JPH029810A - 紫外線遮断剤およびこれを含有する化粧料 - Google Patents
紫外線遮断剤およびこれを含有する化粧料Info
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- JPH029810A JPH029810A JP16047888A JP16047888A JPH029810A JP H029810 A JPH029810 A JP H029810A JP 16047888 A JP16047888 A JP 16047888A JP 16047888 A JP16047888 A JP 16047888A JP H029810 A JPH029810 A JP H029810A
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- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
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- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
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- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
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- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
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- A61K2800/59—Mixtures
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アナタース型とルチルをの両結晶相を有する
酸化チタンからなる、隠蔽力が低く、紫外線吸収効果の
高い紫外線遮断剤及びこれを含有する化粧料に関する。
酸化チタンからなる、隠蔽力が低く、紫外線吸収効果の
高い紫外線遮断剤及びこれを含有する化粧料に関する。
従来、化粧料等の分野において、紫外線遮断剤としては
紫外線吸収剤及び紫外線散乱剤が使用されている。
紫外線吸収剤及び紫外線散乱剤が使用されている。
紫外線吸収剤としては、微粒子化酸化チタン、微粒子化
酸化亜鉛等の無機紫外線吸収剤、並びにベンゾフェノン
系誘導体、安息置設系誘導体、サリチル酸系誘導体、ケ
イ皮酸系誘導体等の有機紫外線吸収剤が知られている。
酸化亜鉛等の無機紫外線吸収剤、並びにベンゾフェノン
系誘導体、安息置設系誘導体、サリチル酸系誘導体、ケ
イ皮酸系誘導体等の有機紫外線吸収剤が知られている。
しかしながら、有機紫外線吸収剤は分解し易く、経時的
に効果が低下すると共に化学的反応性が高くて皮膚に対
する安全性が悪いという欠点があり、また無機紫外線吸
収剤、例えば微粒子化酸化チタンの場合には吸収領域が
２９０〜３２０ｎｍの波長のＵＶ−Ｈにかぎられ、３２
０〜４００ ｎｍのＵＶ−Ａの遮断効果が劣るという欠
点があり、微粒子化酸化亜鉛の場合には吸収領域が３６
０〜３７０画と狭く、吸収も弱いという欠点があった。
に効果が低下すると共に化学的反応性が高くて皮膚に対
する安全性が悪いという欠点があり、また無機紫外線吸
収剤、例えば微粒子化酸化チタンの場合には吸収領域が
２９０〜３２０ｎｍの波長のＵＶ−Ｈにかぎられ、３２
０〜４００ ｎｍのＵＶ−Ａの遮断効果が劣るという欠
点があり、微粒子化酸化亜鉛の場合には吸収領域が３６
０〜３７０画と狭く、吸収も弱いという欠点があった。
一方、紫外線散乱剤としては、酸化亜鉛、酸化チタン等
が知られているが、これらは充分な紫外線遮断効果を期
待しようとすると、隠蔽力が高いため化粧膜が白くなシ
厚化粧的になシ、不自然な仕上りとなるという欠点があ
った。
が知られているが、これらは充分な紫外線遮断効果を期
待しようとすると、隠蔽力が高いため化粧膜が白くなシ
厚化粧的になシ、不自然な仕上りとなるという欠点があ
った。
従って、触媒活性が低く皮膚に対して安全で、紫外線全
領域についての遮断効果が高く、しかも持続性に優れた
紫外線遮断剤の開発が望まれていた。
領域についての遮断効果が高く、しかも持続性に優れた
紫外線遮断剤の開発が望まれていた。
斯かる実状において、本発明者は、上記課題を解決せん
と鋭意研究を行った結果、特定の結晶構造を有する酸化
チタンが高い紫外線遮断作用を有することを見出し、本
発明を完成した。
と鋭意研究を行った結果、特定の結晶構造を有する酸化
チタンが高い紫外線遮断作用を有することを見出し、本
発明を完成した。
すなわち、本発明は、アナタース製とルチル型の両結晶
相を有し、ｘｇ回折のピーク強度比として求めたアナタ
ース型／ルチル型の結晶形比が０．０１〜２の酸化チタ
ンからなる紫外線遮断剤、並びにこれを含有する化粧料
を提供するものである。
相を有し、ｘｇ回折のピーク強度比として求めたアナタ
ース型／ルチル型の結晶形比が０．０１〜２の酸化チタ
ンからなる紫外線遮断剤、並びにこれを含有する化粧料
を提供するものである。
本発明において、アナタース型／ルチル型の結晶形比は
、Ｘ線回折によるアナタース型を示す格子面間隔３．５
２Ａのピーク（ＰＡ）とルチル梨を示す格子面間隔１２
４７Ａのピーク（ＰＲ）とのピーク強度の比ＰＡ／ＰＲ
によって求めたものである。
、Ｘ線回折によるアナタース型を示す格子面間隔３．５
２Ａのピーク（ＰＡ）とルチル梨を示す格子面間隔１２
４７Ａのピーク（ＰＲ）とのピーク強度の比ＰＡ／ＰＲ
によって求めたものである。
従来使用されてきた酸化チタンはＰＡ／ＰＲ二〇の全て
ルチル盤のものであるか、またはＰＡ／ＰＲ＝ωの全て
アナタース戯のものが一般的でめシ、Ｉ＃殊なものと′
してＰＡ／ＰＲ＝４．７６の微粒子化酸化チタン（ｒＲ
化チタンＰ−２５、デクツサ社展）が知られているにす
ぎない。また、製造上、両結晶の混晶が偶然に生成する
場合が極希におるが、この場合においても、その混晶は
、アナタース型結晶中に微量のルチル型結晶が存在する
か、ろるいはルチル型結晶中に微量のアナタース型結晶
が存在するにすぎないものである。
ルチル盤のものであるか、またはＰＡ／ＰＲ＝ωの全て
アナタース戯のものが一般的でめシ、Ｉ＃殊なものと′
してＰＡ／ＰＲ＝４．７６の微粒子化酸化チタン（ｒＲ
化チタンＰ−２５、デクツサ社展）が知られているにす
ぎない。また、製造上、両結晶の混晶が偶然に生成する
場合が極希におるが、この場合においても、その混晶は
、アナタース型結晶中に微量のルチル型結晶が存在する
か、ろるいはルチル型結晶中に微量のアナタース型結晶
が存在するにすぎないものである。
しかしながら、これら従来の酸化チタンは。
前述した如く、紫外線遮断効果において不充分であるが
、アナタース型とルチル型の結晶形の比率（ＰＡ／Ｐｇ
）を０．０１〜２に制御して両者を共存させた本発明の
酸化チタンは、驚くべきことに、著しく広い範囲の紫外
線について高い吸収を示す。
、アナタース型とルチル型の結晶形の比率（ＰＡ／Ｐｇ
）を０．０１〜２に制御して両者を共存させた本発明の
酸化チタンは、驚くべきことに、著しく広い範囲の紫外
線について高い吸収を示す。
本発明で使用される酸化チタンは、ＰＡ／ＰＲが０．０
１〜２、好ましくは０．０５〜１のものでろシ、更に平
均粒径が１０〜５ＱＱｎｍ、特に２０〜２００ｎｍのも
のが好ましい。
１〜２、好ましくは０．０５〜１のものでろシ、更に平
均粒径が１０〜５ＱＱｎｍ、特に２０〜２００ｎｍのも
のが好ましい。
本発明の斯かる酸化チタンは、例えばアナタース型酸化
チタンを焼成することにより製造される。すなわち、平
均粒径約３Ｑｎｍの微粒子化酸化チタン（Ｐ−２５，デ
クツサ社展）を２００〜１００ＯＣ，好ましくは５００
〜８００℃の温度で、大気中、ＰＡ／ＰＲが０．０１〜
２になるまで、通常０．１〜４時間−好ましくは０．２
〜２時間電気炉で焼成することによって製造される。ま
た、焼成は大気中の他、酸素雰囲気中、窒素雰囲気中、
もしくは希ガス雰囲気中で行うことができる。
チタンを焼成することにより製造される。すなわち、平
均粒径約３Ｑｎｍの微粒子化酸化チタン（Ｐ−２５，デ
クツサ社展）を２００〜１００ＯＣ，好ましくは５００
〜８００℃の温度で、大気中、ＰＡ／ＰＲが０．０１〜
２になるまで、通常０．１〜４時間−好ましくは０．２
〜２時間電気炉で焼成することによって製造される。ま
た、焼成は大気中の他、酸素雰囲気中、窒素雰囲気中、
もしくは希ガス雰囲気中で行うことができる。
本発明の酸化チタンは、紫外線吸収能を損わない限シ、
表面を金属石鹸処理、シリコン処理、シアルキルリン酸
処理、フッ素処理、Ｎ−アシルグルタミン酸アルミニウ
ム等による疎水化処理を行ってもよい。
表面を金属石鹸処理、シリコン処理、シアルキルリン酸
処理、フッ素処理、Ｎ−アシルグルタミン酸アルミニウ
ム等による疎水化処理を行ってもよい。
当該酸化チタンの化粧料への配合量は剤型によっても異
なるが、通常α１〜６０重量％が好ましい。酸化チタン
の量を６０重量％を超えて配合してもこれ以上の紫外線
遮断効果の向上は得られないと共に、通常の化粧膜の厚
さ（数ミクロン）に塗布すると下地を完全に隠蔽してし
まい好ましくなく、また０、１重量％未満では充分な効
果が得られない。
なるが、通常α１〜６０重量％が好ましい。酸化チタン
の量を６０重量％を超えて配合してもこれ以上の紫外線
遮断効果の向上は得られないと共に、通常の化粧膜の厚
さ（数ミクロン）に塗布すると下地を完全に隠蔽してし
まい好ましくなく、また０、１重量％未満では充分な効
果が得られない。
本発明化粧料は、この酸化チタンを常法によシ公知の化
粧料基剤に配合し、クリーム。
粧料基剤に配合し、クリーム。
溶液、油剤スプレー スティック、乳液、ファンデーシ
ョン、軟ＩＦ等の剤型にすることにより調製される。す
なわち、オイル基剤の化粧膜、多量にオイルを配合する
油性クリームや油性乳液、水を多量に配合する物膜性ク
リームや物膜性乳液、水ペースの化粧水等の基礎化粧品
から油剤を基剤とするファンデーションやリップスティ
ック等のメイクアツノ化粧料に到るまで、紫外線遮断作
用を必要とするあらゆる形態の化粧品を製造することが
できる。
ョン、軟ＩＦ等の剤型にすることにより調製される。す
なわち、オイル基剤の化粧膜、多量にオイルを配合する
油性クリームや油性乳液、水を多量に配合する物膜性ク
リームや物膜性乳液、水ペースの化粧水等の基礎化粧品
から油剤を基剤とするファンデーションやリップスティ
ック等のメイクアツノ化粧料に到るまで、紫外線遮断作
用を必要とするあらゆる形態の化粧品を製造することが
できる。
これに適した基剤及び溶剤としては、固体状あるいは液
状ノＱ ９ フィン、クリスタルオイル、セレシン、オ
シケライト又はモンタンろうなどの炭化水素類ニオリー
ブ、地ろう、カルナウバろう、ラノリン又は鯨ろうなど
の檀切油もしくは動物性油脂やろう一更にステアリン酸
、”ルミチン酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリ
ン酸エステル、グリセリンシステアリン酸エステル、グ
リセリンモノオレイン酸エステル、インゾロビルミリス
チン酸エステル、インブロビルステアリン酸エステル又
はブチルステアリン酸エステル等の脂肪酸及びそのエス
テル類；エチルアルコール。
状ノＱ ９ フィン、クリスタルオイル、セレシン、オ
シケライト又はモンタンろうなどの炭化水素類ニオリー
ブ、地ろう、カルナウバろう、ラノリン又は鯨ろうなど
の檀切油もしくは動物性油脂やろう一更にステアリン酸
、”ルミチン酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリ
ン酸エステル、グリセリンシステアリン酸エステル、グ
リセリンモノオレイン酸エステル、インゾロビルミリス
チン酸エステル、インブロビルステアリン酸エステル又
はブチルステアリン酸エステル等の脂肪酸及びそのエス
テル類；エチルアルコール。
イソゾロビルアルコール、セチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ノ９ルミチルアルコール又はヘキシルド
デシルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。
ルアルコール、ノ９ルミチルアルコール又はヘキシルド
デシルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。
また、グリコール、グリセリン又はソルビトールなどの
保湿作用を有する多価アルコール類も使用することがで
きる。
保湿作用を有する多価アルコール類も使用することがで
きる。
本発明化粧料には、更に池の紫外線吸収剤を組み合せて
配合することもできる。他の紫外線吸収剤としては、例
えばｐ−メチルベンゾリデンーＤ、Ｌ−ショウノウ又は
そのスルホｙ酸す）リウム塩；２−フェニルベンズイミ
ダゾール−５−スルホン酸ナトリウム塩、３．４−ジメ
チルフェニルグリオキシル酸すトリウム１．４−フェニ
ルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２′
−カルボン酸インオクチルエステル、ｐ−メトキシ桂皮
酸エステル、２−フェニル−５−メチルベンズオキサゾ
ール又はｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが
挙げられる。
配合することもできる。他の紫外線吸収剤としては、例
えばｐ−メチルベンゾリデンーＤ、Ｌ−ショウノウ又は
そのスルホｙ酸す）リウム塩；２−フェニルベンズイミ
ダゾール−５−スルホン酸ナトリウム塩、３．４−ジメ
チルフェニルグリオキシル酸すトリウム１．４−フェニ
ルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２′
−カルボン酸インオクチルエステル、ｐ−メトキシ桂皮
酸エステル、２−フェニル−５−メチルベンズオキサゾ
ール又はｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが
挙げられる。
本発明化粧料には、上記成分のほか、種々の添加剤を加
えることができる。適当な添加剤としては、例えばＷ２
Ｏ屋および０／Ｗ型の乳化剤が挙げられる。乳化剤とし
ては、市販の乳化剤が使用できる。またメチルセルロー
ス、エチルセルロース又はカルボキシメチルセルロース
、？リアクリル酸、トラガカント、寒天又はゼラチン等
の増粘剤も添加剤として加えることもできる。更に必要
に応じて、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成
分、着色料等を配合することもできる。
えることができる。適当な添加剤としては、例えばＷ２
Ｏ屋および０／Ｗ型の乳化剤が挙げられる。乳化剤とし
ては、市販の乳化剤が使用できる。またメチルセルロー
ス、エチルセルロース又はカルボキシメチルセルロース
、？リアクリル酸、トラガカント、寒天又はゼラチン等
の増粘剤も添加剤として加えることもできる。更に必要
に応じて、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成
分、着色料等を配合することもできる。
本発明のＰＡ／ＰＲが０．０１〜２の酸化チタンよシな
る紫外線遮断剤は、従来の酸化チタンに比較して広領域
の紫外線を吸収して遮断すると共に、その遮断効果が高
く、シかも皮膚に対する安全性が高く、持続性も優れて
いるので、化粧料に配合して皮膚を紫外線から有利に保
護することができる。
る紫外線遮断剤は、従来の酸化チタンに比較して広領域
の紫外線を吸収して遮断すると共に、その遮断効果が高
く、シかも皮膚に対する安全性が高く、持続性も優れて
いるので、化粧料に配合して皮膚を紫外線から有利に保
護することができる。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例１
市販の微粒子化酸化チタン（Ｐ−２５）２０ｆ’に磁製
ルツボに入れ、大気中６５０℃で２時間焼成した後、大
気中で室温になるまで放置して冷却した。
ルツボに入れ、大気中６５０℃で２時間焼成した後、大
気中で室温になるまで放置して冷却した。
得られた酸化チタンのＰＡ／ＰＲはα７５８で、走査電
子顕微鏡（ＳＥＭ ）による観察から形状は粒径のよく
揃った球状であった。
子顕微鏡（ＳＥＭ ）による観察から形状は粒径のよく
揃った球状であった。
実施例２
実施例１における焼成温度を７００℃とする以外は同様
にしてＰＡ／ＰＢ ０．３１９の酸化チタンを得た。
にしてＰＡ／ＰＢ ０．３１９の酸化チタンを得た。
実施例３
実施例１における焼成温［ｔ−７５００とする以外は同
様にしてＰＡ／ＰＲ０，０４２の酸化チタンを得た。
様にしてＰＡ／ＰＲ０，０４２の酸化チタンを得た。
試験例１
実施例１〜３で得た酸化チタンと市販酸化チタンの紫外
線吸光指数を下記の方法で測定した。
線吸光指数を下記の方法で測定した。
く紫外線吸光指数〉
試料ｔ−０，５重量％濃度で硫酸バリウム中に均一に混
合したものの相対拡散反射率Ｒλを波長２４０〜５００
ｎｍの範囲で測定し、ＵＶ−Ａ領域（ａ ２０〜４００
ｎｍ ）、ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ ｎｍ ）
及びＵＶ−Ａ−４−ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜４００ ｎ
ｍ ）の平均相対拡散反射率Ｒｔ を求め、次式に従っ
て紫外線吸光指数を算出した。
合したものの相対拡散反射率Ｒλを波長２４０〜５００
ｎｍの範囲で測定し、ＵＶ−Ａ領域（ａ ２０〜４００
ｎｍ ）、ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ ｎｍ ）
及びＵＶ−Ａ−４−ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜４００ ｎ
ｍ ）の平均相対拡散反射率Ｒｔ を求め、次式に従っ
て紫外線吸光指数を算出した。
Ｒｓｏｏ ： ５００ ｎｍにおける相対拡散反射率＠
）Ｒｔ ： ＵＶ−Ａ領域、ＵＶ−Ｂ領域、［ＪＶ−Ａ
−１−ＵＶ−Ｂ領域における相対拡散反射率の平均値（
働 Ｃ：試料濃度〔重ｔチ〕＝ ０．５ その結果は表１及び第１図のとおシでメク。
）Ｒｔ ： ＵＶ−Ａ領域、ＵＶ−Ｂ領域、［ＪＶ−Ａ
−１−ＵＶ−Ｂ領域における相対拡散反射率の平均値（
働 Ｃ：試料濃度〔重ｔチ〕＝ ０．５ その結果は表１及び第１図のとおシでメク。
本発明の酸化チタンは市販酸化チタンに比べ特にＵＶ−
Ａ領域の吸収が高く、広い紫外線領域で高い吸収を示し
た。
Ａ領域の吸収が高く、広い紫外線領域で高い吸収を示し
た。
以下余白
＊平均粒径
ｔ−プロット法で求めたメン？ア比表
面積換算径（２０Ａ以下の細孔の比表面積を除いて換算
した粒径）として測定した。すなわち粒子のメン？ア比
表面積をＳ （ｍＶ？ ） 、粒子の密１ｆｔ−Ｐ （
ｆ／Ｊ トし、かつ粒子の形状が球形と仮定したときの
平均粒径（：Ｄ（ｆｉ））を、Ｄ＝６／ＰＳで示した。
した粒径）として測定した。すなわち粒子のメン？ア比
表面積をＳ （ｍＶ？ ） 、粒子の密１ｆｔ−Ｐ （
ｆ／Ｊ トし、かつ粒子の形状が球形と仮定したときの
平均粒径（：Ｄ（ｆｉ））を、Ｄ＝６／ＰＳで示した。
試験例２
市販アナタース型酸化チタンと市販ルチル型酸化チタン
との混合物の波長２５０〜５００ｎｍでの相対拡散反射
率を測定し、次式に従って、３５０ ｎｍ （ＵＶ−Ａ
領域）と３００ｎｍ（ＵＶ−Ｂ領域）での吸光指数を求
めた。
との混合物の波長２５０〜５００ｎｍでの相対拡散反射
率を測定し、次式に従って、３５０ ｎｍ （ＵＶ−Ａ
領域）と３００ｎｍ（ＵＶ−Ｂ領域）での吸光指数を求
めた。
Ｒλ ：波長２面における相対拡散反射率（％）Ｃ：試
料濃度〔重量％〕＝ ０．５ その結果は表２のとおってあり、アナタース型酸化チタ
ンとルチル型酸化チタンの単なる混合物では、３５０
ｕｎ （ＵＶ−Ａの領域）の吸収を増加させることはで
きないが、本発明の酸化ｆｌ’７では３５０ ｎｍ （
ＵＶ−Ａの領域）の吸収が増大したことがわかる。
料濃度〔重量％〕＝ ０．５ その結果は表２のとおってあり、アナタース型酸化チタ
ンとルチル型酸化チタンの単なる混合物では、３５０
ｕｎ （ＵＶ−Ａの領域）の吸収を増加させることはで
きないが、本発明の酸化ｆｌ’７では３５０ ｎｍ （
ＵＶ−Ａの領域）の吸収が増大したことがわかる。
以下余白
実施例４（）Ｑウダーファンデーション）（重量部ン
ＡｆｆｌＳｔ−ヘンシェルミキサーで混合し、これに加
熱溶解したＢ部を吹きつけ更に混合する。
熱溶解したＢ部を吹きつけ更に混合する。
粉砕、融通した後、中皿に充填底盤し、サンスクリーン
パウダーファンデーションを得た。
パウダーファンデーションを得た。
比較例１（）Ｑウダーファンデーション）実施例４にお
いて実施例１の酸化チタンを市販微粒子化酸化チタン（
Ｐ−２５）に置きかえ、他は実施例１と同様にして／Ｑ
ウダーファンデーションを得た。
いて実施例１の酸化チタンを市販微粒子化酸化チタン（
Ｐ−２５）に置きかえ、他は実施例１と同様にして／Ｑ
ウダーファンデーションを得た。
試験例３
実施例４及び比較例１で得られた。ｅウダーファンデー
ションの２４０〜５００ｎｍの光に対する透過率を測定
した。なお、測定にあたっては、媒孜としてリンゴ戚ゾ
インステアリルを用い、これに各ファンデーション５重
量％を分散させ、光路長０．０３■の石英ガラスセルに
はさみ、透過率を測定した。その結果を第２図に示す。
ションの２４０〜５００ｎｍの光に対する透過率を測定
した。なお、測定にあたっては、媒孜としてリンゴ戚ゾ
インステアリルを用い、これに各ファンデーション５重
量％を分散させ、光路長０．０３■の石英ガラスセルに
はさみ、透過率を測定した。その結果を第２図に示す。
第２図から明らかな如く、実施例１の酸化チタンを配合
した。ｅウダーファンデーションは、市販の微粒子化酸
化チタンを配合したものに比べ、広い領域の紫外線を高
効率で遮断した。
した。ｅウダーファンデーションは、市販の微粒子化酸
化チタンを配合したものに比べ、広い領域の紫外線を高
効率で遮断した。
ＡＮを加熱溶解し、７２℃に保つ（水相）。
Ｂ部を混合し、加熱溶解して７２℃に保つ（油相）。水
相に油相を加え、ホモミキサーで均一に乳化し攪拌しな
がら室温まで冷却して日焼は止めローションを得た。
相に油相を加え、ホモミキサーで均一に乳化し攪拌しな
がら室温まで冷却して日焼は止めローションを得た。
実施例６
微粒子化酸化チタン（Ｐ−２５）ｔ−用い、８００℃に
おいて焼成時間１５分〜４時間とし、実施例１と同様に
本発明の酸化チタンを展進し、同様に紫外線吸光指数等
を測定した。
おいて焼成時間１５分〜４時間とし、実施例１と同様に
本発明の酸化チタンを展進し、同様に紫外線吸光指数等
を測定した。
以下余白
第１図は本発明の実施例１の酸化チタンと市販酸化チタ
ンの紫外線吸収の比較を示す図であシ、第２図は本発明
の実施例１の酸化チタン又は市販酸化チタンを配合した
。Ｑウダーファンデーションの紫外線吸収の比較を示す
図である。 以上
ンの紫外線吸収の比較を示す図であシ、第２図は本発明
の実施例１の酸化チタン又は市販酸化チタンを配合した
。Ｑウダーファンデーションの紫外線吸収の比較を示す
図である。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、アナタース型とルチル型の両結晶相を有し、Ｘ線回
折のピーク強度比として求めたアナタース型／ルチル型
の結晶形比が０．０１〜２の酸化チタンからなる紫外線
遮断剤。 ２、請求項１記載の紫外線遮断剤を含有する化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16047888A JPH029810A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 紫外線遮断剤およびこれを含有する化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16047888A JPH029810A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 紫外線遮断剤およびこれを含有する化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029810A true JPH029810A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15715823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16047888A Pending JPH029810A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 紫外線遮断剤およびこれを含有する化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH029810A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000010513A1 (en) * | 1998-08-18 | 2000-03-02 | The Procter & Gamble Company | Cosmetic compositions containing rutile and anatase titanium oxide and emollients |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP16047888A patent/JPH029810A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000010513A1 (en) * | 1998-08-18 | 2000-03-02 | The Procter & Gamble Company | Cosmetic compositions containing rutile and anatase titanium oxide and emollients |
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