JPH03100551A - 感光性樹脂用の透明な溶解速度調節剤 - Google Patents

感光性樹脂用の透明な溶解速度調節剤

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JPH03100551A
JPH03100551A JP2233087A JP23308790A JPH03100551A JP H03100551 A JPH03100551 A JP H03100551A JP 2233087 A JP2233087 A JP 2233087A JP 23308790 A JP23308790 A JP 23308790A JP H03100551 A JPH03100551 A JP H03100551A
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JP2233087A
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Christopher E Osuch
クリストファー、イー、オスチ
Michael J Mcfarland
マイケル、ジェー、マクファーランド
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、一般的には照射感応性感光性樹脂組成物に関
し、さらに詳しくは増感剤と共に水性アルカリに可溶な
樹脂を含む組成物に関する。
〔発明の背景〕
この技術では、米国特許第３，６６６．４７３゜４．１
１５．１２８および４，１７３，４７０号に記載されて
いる様な陽画感光性樹脂の製造が公知である。これらの
樹脂には、感光性物質、通常は置換したナフトキノンジ
アジド化合物を含む、アルカリに可溶なフェノール−ホ
ルムアルデヒドノボラック樹脂がある。これらの樹脂お
よび増感剤を有機溶剤または溶剤の混合物に溶解し、薄
いフィルムまたは被覆として、望ましい特定の用途に適
した基材に塗布する。これらの感光性樹脂の樹脂成分は
アルカリ水溶液に可溶であるが、ナフトキノン増感剤は
可溶ではない。被覆した基材を活性線照射で画像を映す
様に露光することにより、増感剤は未露光区域よりも溶
解し品くなる。この溶解度の違いにより、基材をアルカ
リ性現像溶液に浸漬した時に、感光性樹脂被覆の露光区
域は溶解するが、未露光区域はほとんど影響を受けない
ので、基材上に陽画のレリーフパターンが形成される。
はとんどの場合、露光し、現像された基材は、基材エツ
チング剤溶液で処理する。感光性樹脂被覆は基材の被覆
工区域をエツチング剤から保護するので、エツチング剤
は基材の被覆していない区域た＋−３を腐食することが
できるが、これは、陽画感光性樹脂の場合、活性線照射
に露光した区域に相当する。この様にして、エツチング
されたパターンが基材上に形成されるが、このパターン
は、現像前の彼覆基材上に選択的な露光パターンを形成
するために使用したマスク、ステンシル、型板、等の上
のパターンに相当する。上記の方法で基材上に形成され
た感光性樹脂のリレーフパターンは、小型集積電子部品
の製造に使用する様な、露光マスクまたはパターンを始
めとする多くの用途に有用である。
感光性樹脂は、一般に、陽画処理あるいは陰画処理のど
ちらかに分類される。陰画処理レジスト組成物では、画
像を映す光が当たった区域が硬化し、現像剤で未露光区
域を除去した後にレジストの画像区域を形成する。陽画
処理レジストでは、露光した区域が無画像区域であり、
光が当たった部分が水性アルカリ現像剤に可溶になる。
陰画レジストは、プリント回路基板の工業的製造に最も
広く使用されているが、陽画レジストは、はるかに細か
く分解し、はるかに小さな図形の画像を形成する能力が
ある。そのため、陽画レジストは、集積密度の高い回路
の製造に使用される。
感光性樹脂の製造では、露光部分と非露光部分との間の
コントラストを非常に高くすることが重要である。通常
、感光性樹脂組成物は、光増感剤、水に不溶で、アルカ
リ水溶液に可溶な樹脂、溶剤組成物、所望によりそれに
追加する、以下に説明する様な原料を含む。ここで予期
せぬことであったが、増感剤が活性線照射を吸収するＵ
、　Ｖ、波長で本質的に透明であり、疎水性であり、フ
ィルムを形成する、高融点の可塑剤を少量、通常的０．
５％〜約２０％含ませることにより、露光区域と非露光
区域との間のコントラストを改善できることが分かった
。
既存の感光性樹脂は、幅が不都合に変化する線を形成す
ることが多い。このいわゆる［ネッキングｊにより、そ
の後に続く処理工程で問題が発生することがある。した
がって、このネッキング効果を低減または排除すること
が望ましい。以前から、基材にレジストを塗布する前に
、クマリン６の様な特定の染料をレジストに添加すると
、ネッキングが少なくなることが分かっている。これは
、染料の吸収性により平らでない表面から散乱する光の
量が減少し、レジストのコントラストが高くなるためで
あると考えられている。フタル酸ジヒドロアビエチルの
様なＵ、　　Ｖ、　に対して透明な添加剤もレジストの
性能を向上させることが分かっている。この様に、照射
されていないレジストフィルムと照射されたレジストフ
ィルムとの間の溶解速度の比が添加剤の存在により増加
する。この溶解速度比の増加により、ある与えられた現
像剤に対しては、非照射フィルムの損失が低下する、あ
るいはある与えられた現像時間に対しては、より強い現
像剤の必要性が少なくなる。さらに、特定の状況下では
、レジストフィルムの基材に対する密着性が向上してい
る方が有利な場合がある。
この溶解速度調節剤は、レジストの疎水性をも高くする
。
これによって実現される長所の中でも、特に望ましい結
果は、現像剤に対する画像区域の耐性の向上、即ちフィ
ルムの損失低下、亀裂防止、処理範囲の改善、現像され
た画像の改善、および感光性樹脂と一般的に使用される
基材との間の密着性の向上である。
〔発明の開示〕
本発明は、混合物中に、 基ナオ上に塗布し、乾燥した時に組成物成分の均質なフ
ィルムを形成するのに十分な量の、水に不溶で、水性ア
ルカリに可溶な結合剤樹脂、０−キノンジアジド、オニ
ウム塩、ジアゾ−１゜３ジオン基を有する化合物、およ
び十分な活性化エネルギーにあてた時に酸を発生させる
ことができる化合物と、酸により開裂し得る少なくとも
一つのＣ−０−Ｃ結合を含む化合物との組み合わせ、か
らなるグループから選択した、組成物を均一に光増感す
るのに十分な量の感光性成分、および可塑剤を含まない
同じ組成物と比較して、その組成物の乾燥フィルムの、
水性アルカリ現像剤による溶解速度を低下させるのに十
分な量の、紫外線照射に対して本質的に透明であり、約
２０℃〜約７０℃の軟化点を有する疎水性可塑剤、から
なる感光性組成物を提供する。
また、本発明は、基材上の上記組成物の乾燥フィルムか
らなる写真材料をも提供する。さらに本発明は、上記の
写真材料を画像を映す様に露光すること、および現像す
ることからなる写真画像を形成するための方法を提供す
る。
本発明に係わる写真材料製造の第一歩として、上記の感
光性組成物を適当な基材の上に塗布し、乾燥する。好ま
しい実施形態では、この組成物は溶剤、水に不溶で水性
アリカリに可溶な結合樹脂、キノンジアジド光増感剤お
よびＵ、Ｖ、に対して透明な可塑剤を含む。結合樹脂に
は、ノボラックと呼ばれる種類の樹脂、置換した、およ
び置換していないポリビニルアルコール、米国特許出願
節０６１５４７．８１５．１９８３年１１月１１日提出
、０６／８３２，１１６．１９８６年２月２４日提出お
よび０７１０５２，９５０．１９８７年５月２２日提出
に記載されているマレイミド単独重合体および共重合体
、ｔ−ブチルスチレン　マレイミド共重合体、およびＵ
、　　Ｓ。
４．４９１，６２０に記載されているポリ（＋）−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシスチレン）があるが・これら
すべてをここに参考として含める。
感光性組成物の調製に使用できるノボラック樹脂の製造
は、この技術においては公知である。その製造方法は、
ここに参考として含める［フェノール性樹脂の化学と用
途Ｊ　、Ｋｎｏｂ　Ａ、および５ｅｈｅｉｂ、　Ｗ、　
；　Ｓｐｒｌｎｇｅｒ　Ｖｅｒｌａｇ、　Ｎｅｗ　Ｙｏ
ｒｋ、　１９７９゜第４章１こ３己載されている。ポリ
ビニルフェノールは、ここに参考として含めるＵ．　　
Ｓ。
３、８６９，２９２および４，４３９，５１６に開示さ
れている。効果的な結合樹脂にはスチレン、ｔ−ブチル
スチレン、α−メチルスチレンまたは２、４−ジ（ＣＩ
−Ｃ５アルキル）スチレンおよびマレイミドの共重合体
、および所望により、米国特許第０６１５４７，８１５
号に記載する様な、それらのターポリマーがある。また
、効果的な結合剤には、米国特許第０６／８３２，１１
６号に開示されている様な、上記の共重合体のマレイミ
ドのＮ−Ｈ基の一部をｔ−ブトキシカルボニル基の様な
酸に対して不安定な基で置き換えてある化合物もある。
その他の有用な結合剤樹脂には、米国特許出願第０７１
０５２，９５０に開示されている様な、メチロール基ま
たは置換メチロール基でブロックし、さらにブロックし
てアセタールまたはケタール部分を形成しているイミド
基を含む重合体がある。好ましいのは、審査中の米国特
許出願第０６／８３２，１１６号に記載されている重合
体である。その様な重合体の例としては、Ｎｔ−ブチル
オキシカルボニルマレイミド／スチレン共重合体，Ｎ−
ｔ−ブチルオキシカルボニルマレイミド単独重合体、ビ
ニルエーテルが炭素原子３（メチルビニルエーテル）〜
２０（オクタデシルビニルエーテル）個の脂肪族ビニル
エーテルであるＮ−ｔ−ブチルオキシカルボニルマレイ
ミド／ビニルエーテル共重合体、スチレンが２および４
の位置で、独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基またはＨで
置換したＮ−ｔ−ブチルオキシカルボニルマレイミド／
２，４−二置換スチレン共重合体がある。その他の使用
できる重合体には、フェノールを含む重合体が、酸に対
して不安定な基でブロックしたヒドロキシル官能性を持
つトｌな重合体、例えばポリ（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニル−α−アルキルスチレン）またはそれらの共重合体
、ポリ（ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシスチレン）
またはそれらの共重合体、または酸に対して不安定な基
によりブロックした他の酸性イミド官能性（−Ｃｏ−Ｎ
Ｈ−Ｃｏ−）を有する重合体、例えばポリ（ジメチル−
Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルグルタルイミド）、ま
たは酸に対して不安定な基によりブロックしたカルボン
酸官能性を有する重合体、例えばポリ（ｐ−ビニル安息
香酸ｔ−ブチル）またはそれらの共重合体、ポリ（メタ
クリル酸ｔ−ブチル）、等がある。本発明の方法に利用
できる物質を得るために、重合体中には他のブロック基
が存在してもよい。同様に、〇ーキノンジアジドの使用
は、ここに参考として含める「感光性系Ｊ　Ｋｏｓａｒ
．　Ｊ．　　；　Ｊｏｈｎ　Ｗｌｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ
。
Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，　１９６５第７．４章に記載されて
いる様に、専門家には公知である。本発明のレジスト組
成物の成分を含むこれらの増感剤は、陽画感光性樹脂配
合における技術で従来から使用されている置換ナフトキ
ノンジアジド増感剤のグループから選択するのか好まし
い。その様な増感性化合物は、例えば、ここに参考とし
て含める、米国特許第２、７９７，２１３、３，１０６
，４６５、３、１４８，９８３、３，１３０，０４７、
３、２０１，３２９、３，７８５，８２５および３、８
０２，８８５に記載されている。
好ましい光増感剤は、フェノール誘導体の１。
２−キノンジアジド−４−または−５−スルホン酸エス
テルである。現在、縮合環の数は本発明にとって重要で
はないが、スルホニル基の位置は重要であると思われる
。即ち、酸素が１の位置にあり、ジアゾが２の位置にあ
り、スルホニル基が４または５の位置にありさえすれば
、ベンゾキノン、ナフトキノンまたはアントラキノンを
使用できる。
同様に、それが付加しているフェノール性部分も重要と
は思われない。フェノール性部分は、例えば、Ｕ．Ｓ．
３，６４０．９９２に開示されている様なりミルフェノ
ール誘導体でもよいし、Ｕ、Ｓ、４，４９９，１７１に
示されている様なモノ−、ジー、またはトリーヒドロキ
シフェニルアルキルケトンまたはベンゾフェノンでもよ
い。
これらの両特許をここに参考として含める。
また、感光性成分は、活性線照射により酸を発生し得る
化合物および酸により開裂し得る、少なくとも一つのＣ
−０−Ｃ結合を含む化合物の組み合わせでもよい。その
様な化合物の組み合わせには、ここに参考として含める
Ｕ、　　Ｓ４．１０１，３２３に開示される様な組合わ
せがあるが、これに限定するものではない。オニウム塩
には、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩およびイオドニ
ウム塩がある。スルホニウム塩は、Ｕ、Ｓ、４，５３７
，８５４に記載されており、ジアゾニウムは、ＫＯ５Ａ
Ｈに記載されている。
イオドニウム塩は米国特許節４，６０３，１０１号に記
載されている。ジアゾ−１，３−ジオン基を有する化合
物は、ここに参考として含めるＵ、Ｓ、４，５２２，９
１１． ４．３３９，５２２．４．２８４，７０６．４．６２２
，２８３．４，７３５．８８５および４．６２６，４９
１に開示されている。
本発明に有用な、溶解速度を調節する可塑剤は、感光性
成分がＵ、　Ｖ、照射を吸収する波長で本質的に透明で
ある、疎水性の、フィルムを形成する可塑剤である。最
も好ましい化合物は、約６０℃の融点を有するフタル酸
ジヒドロアビエチルである。この可塑剤は、感光性組成
物中に、その組成物の非溶剤部分の重量の約０．５〜約
２０％の量で存在するのが好ましい。より好ましい範囲
は約２〜約１８重量％である。
感光性組成物は、原料を適当な溶剤組成物に溶解して形
成する。好ましい実施形態では、樹脂は、好ましくは全
組成物中に、固体、即ちその組成物の非溶剤部分の重量
に対して、約７５〜約９８．５％の量で存在する。樹脂
のより好ましい範囲は、固体成分の約８０〜約９０重量
％、最も好ましくは約８２〜約８５重量％である。感光
性成分は、固体、即ちその組成物の非溶剤部分の重量に
対して、約１〜約２５％の量で存在するのが好ましい。
感光性成分のより好ましい範囲は、固体成分に対して、
約１〜約２０重量％、最も好ましくは約１０〜約１８重
量％である。組成物の製造においては、樹脂、フタル酸
ジヒドロアビエチル、および感光性成分を、プロピレン
グリコールアルキルエーテルまたはその酢酸エステル、
酢酸ブチル、ジグライム、キシレン、エチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、中でも特に好ましく
はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなど
の溶剤と混合する。
基材上に塗布する前に、樹脂、増感剤および溶剤からな
る溶液に、着色剤、染料、縞防止剤、レベリング剤、可
塑剤、密着促進剤、速度増加剤の様な添加剤、および非
イオン系界面活性剤の様な界面活性剤を加えることがで
きる。
本発明の感光性樹脂組成物と共に使用できる染料添加剤
の例としては、メチルバイオレット（Ｃ，１，に４２５
３５）　、クリスタルバイオレット（Ｃ，１，Ｎｏ、４
２５５５）　、マラカイトグリーン（Ｃ，１，Ｎα４２
０００）、ビクトリアブルーＢ　（Ｃ，１，Ｎα４４０
４５）およびニュートラルレッド（Ｃ，Ｉ、Ｎｏ、５０
０４０）があり、これらを組成物の固体部分の合計重量
の１〜１０重量％の量で使用する。染料添加剤は、光が
基材から散乱するのを防ぐことによ７て、分解性を高め
るのに役立つ。
縞防止剤は、固体の総重量に対して、５重量％まで使用
できる。
追加使用できる可塑剤には、例えば、リン酸トリー　（
β−クロロエチル）−エステル、ステアリン酸、ジカン
ファー、ポリプロピレン、アセタール樹脂、フェノキシ
樹脂、およびアルキル樹脂があり、固体の総重量に対し
て、１〜１０重量％の量で使用する。可塑剤の添加によ
り、材料の塗装特性を改善し、基材に滑らかで、均一な
厚さを持つフィルムを施すことができる。
使用可能な密着促進剤には、例えば、β−（３゜４−エ
ポキシ−シクロヘキシル）−エチルトリメトキシシラン
、メタクリル酸ｐ−メチル−ジシラン−メチル、ビニル
トリクロロシラン、およびγアミノプロピルトリエトキ
シシランがあり、固体の総重量に対して４重量％までの
量で使用する。
使用可能な速度増加剤には、例えば、ピクリン酸、ニコ
チン酸またはニトロケイ皮酸があり、樹脂と固体の総重
量に対して２０重量％までの量で使用する。これらの増
加剤は、露光区域と非露光区域の両方で感光性樹脂被覆
の溶解性を増加させル傾向があるので、コントラストが
ある程度犠牲になっても、現像速度をより重視する場合
に使用する、即ち、現像剤により、感光性樹脂被覆の露
光区域がより急速に溶解し、一方、速度増加剤により未
露光区域から感光性樹脂被覆がより大量に失われること
にもなる。
塗布溶剤は、全組成物中に、その組成物の約９５重量％
までの量で存在することができる。好ましくは、溶剤含
有量は、固体の総量が組成物全体の約５〜約５０重量％
になる様にする。使用可能な非イオン系界面活性剤には
、例えば、ノニルフェノキシ　ポリ（エチレンオキシ）
エタノール、オクチルフェノキシ（エチレンオキシ）エ
タノール、およびジノニルフェノキシ　ポリ（エチレン
オキシ）エタノールがあり、固体の総量に対して１０重
量％までの量で使用する。
調製したレジスト溶液は、浸し塗り、吹き付け・回転塗
り、およびスピンコーティングを含む感光性樹脂技術で
使用する通常の方法で塗布することができる。スピンコ
ーティングする場合、例えば、与えられたスピンコーテ
ィング装置の種類およびスピンコーティング工程に許さ
れる時間に応じて、望ましい厚さの被覆を与えるための
、固体含有量に調整することができる。好適な基材とし
ては、シリコン、アルミニウムまたは重合性樹脂、二酸
化ケイ素、ドーピングした二酸化ケイ素、窒化ケイ素、
タンタル、銅、ポリシリコン、セラミックス、アルミニ
ウム／銅混合物、ヒ化ガリウムおよび他のＩＩＩ／Ｖ族
化合物がある。基材は、ヘキサアルキルジシラザンの様
な適当な組成物の密着性を促進した層を有することがで
きる。
上記の方法により調整した感光性樹脂被覆は、マイクロ
プロセッサ−１その他の小型集積回路部品の製造に使用
されている様な、熱的に成長させたケイ素／二酸化ケイ
素被覆したウェーハーに適用するのに特に適している。
アルミニウム／酸化アルミニウムウェーハーも同じ様に
使用できる。
基材は各種の重合性樹脂、特にポリエステルの様な透明
な重合体でもよい。
レジスト組成物溶液を基材に塗布した後、その基材は約
２０〜１００℃で熱処理する。この熱処理温度は、感光
性樹脂中の残留溶剤の濃度を下げ、調整するが、一方で
、光増感剤が本質的に熱分解しない様に選択する。一般
に、溶剤濃度を最小にするのが望ましいので、この熱処
理は、本質的にすべての溶剤が蒸発し、厚さがミクロン
単位の感光性樹脂組成物の薄い塗膜が基材上に残るまで
行なう。この処理は通常、約２０〜約１００℃の温度で
行なう。好ましい実施形態では、この熱処理は約５０〜
約９０℃で行なう。より好ましい範囲は約７０〜約９０
℃である。この処理は、溶剤除去の変化率が比較的重要
でなくなるまで行なう。
温度および時間の選択は、使用者が望むレジストの特性
並びに使用する装置および商業的に必要とされる塗布時
間により異なる。ホットプレート処理の場合の、商業的
に受は入れられる処理時間は、約３分間まで、より好ま
しくは約１分間までである。一実施例では９０℃で３０
秒間処理が効果的である。次いで、当業者には公知の方
法で、適当なマスク、陰画、ステンシル、型板、等を使
用して得られる望ましいパターンで、被覆基材を活性線
照射、特に紫外線照射で露光することができる。
露光は、電子線またはＸ−線でもよいが、最も好ましい
露光は紫外線照射、特に深紫外線照射、即ち約２２０〜
２６０　ｎｍの波長における照射で行なう露光である。
露光したレジスト被覆基材を次に適当な現像溶液に浸漬
する。溶液は、好ましくは、例えば窒素噴出攪拌により
攪拌する。基材は、レジスト被覆のすべて、あるいはほ
とんどすべてが露光した区域から溶解するまで、現像剤
の中に留まる様にする。好適な現像剤には、この技術で
よく知られている様に、水酸化ナトリウムおよび水酸化
テトラメチルアンモニアを含む様な、アルカリ水溶液が
ある。０．１Ｎ〜０．３Ｎ溶液が効果的である。
溶解速度調節剤を多く使用すると、現像剤濃度をそれだ
け高くする必要がある。
現像溶液から被覆ウェーハーを除去した後、塗膜の密着
性を高め、エツチング溶液および他の物質に対する化学
的な耐性を高めるために、所望により、現像後の熱処理
または焼き付けを行なうことができる。現像後の熱処理
は、被覆および基材を、炉中で、被覆の軟化点未満に加
熱して行なうこともできる。工業用途、特にケイ素／二
酸化ケイ素型基村上の微小回路装置の製造では、現像し
た基材を、緩衝性の、フッ化水素酸系のエツチング溶液
で処理することがある。本発明のレジスト組成物は、酸
性エツチング溶液に耐性があり、基材の未露光レジスト
塗布区域を効果的に保護する。
以下に実施例により本発明を説明するが、この実施例は
決して本発明の範囲を制限するものではない。
実施例 フィルム形成添加剤（高融点可塑剤）のレジストフィル
ムの溶解速度に対する影響を確認するために、下記の試
験を行なった。
下記の様な原液を調製した。
２６．２５ｇのジグライム １．０．００ｇのマレイミド／ｌ−ブチルスチレン共重
合体 １．２５ｇ　　の２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
と２−ジアゾ−１−ナフトール ４−スルホニルクロリドとの縮合 生成物 この混合物をＰＴＦＥフィルターで０．２μｍにン濾過
した。ある量のジアジドがン戸別された。
この原液を、少量残して、各３．７５ｇ　（１ｇ樹脂、
０．１２５ｇ増感剤、２．６２５ｇジグライム）に分け
た。
セロイン（Ｃｅｌｌｏｙｎ　）　２１商標のフタル酸ジ
ヒドロアビエチルを、下記の樹脂対可塑剤の比で加えた
。
２５：　１　０．０４０ｇ１　　　。
２０：１　　ｏ、０５０　　　　。
１５：１　０．０６６　　　　。
１．０：ｌ　　ｏ、１００　　　　。
７：１　　ｏ、　　１４３　　　　。
５：１０．２００　　　　。
４・１０．２５０　　　　。
３４ ４３ ５５ ８２ １３ １５１（十０．１９ｇジグライム） １８２　（＋０．３０ｇジクライム） 可塑剤を加えた後は、ン濾過は行なわなかった。
一連のシリコンウェーハーをヘキサメチルジシラサン密
着促進剤で蒸気処理した。処理したつニーバーの上に上
記の溶液をスピンコーティングし、８０℃で４３分間熱
処理した。これらのウエーノ＼−を、広帯域フィルター
を通して、３６０ｎ１１で、照射量を、変えて露光し、
０．２５Ｎ水酸化カリウムで現像し、下記の結果を得た
。
初期　最終 ９２ ９２ ９２ ０００ ０００ ０００ ０１１ １、（Ｉｌｌ ０１１ １０］８ ０１８ 】０１８ ８６ ８６ ８６ ６２ ６２ ６２ ８５ ８５ ８５ ００７ ００７ ００７ ７．１０ ４．３０ ７．０７ ６１３ ７．４５ ４．２６ ８．３９ ４．４２ ９．９１ ５．１２ １０．４３ ５．１７ １１．６ ５．４８ ６．６３ ３．７９ これらの結果から、フタル酸ジヒドロアビエチルの量が
増加するにつれて、コントラストが増加し、現像速度が
低下することが分かる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、混合物中に、 基材上に塗布し、乾燥した時に組成物成分の均質なフィ
    ルムを形成するのに十分な量の、水に不溶で、水性アル
    カリに可溶な結合剤樹脂、 ｏ−キノンジアジド、オニウム塩、ジアゾ−１、３ジオ
    ン基を有する化合物、および十分な活性化エネルギーに
    露出した時に酸を発生させることができる化合物と、酸
    により開裂し得る少なくとも一つのＣ−Ｏ−Ｃ結合を含
    む化合物との組み合わせ、からなるグループから選択し
    た、組成物を均一に光増感するのに十分な量の感光性成
    分、および 可塑剤を含まない同じ組成物と比較して、その組成物の
    乾燥フィルムの溶解速度を低下させるのに十分な量の、
    紫外線照射に対して本質的に透明であり、約５０℃〜約
    ７０℃の軟化点を有する疎水性可塑剤、 を含むことを特徴とする、感光性組成物。 ２、前記感光性組成物中に、その組成物の非溶剤部分の
    重量に対して、前記結合剤樹脂が約７５％〜約９８．５
    ％の量で存在し、感光性成分が約１％〜約２０％の量で
    存在し、疎水性可塑剤が約０．５％〜約２０％の量で存
    在することを特徴とする、請求項１に記載する組成物。 ３、結合剤樹脂を、 ノボラック、ポリビニルフェノール、 スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、
    ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレンまたは２、４
    −ジ（Ｃ＿１−Ｃ＿５アルキル）スチレンおよびマレイ
    ミドの共重合体、およびそれらのＮ−（Ｃ＿１−Ｃ＿５
    アルキル）マレイミドとのターポリマー、マレイミドの
    Ｎ−Ｈ基の一部を酸に対して不安定な基で置き換えてあ
    る上記の共重合体、および メチロール基または置換メチロール基でブロックし、さ
    らにブロックしてアセタールまたはケタール部分を形成
    しているイミド基を含む重合体からなるグループから選
    択することを特徴とする、請求項１に記載する組成物。 ４、感光性成分がｏ−キノンジアジドであることを特徴
    とする、請求項１に記載する組成物。 ５、前記感光性成分が、トリヒドロキシベンゾフェノン
    −１、２−ナフトキノンジアジド−４または５−スルホ
    ン酸トリエステルであることを特徴とする、請求項１に
    記載する組成物。 ６、さらに、プロピレングリコールアルキルエーテルア
    セテートまたはジグライムからなる溶剤を含むことを特
    徴とする、請求項１に記載する組成物。 ７、前記組成物が、さらに、着色剤、染料、縞防止剤、
    レベリング剤、可塑剤、密着促進剤、速度増加剤、およ
    び界面活性剤からなるグループから選択した一つ以上の
    化合物を含むことを特徴する、請求項１に記載する組成
    物。 ８、前記疎水性可塑剤がフタル酸ジヒドロアビエチルで
    あることを特徴とする、請求項１に記載する組成物。 ９、基材および該基材上に本質的に均一に塗布した乾燥
    感光性組成物からなる写真材料において、その感光性組
    成物が、混合物中に、 基材上に塗布し、乾燥した時に組成物成分の均質なフィ
    ルムを形成するのに十分な量の、水に不溶で、水性アル
    カリに可溶な結合剤樹脂、 ｏ−キノンジアジド、オニウム塩、ジアゾ−１、３−ジ
    オン基を有する化合物、および十分な活性化エネルギー
    に露出した時に酸を発生することができる化合物と、酸
    により開裂し得る少なくとも一つのＣ−Ｏ−Ｃ結合を含
    む化合物との組み合わせ、からなるグループから選択し
    た、組成物を均一に光増感するのに十分な量の感光性成
    分、および 可塑剤を含まない同じ組成物と比較して、その組成物の
    乾燥フィルムの溶解度を低下させるのに十分な量の、紫
    外線照射に対して本質的に透明であり、約５０℃〜約７
    ０℃の軟化点を有する疎水性可塑剤、 を含むことを特徴とする、写真材料。 １０、前記基材を、シリコン、アルミニウムまたは重合
    性樹脂、二酸化ケイ素、ドーピングした二酸化ケイ素、
    窒化ケイ素、タンタル、銅、ポリシリコン、セラミック
    ス、アルミニウム／銅の混合物、ヒ化ガリウムおよびI
    II／Ｖ族化合物からなるグループから選択することを特
    徴とする、請求項９に記載する材料。 １１、基材と感光性組成物との間に、さらに、密着促進
    性組成物の層を含むことを特徴とする、請求項１０に記
    載する材料。 １２、密着促進性組成物が、ヘキサアルキルジシラザン
    を含むことを特徴とする、請求項１１に記載する材料。 １３、その感光性組成物の非溶剤部分の重量に対して、
    前記結合剤樹脂が約７５％〜約 ９８．５％の量で存在し、感光性成分が約１％〜約２０
    ％の量で存在し、疎水性可塑剤が約０．５％〜約２０％
    の量で存在することを特徴とする、請求項９に記載する
    材料。 １４、結合剤樹脂を、 ノボラック、ポリビニルフェノール、 スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、
    ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレンまたは２、４
    −ジ（Ｃ＿１−Ｃ＿５アルキル）スチレンおよびマレイ
    ミドの共重合体、およびそれらのＮ−（Ｃ＿１−Ｃ＿５
    アルキル）マレイミドとのターポリマー、マレイミドの
    Ｎ−Ｈ基の一部を酸に対して不安定な基で置き換えてあ
    る上記の共重合体、および メチロール基または置換メチロール基でブロックし、さ
    らにブロックしてアセタールまたはケタール部分を形成
    しているイミド基を含む重合体からなるグループから選
    択することを特徴とする、請求項９に記載する材料。 １５、感光性成分がｏ−キノンジアジドであることを特
    徴とする、請求項９に記載する材料。 １６、前記感光性成分が、トリヒドロキシベンゾフェノ
    ン−１、２−ナフトキノンジアジド−４または５−スル
    ホン酸トリエステルであることを特徴とする、請求項９
    に記載する材料。 １７、さらに、プロピレングリコールアルキルエーテル
    アセテートまたはジグライムからなる溶剤を含むことを
    特徴とする、請求項９に記載する材料。 １８、前記組成物が、さらに、着色剤、染料、縞防止剤
    、レベリング剤、可塑剤、密着促進剤、速度増加剤、お
    よび界面活性剤からなるグループから選択した一つ以上
    の化合物を含むことを特徴する、請求項９に記載する材
    料。 １９、前記疎水性可塑剤がフタル酸ジヒドロアビエチル
    であることを特徴とする、請求項９に記載の材料。 ２０、順に、 ａ）混合物中に、 基材上に塗布し、乾燥した時に組成物成分の均質なフィ
    ルムを形成するのに十分な量の、水に不溶で、水性アル
    カリに可溶な結合剤樹脂、ｏ−キノンジアジド、オニウ
    ム塩、ジアゾ−１、３ジオン基を有する化合物、および
    十分な活性化エネルギーに露出した時に酸を発生させる
    ことができる化合物と、酸により開裂し得る少なくとも
    一つのＣ−Ｏ−Ｃ結合を含む化合物との組み合わせ、か
    らなるグループから選択した、組成物を均一に光増感す
    るのに十分な量の感光性成分、および 可塑剤を含まない同じ組成物と比較して、その組成物の
    乾燥フィルムの溶解速度を低下させるのに十分な量の、
    紫外線照射に対して本質的に透明であり、約５０℃〜約
    ７０℃の軟化点を有する疎水性可塑剤、および プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレ
    ングリコールモノアルキルエーテルアセテート、酢酸ブ
    チル、ジグライム、キシレンおよびエチレングリコール
    モノアルキルエーテルアセテートからなるグループから
    選択した溶剤 を含む組成物を形成ること、および ｂ）該組成物を基材上に塗布すること、およびｃ）該塗
    布基材を、本質的にすべての前記溶剤が蒸発するまで、
    約２０℃〜約１００℃の温度に加熱すること、および ｄ）該組成物を紫外線、電子線、イオン線、またはＸ−
    線照射で画像を移す様に露光すること、および ｅ）該組成物の非画像区域をアルカリ性現像剤水溶液で
    除去すること からなる写真画像を調製する方法。 ２１、前記露光工程を約１９０〜約４５０ｎｍの紫外線
    照射で行なうことを特徴とする、請求項２０に記載する
    方法。 ２２、前記現像剤が水酸化ナトリウムおよび／または水
    酸化テトラメチルアンモニウムからなることを特徴とす
    る、請求項２０に記載する方法。 ２３、前記基材を、シリコン、アルミニウムまたは重合
    性樹脂、二酸化ケイ素、ドーピングした二酸化ケイ素、
    窒化ケイ素、タンタル、銅、ポリシリコン、セラミック
    ス、アルミニウム／銅の混合物、ヒ化ガリウムおよびI
    II／Ｖ族化合物からなるグループから選択することを特
    徴とする、請求項２０に記載する方法。 ２４、基材と感光性組成物との間に、さらに密着促進性
    組成物の層を含むことを特徴とする、請求項２０に記載
    する方法。 ２５、密着促進性組成物が、ヘキサアルキルジシラザン
    を含むことを特徴とする、請求項２０に記載する方法。 ２６、その感光性組成物の非溶剤部分の重量に対して、
    前記結合剤樹脂が約７５％〜約 ９８．５％の量で存在し、感光性成分が約１％〜約２０
    ％の量で存在し、疎水性可塑剤が約０．５％〜約２０％
    の量で存在することを特徴とする、請求項２０に記載す
    る方法。 ２７、結合剤樹脂を、 ノボラック、ポリビニルフェノール、 スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、
    ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレンまたは２、４
    −ジ（Ｃ＿１−Ｃ＿５アルキル）スチレンおよびマレイ
    ミドの共重合体、およびそれらのＮ−（Ｃ＿１−Ｃ＿５
    アルキル）マレイミドとのターポリマー、マレイミドの
    Ｎ−Ｈ基の一部を酸に対して不安定な基で置き換えてあ
    る上記の共重合体、および メチロール基または置換メチロール基でブロックし、さ
    らにブロックしてアセタールまたはケタール部分を形成
    しているイミド基を含む重合体からなるグループから選
    択することを特徴とする、請求項２０に記載する方法。 ２８、感光性成分がｏ−キノンジアジドであることを特
    徴とする、請求項２０に記載する方法。 ２９、前記感光性成分が、トリヒドロキシベンゾフェノ
    ン−１、２−ナトフキノンジアジド−４または５−スル
    ホン酸トリエステルであることを特徴とする、請求項２
    ０に記載する方法。 ３０、さらに、プロピレングリコールアルキルエーテル
    アセテートまたはジグライムからなる溶剤を含むことを
    特徴とする、請求項２０に記載する方法。 ３１、前記組成物が、さらに、着色剤、染料、縞防止剤
    、レベリング剤、可塑剤、密着促進剤、速度増加剤、お
    よび界面活性剤からなるグループから選択した一つ以上
    の化合物を含むことを特徴する、請求項２０に記載する
    方法。 ３２、前記疎水性可塑剤がフタル酸ジヒドロアビエチル
    であることを特徴とする、請求項２０に記載する方法。
JP2233087A 1989-09-05 1990-09-03 感光性樹脂用の透明な溶解速度調節剤 Pending JPH03100551A (ja)

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