JPH0294582A - 金属蒸気レーザの出力安定化方法 - Google Patents

金属蒸気レーザの出力安定化方法

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JPH0294582A
JPH0294582A JP24462888A JP24462888A JPH0294582A JP H0294582 A JPH0294582 A JP H0294582A JP 24462888 A JP24462888 A JP 24462888A JP 24462888 A JP24462888 A JP 24462888A JP H0294582 A JPH0294582 A JP H0294582A
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JP
Japan
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metal vapor
vapor laser
temperature
heater
carrier gas
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JP24462888A
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Kyoichi Deki
恭一 出来
Shinji Sugioka
晋次 杉岡
Masaki Yoshioka
正樹 吉岡
Hiroshige Haneda
博成 羽田
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/134Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 一産業上の利用分野〕 本発明は、金属蒸気レーザ装置から発振される金属蒸気
レーザの出力安定化方法に関する。
〔技術の背景〕
金属蒸気レーザは、レーザ管内に金属とキャリアガスと
を封入し、当該金属の蒸気を利用してレーザ発振を起こ
させるものである。
現在において、実用化されている金属蒸気レーザとして
は、放電の陽光柱部分を用いてレーザ発振させるいわゆ
る陽光柱型があり、具体的には、キャリアガスとしてヘ
リウムを、金属としてカドミウムを用いてなる陽光柱型
のHe−Cd” レーザが知られている。
このHe−Cd” レーザは、例えば波長325nmの
紫外線を連続発振することができ、また波長442nm
の短波長域の可視光線も連続発振することができること
から、近年需要が増加し、例えばレーザプリンター、ホ
ログラフィ−、フォトプロッターカラースキャナー等の
光源として種々の分野で利用されている。
しかして、金属蒸気レーザにおいては、使用時間の経過
に伴い金属蒸気が管内壁等に凝結する際にヘリウムガス
がトラップされて当該ヘリウムガ・ス圧力が低下するた
めレーザが不安定となりやすい。
これを防止するため、従来は、ヘリウムガス供給器を金
属蒸気レーザ管に接続してヘリウムガスを適宜金属蒸気
レーザ管内に補充するようにしている。
第3図は、斯かるヘリウムガス供給器を備えた従来の金
属蒸気レーザ装置の一例を示し、70は金属蒸気レーザ
管、71は金属溜、72はカソード、73はアノード、
80はヘリウムガス供給器、81は低圧室、82は中圧
室、83は高圧室、84.85は隔壁、86はヒータ、
87は圧力検出器である。
低圧室81は金属蒸気レーザ管70内に連通し、高圧室
83には高圧のヘリウムガスが充填されている。
隔壁84.85 は、低圧室81、中圧室82、高圧室
83を区画するものであり、温度によりヘリウムガス透
過率が変化する例えば石英ガラス等により構成されてい
る。
圧力検出器87は低圧室81内のヘリウムガス圧力を検
出するものであり、この金属蒸気レーザ装置においては
、圧力検出器87による検出結果に基づいてヒータ86
への供給電力を制御して隔壁84.85の温度を変化さ
せることによりヘリウムガス透過率を調整し、これによ
り金属蒸気レーザ管70内のヘリウムガス圧力を一定化
し、いわば間接的に金属蒸気レーザの出力を安定化する
ものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記の出力安定化手段は、障壁84.85の温
度を変化させてヘリウムガス透過量を制御することによ
り、金属蒸気レーザの出力を安定化する手段であるため
、金属蒸気レーザ装置の周囲温度の急激な低下により金
属レーザ管70内のヘリウムガス圧力が低下した場合に
起因して生ずる出力変化に対しては、出力の安定化を迅
速に達成することができない。これは、出力の変化を検
出してからヘリウムガスが金属蒸気レーデ管70内に補
充されるまでに相当の時間を要するからである。
また、周囲温度が上昇して金属蒸気レーザ管70内のヘ
リウムガス圧力が上昇した場合に起因して生ずる出力変
化に対しては、ヘリウムガス透過量を制御する手段によ
っては出力の安定化を達成することができない。
本発明は以上の如き事情に基づいてなされたものであっ
て、その目的は、上記の問題を解決し、金属蒸気レーザ
の出力を短期的に迅速に安定化できる金属蒸気レーザの
出力安定化方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明は、金属蒸気レーザ装
置から発振される金属蒸気レーザの出力安定化方法にお
いて、前記金属蒸気レーザ装置が、金属蒸気レーザ管と
、この金属蒸気レーザ管内にキャリアガスを補充するキ
ャリアガス供給器と、当該金属蒸気レーザ管の雰囲気温
度を検出する温度検出器とを備え、前記キャリアガス供
給器が、温度によりキャリアガス透過率が変化する隔壁
により区画された、前記金属蒸気レーザ管内に連通ずる
低圧室と、キャリアガスが高圧で充填された高圧室と、
前記隔壁の温度を制御する第1のヒータと、前記低圧室
の温度を制御する第2のヒータとを備え、前記温度検出
器よりの検出信号に基づいて前記第2のヒータへの供給
電力をフィードバック制御して前記金属蒸気レーザ管内
のキャリアガス圧力を一定化することにより金属蒸気レ
ーザの出力を短期的に安定化することを特徴とする。
〔作用〕
金属蒸気レーザ管の雰囲気温度を検出する温度検出器の
検出信号に基づいて第2のヒータへの供給電力をフィー
ドバック制御して低圧室内の温度を制御すると、当該低
圧室内のキャリアガス圧力がボイル・シャルルの法則に
基づいて迅速に変化して金属蒸気レーザ管内のキャリア
ガス圧力が一定化される。従って、金属蒸気レーザ装置
の周囲温度の変化により金属レーザ管内のヘリウムガス
圧力が変化して出力が変化した場合に、短期的に迅速に
金属蒸気レーザの出力の安定化を達成することができる
〔発明の具体的構成〕
以下、本発明の構成を具体的に説明する。
第1図は本発明の実施に好適な金属蒸気レーザ装置の一
例を示す説明図である。
同図において、10は例えばHe−Cd+レーザを発振
させるための金属蒸気レーザ管、11は金属溜、12は
出力ミラー、13は反射ミラー、20はキャリアガスを
補充するキャリアガス供給器、30は第1のヒータ、4
0は第2のヒータ、50は温度検出器、60は第2のヒ
ータの制御回路である。
キャリアガス供給器20において、21は実質的にキャ
リアガス不透過性の外管、22は外管21の内部を低圧
室23と高圧室24とに区画する隔壁であって温度によ
りキャリアガス透過率が変化する材料により構成されて
いる。
低圧室23は連結管25により金属蒸気レーザ管10の
放電空間に連通している。従って、低圧室23内のキャ
リアガス圧力は金属蒸気レーザ管10内のキャリアガス
圧力と実質的に同一である。低圧室23の内容積は金属
蒸気レーザ管10の内容積の例えば1ン3以上である。
そして、高圧室24内には、キャリアガスが高圧で充填
されている。
この例の金属蒸気レーザ管10はキャリアガスとしてヘ
リウムガスを用いるので、隔壁22の構成材料としては
例えば石英ガラス等を用いることができる。特に石英ガ
ラスはヘ−リウムガス透過率の温度依存性が優れていて
ヘリウムガスの透過を迅速に達成することができる。ま
た、この例の隔壁22は管状の形態を有しているので、
当該v;ik壁22の面積が大きくて透過量の制御範囲
が広く、また熱的な応答性が向上する。高圧室24内に
はヘリウムガスが通常300〜400 Torr程度の
圧力で充填され、低圧室23内のヘリウムガスの圧力は
、通常5〜6Tor、r程度の範囲内である。外管21
の構成材料としては、ヘリウムガスを実質上透過しない
例えばコバールガラス等の硬質ガラス等を用いることが
できる。
第1のヒータ30は隔壁22の温度を制御して当該隔壁
22を透過するキャリアガスの景を制御するものである
。この例においては、出力検出器31と、比較回路32
と、基準電圧源33と、電力増幅器34とにより構成さ
れる電力制御回路により第1のヒータ30がフィードバ
ック制御され、これにより金属蒸気レーザ管10内に不
足分のキャリアガスが補充される。この第1のヒータ3
0は例えばニクロム線等の抵抗線よりなり、隔壁22を
構成する石英ガラス管内に挿入されて配置されている。
第2のヒータ40は、温度検出器50よりの検出信号に
基づいて低圧室23内の温度を制御するものである。こ
の例においては、温度検出器50と、制御回路60とに
より第2のヒータ40への供給電力がフィードバック制
御される。この第2のヒータ40は、第1のヒータ30
とは別個独立に制御される。
この第2のヒータ40は、例えばニクロム線等の抵抗線
よりなり、低圧室23を囲む外管21の外周に巻回され
ている。
温度検出器50は、金属蒸気レーザ管10の雰囲気温度
を検出するものであり、金属蒸気レーザ管10の周囲に
配置されている。
制御回路60において、61は温度検出器50よりの検
出信号を受ける温度比較回路、62は温度比較回路の基
準電圧源、63は温度比較回路61よりの信号に基づい
て制御された電力を第2のヒータ40へ供給する電力増
幅器である。この制御回路60により温度検出器50の
検出信号に基づいて第2のヒータ40への供給電力がフ
ィードバック制御される。
すなわち、温度検出器50により雰囲気温度が検出され
るとその検出信号が温度比較回路61において基準電圧
162と比較され、この温度比較回路61の出力端子か
らは、その差を打ち消すための出力信号、すなわち雰囲
気温度が基準電圧源62によって規定される所定の一定
レベルとなるような出力信号が発生し、次いでこの出力
信号が電力増幅器63に送られ、この電力増幅器63に
より増幅された電力が第2のヒータ40に供給される。
このように制御された電力で第2のヒータ40により低
圧室23内の温度が制御されるので、ボイル・シャルル
の法則に基づいて金属蒸気レーザ管10内のキャリアガ
ス圧力が迅速に短期的に一定化される。
第2図は、He−Cdゝレーザ管内のヘリウムガス圧力
と、He−Cd” レーザの出力(実線で示す)との関
係を示す説明図である。この図から理解されるように、
両者には一定の相関関係があるので、・ヘリウムガス圧
力を変化させることにより He−Cd+レーザの出力
を制御することができる。そして、このような相関関係
はその他の金属蒸気レーザについても一般に適用できる
ことが判明している。第2図において、点Aは発振時に
おいて出力が安定化されているときの動作点、点Bは非
発振時におけるHe−Cd”″レーザ管内のヘリウムガ
ス圧力を示す。
以上の構成によれば、次のようにして金属蒸気レーザの
出力が短期的に迅速に安定化される。
金属蒸気レーザの出力が点Aに対応する一定値Pに安定
化されている状態において、雰囲気温度が低下すると、
金属蒸気レーザ管10内のヘリウムガス圧力が減少して
金属蒸気レーザの出力が点Aよりも左側の点Cに移動す
る。しかして、雰囲気温度の低下は温度検出器50によ
り検出されてその検出信号に基づいて制御回路60によ
り第2のヒータ40への供給電力がフィードバック制御
されるので、第2のヒータ40への供給電力が増加して
低圧室23内の加熱が迅速に行われる。従って、いわゆ
るボイル・シャルルの法則に基づいて金属蒸気レーザ管
10内のヘリウムガス圧力が迅速に変化し、これにより
金属蒸気レーザ管10内のヘリウムガス圧力が元の点A
にまで迅速に復帰し、金属蒸気レーデの出力が短期的に
一定値Pに維持されるようになる。
また、雰囲気温度が上昇すると、金属蒸気レーザ管10
内のヘリウムガス圧力が増加して金属蒸気レーザの出力
が点Aよりも右側の点りに移動する。
しかして、雰囲気温度の上昇は温度検出器50により検
出されて、第2のヒータ40への供給電力が上記と逆方
向にフィードバック制御されるので、金属蒸気レーザの
出力が短期的に一定値Pに維持されるようになる。
一方、第1のヒータ30への供給電力は、金属蒸気レー
ザの出力を検出する出力検出器31により検出された結
果に基づいてフィードバック制御され、これにより隔壁
22を透過するヘリウムガス量が制御されるので、金属
蒸気レーザ管10内のヘリウムガス圧力の低下すなわち
雰囲気温度の低下に対しては有効に制御できるが、雰囲
気温度が上昇してヘリウムガス圧力が上昇した場合には
有効に制御することができない。斯かる欠点を補償する
のが、第2のヒータ40である。すなわち、第2のヒー
タ40は低圧室23を囲む状態で巻かれており、この第
2のヒータ40への供給電力が雰囲気温度に基づいてフ
ィードバック制御されるので、雰囲気温度が上昇してヘ
リウムガス圧力が増加した場合にもボイル・シャルルの
法則に基づいてこれを減少させる方向に有効に制御する
ことができる。
以上の実施例によれば、金属蒸気レーザ管10の3囲気
温度を検出してその検出信号に基づいて第2のヒータ4
0への供給電力をフィードバック制御するので、当該低
圧室23内のキャリアガス圧力がボイル・シャルルの法
則に基づいて迅速に変化する。従って、金属蒸気レーザ
装置の周囲温度の急激な変化が生じても、金、寓レーザ
管10内のキャリアガス圧力を迅速に短期的に一定化す
ることができ、その結果、金属蒸気レーザの出力を短期
的に安定化することができる。
以上、本発明を一実施例に基づいて説明したが、本発明
の適用の対象となる金属蒸気レーザ装置の具体的構成は
、上記実施例に限定されず、種々の変形を施すことがで
きる。また、金属としてもカドミウムに限定されずその
他の金属を用いてもよく、さらに金属と組合せるキャリ
アガスとしてもヘリウムガスに限定されずその他のガス
を用いてもよい。
〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、本発明によれば、第、2の
ヒータへの供給電力を、金属蒸気レーザ管の雰囲気温度
に基づいてフィードバック制御するので、雰囲気温度の
変化に起因して生ずる出力の変化を迅速に防止して金属
蒸気レーザの出力を短期的に安定化することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施に好適な金属蒸気レーザ装置の一
例を示す説明図、第2図はHe−Cd” レーザ管内の
ヘリウムガス圧力とHe−Cd” レーザの出力との関
係を示す説明図、第3図は従来の方法を適用した金属蒸
気レーザ装置の一例を示す説明図である。 lO・・・金属蒸気レーザ管 11・・・金属溜12・
・・出力ミラー    13・・・反射ミラー20・・
・キャリアガス供給器 21・・・外管       22・・・隔壁23・・
・低圧室      24・・・高圧室(″ 25・・・連結管      30・・・第1のヒータ
31・・・出力検出器    32・・・比較回路33
・・・基準電圧源    34・・・電力増幅器40・
・・第2のヒータ   50・・・温度検出器60・・
・制御回路     61・・・温度比較回路62・・
・基2!II電圧源    63・・・電力増幅器70
・・・金属蒸気レーザ管 71・・・金属溜72・・・
カソード     73・・・アノード80・・・ヘリ
ウムガス供給器 81・・・低圧室 83・・・高圧室 86・・・ヒータ 82・・・中圧室 84、85・・・隔壁 87・・・圧力検出器 十 図 −A−3図 8゜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属蒸気レーザ装置から発振される金属蒸気レー
    ザの出力安定化方法において、 前記金属蒸気レーザ装置が、金属蒸気レーザ管と、この
    金属蒸気レーザ管内にキャリアガスを補充するキャリア
    ガス供給器と、当該金属蒸気レーザ管の雰囲気温度を検
    出する温度検出器とを備え、前記キャリアガス供給器が
    、温度によりキャリアガス透過率が変化する隔壁により
    区画された、前記金属蒸気レーザ管内に連通する低圧室
    と、キャリアガスが高圧で充填された高圧室と、前記隔
    壁の温度を制御する第1のヒータと、前記低圧室の温度
    を制御する第2のヒータとを備え、 前記温度検出器よりの検出信号に基づいて前記第2のヒ
    ータへの供給電力をフィードバック制御して前記金属蒸
    気レーザ管内のキャリアガス圧力を一定化することによ
    り金属蒸気レーザの出力を短期的に安定化することを特
    徴とする金属蒸気レーザの出力安定化方法。
JP24462888A 1988-09-30 1988-09-30 金属蒸気レーザの出力安定化方法 Pending JPH0294582A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108759703A (zh) * 2018-06-12 2018-11-06 合肥工业大学 一种检测热场内隔热结构形变的装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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