時
に熱間加工性を向上させる。熱間加工性向上には0.0
5%以上の添加を必要とする。一方高すぎると変形抵抗
が大きくなり製造性を損なうため上限を0.35%とし
た。
に熱間加工性を向上させる。熱間加工性向上には0.0
5%以上の添加を必要とする。一方高すぎると変形抵抗
が大きくなり製造性を損なうため上限を0.35%とし
た。
Mn、Nを多く含有するようなステンレス鋼は本発明の
他にも存在し、例えば5tlS 201(Mn5.5〜
7.5%、N≦0.25%)として知られているが本発
明とはその成分範囲も異なり、これら既存の合金ではM
n、Hの積極的な添加は専らNiの代用としてオーステ
ナイト相安定化という目的にあり、表面酸化状態をつく
りだすことと相俟って、本発明者らが初めて明らかにし
たような放出ガス量を抑制するという放出ガス特性改善
効果については何らの知見もなかった。さらにこれらの
既存合金はNi節減型であるので耐食性に難点がある(
S(Is 201のNi量は3.5〜5.5%)。例外
的にNi量が高いものとしてASTM規格にXM19が
あるがNb、 Vを含んでおり、Nb、 VはTi
と同じように合金中の水素量を増大し高真空領域での放
出ガス量を著しく増加させ真空用材料としては不適であ
る。
他にも存在し、例えば5tlS 201(Mn5.5〜
7.5%、N≦0.25%)として知られているが本発
明とはその成分範囲も異なり、これら既存の合金ではM
n、Hの積極的な添加は専らNiの代用としてオーステ
ナイト相安定化という目的にあり、表面酸化状態をつく
りだすことと相俟って、本発明者らが初めて明らかにし
たような放出ガス量を抑制するという放出ガス特性改善
効果については何らの知見もなかった。さらにこれらの
既存合金はNi節減型であるので耐食性に難点がある(
S(Is 201のNi量は3.5〜5.5%)。例外
的にNi量が高いものとしてASTM規格にXM19が
あるがNb、 Vを含んでおり、Nb、 VはTi
と同じように合金中の水素量を増大し高真空領域での放
出ガス量を著しく増加させ真空用材料としては不適であ
る。
表面酸化した高Mnステンレス鋼が放出ガス特性に効果
を発揮する理由は不明であるが、表面酸化皮膜をオージ
ェ電子分光法(AES)により調べた結゛果、後述する
実施例に示した比較例1の5US304Lでは鉄、クロ
ム主体の酸化物であるのに対し、本発明2.3および4
のステンレス鋼では鉄、クロム、マンガン主体の酸化物
であった。酸化皮膜の厚さに関しては4種とも500〜
700人の範鵡で放出ガス量との相関は見られなかった
。高真空領域、特に超高真空領域では真空中の残留ガス
主成分は水素ガスである。これは主に真空容器構成材料
であるステンレス鋼中の水素が真空側に接する表面から
放出されるためであるが、高Mnステンレス鋼ではMn
を含んだ表面酸化皮膜が水素の拡散を遅らせ、真空中へ
の水素の放出を抑えているものと考えられる。
を発揮する理由は不明であるが、表面酸化皮膜をオージ
ェ電子分光法(AES)により調べた結゛果、後述する
実施例に示した比較例1の5US304Lでは鉄、クロ
ム主体の酸化物であるのに対し、本発明2.3および4
のステンレス鋼では鉄、クロム、マンガン主体の酸化物
であった。酸化皮膜の厚さに関しては4種とも500〜
700人の範鵡で放出ガス量との相関は見られなかった
。高真空領域、特に超高真空領域では真空中の残留ガス
主成分は水素ガスである。これは主に真空容器構成材料
であるステンレス鋼中の水素が真空側に接する表面から
放出されるためであるが、高Mnステンレス鋼ではMn
を含んだ表面酸化皮膜が水素の拡散を遅らせ、真空中へ
の水素の放出を抑えているものと考えられる。
大気中に保持されるステンレス鋼はいかに金属光沢を放
とうともその表面には不働態皮膜などの薄い酸化皮膜を
有する。SiC祇#600研磨したステンレス鋼表面に
も約30〜50人の皮膜が存在する。大気中200〜5
00°Cの温度で5〜50時間の酸化処理を行ったもの
では約300〜1000人の皮膜が生成する。
とうともその表面には不働態皮膜などの薄い酸化皮膜を
有する。SiC祇#600研磨したステンレス鋼表面に
も約30〜50人の皮膜が存在する。大気中200〜5
00°Cの温度で5〜50時間の酸化処理を行ったもの
では約300〜1000人の皮膜が生成する。
同一組成・構造をもつ皮膜においては膜厚の大きなほど
水素の拡散抑制能は大きいが、皮膜厚が1000人を大
きく越えるようになると皮膜内にクランクが生じ水素の
拡散抑制能は減少に転する。
水素の拡散抑制能は大きいが、皮膜厚が1000人を大
きく越えるようになると皮膜内にクランクが生じ水素の
拡散抑制能は減少に転する。
以下に本発明の製造方法によるステンレス鋼と比較例と
してSOS 304Lの放出ガス特性を示す。
してSOS 304Lの放出ガス特性を示す。
真空溶解→熱間圧延→溶体化処理した材料から板状試料
を切りだし、SiC紙#600研磨後アセトンで脱脂し
た後、それぞれ第1表に示す処理をおこない試験に用い
た。試料表面積を試料室表面積以上となるようにし、オ
リフィス法で放出ガス料の測定をおこなった。
を切りだし、SiC紙#600研磨後アセトンで脱脂し
た後、それぞれ第1表に示す処理をおこない試験に用い
た。試料表面積を試料室表面積以上となるようにし、オ
リフィス法で放出ガス料の測定をおこなった。
室温排気24hr、さらに250℃X24hrのベーキ
ング後室温排気24hrの試験である。
ング後室温排気24hrの試験である。
供試材成分を第1表、
試験結果を第2表に示す。
第2表
この結果から本発明の製造方法により調整されたステン
レス鋼は比較例のSO3304Lに比し、放出ガス量が
少なく放出ガス特性が極めてすぐれていることが明らか
である。
レス鋼は比較例のSO3304Lに比し、放出ガス量が
少なく放出ガス特性が極めてすぐれていることが明らか
である。
実施例にも示した如く、本発明は高真空容器、配管など
に用いるのに適した放出ガス特性のすぐれたステンレス
材料を提供するものであり、超高真空を必要とする装置
を始めとし、中・高真空領域で使用される装置において
も小排気能力のポンプの使用を可能にするなど、真空装
置の設計、制作を容易にし、その工業的価値は著しく大
なるものである。
に用いるのに適した放出ガス特性のすぐれたステンレス
材料を提供するものであり、超高真空を必要とする装置
を始めとし、中・高真空領域で使用される装置において
も小排気能力のポンプの使用を可能にするなど、真空装
置の設計、制作を容易にし、その工業的価値は著しく大
なるものである。
Claims (2)
- (1)C:0.08%以下、Si:2.0%以下、Mn
:2.0〜15.0%、Cr:15〜23%、Ni:7
〜20%、N:0.05〜0.35%を含有し、残部が
Feおよび不可避的不純物よりなるステンレス鋼を表面
酸化した後、真空容器に組立てることを特徴とする真空
容器の製造方法。 - (2)C:0.08%以下、Si:2.0%以下、Mn
:2.0〜15.0%、Cr:15〜23%、Ni:7
〜20%、N:0.05〜0.35%を含有し、残部が
Feおよび不可避的不純物よりなるステンレス鋼により
組立てられた真空容器の真空側表面を酸化することを特
徴とする真空容器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23735688A JP2575050B2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 真空容器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23735688A JP2575050B2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 真空容器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0285351A true JPH0285351A (ja) | 1990-03-26 |
| JP2575050B2 JP2575050B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=17014182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23735688A Expired - Lifetime JP2575050B2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 真空容器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2575050B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003013181A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Nippon Steel Corp | 真空機器用オーステナイト系ステンレス鋼およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-09-21 JP JP23735688A patent/JP2575050B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003013181A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Nippon Steel Corp | 真空機器用オーステナイト系ステンレス鋼およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2575050B2 (ja) | 1997-01-22 |
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