JPH0433025B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なポジのホトレジスト組成物、お
よびポジのホトレジスト層を提供する方法に関す
る。特に本発明は各種支持体上において良好な湿
潤性をもつアルカリ可溶性樹脂−ジアゾケトンホ
トレジストに関する。本発明は特に、得られたホ
トレジスト組成物が条線（striation）として特性
づけられる不利な影響を防ぐという点で有用であ
る。これは不均等なフイルムに起こり、また不均
質なフイルムを生じ、その結果かなり劣る半導体
装置を与える。 ホトレジストは、たとえば紫外線に露光された
のち現像液に反応してそれらの溶液性が変化する
材料である。ホトレジスト組成物は感光性化合物
（以下、増感剤または光増感剤と呼ぶ場合があ
る）、フイルム形成性高分子樹脂および溶剤から
なる。ホトレジストが照射されると、現像後に表
面レリーフパターンを与えるレジストフイルムの
露光部分と非露光（遮蔽されていた）部分との間
に溶解度の相違が生じる。露光された領域がより
溶解性となるホトレジストをポジのホトレジスト
と呼ぶ。 ポジのホトレジストは一般に水性アルカリ可溶
性樹脂（たとえばノボラツク樹脂またはポリｐ−
ヒドロキシスチレン）およびジアゾナフトキノン
スルホン酸エステル系増感剤からなる。この樹脂
および増感剤はスピン塗布などにより有機溶剤ま
たは溶剤混合物から支持体たとえばシリコンウエ
フアーおよびクロムめつきされたガラス板上に施
される。ポジのホトレジストを処理するために用
いられる現像液はアルカリ水溶液、たとえばケイ
酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメ
チルアンモニウムおよび水酸化アンモニウムであ
る。現像液被覆されたホトレジストフイルムの、
光線その他の形の照射に対し露光された領域を除
去し、ホトレジストフイルムにパターンを生じ
る。 ホトレジストフイルムを各種支持体に施すこと
は集積回路の加工における本質的な工程である。
支持体は一般にシリコンウエフアーであり、これ
は薄い酸化物被膜または他の被膜、たとえば窒化
ケイ素もしくはアルミニウムを有してもよい。感
光性フイルムは、露光、現像、および支持体のエ
ツチングを含む一連の工程で支持体にパターンを
与えるために用いられる。遮蔽のパターンが精確
に支持体エツチパターン中に再現されることが必
須である。この高い精度を達成するためには、ホ
トレジストフイルムが均一な厚さであることが必
須である。残念ながら多くのホトレジスト配合物
は、支持体を湿潤してその上に均一に分布しない
ため、またはスピンカステイングの機構により生
じるフイルムの条線のため、均質な被膜を与えな
い。条線は半径方向のフイルム厚さの変動である
（200〜600Å程度にもなる可能性がある）。 ホトレジストの湿潤、展着および条線に関する
性能を決定する基本的要素は溶剤である。 ホトレジストはケイ素、多結晶質ケイ素、二酸
化ケイ素、窒化ケイ素、アルミニウムなどからな
る多様な表面をもつシリコンウエフアーに施され
る。これらの表面の多くは、露光され、現像され
たウエフアーの湿式エツチングに際してホトレジ
ストフイルムのアンダーカツトを防止するのを助
ける定着剤（adhesion promotor）で処理され
る。アンダーカツトはウエフアーのパターンを光
遮蔽の幾何学的状態からずらす可能性がある。工
業的に広く用いられている代表的な定着剤はヘキ
サメチルジシラザンである。この定着剤は湿式エ
ツチングに際してのアンダーカツトを制限する
が、これにより表面はいつそう湿潤しにくくな
る。この湿潤低下作用の程度はシリコンウエフア
ーがヘキサメチルジシラザンと接触する様式およ
び時間に依存する。ヘキサメチルジシラザン蒸気
で10分間以上処理されたウエフアーは特に湿潤し
にくくなる可能性がある。 条線の程度は溶剤の性質に大幅に依存する。条
線に影響を与える因子は完全には理解されていな
い。溶剤の蒸気圧、溶剤と樹脂との相互作用の程
度、および塗布に際してのウエフアーの加速が条
線の形成に対し何らかの影響をもつという証拠は
ある。 ある種の溶剤は支持体の湿潤性の改善について
他の溶剤よりも有効であることが認められてい
る。たとえば酢酸ｎ−ブチルは優れた湿潤性をも
つが、きわめて劣悪な条線を与える。ジグライム
（digl−yme）は条線を与えないが、湿潤性がき
わめて乏しい。キシレンは条線を制限するために
用いられているが、湿潤に対しては不利な影響を
もつ。 さらにこれらの物質はすべて、高感度のポジの
ホトレジストを得るために好ましい増感剤である
２，３，４−トリス（６−ジアゾ−５，６−ジヒ
ドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオ
キシ）ベンゾフエノン、または２−ヒドロキシ−
３，４−ビス（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−
５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオキシ）
ベンゾフエノン、または２，４−ビス（６−ジア
ゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタ
リンスルホニルオキシ）ベンゾフエノンなどの代
表的増感剤に対して不良溶剤である。 市販されるポジのホトレジストの調製に際して
最も一般的に用いられる溶剤はセロソルブアセテ
ートである。この溶剤は著しい毒性をもつという
証明が示されている。さらにこの溶剤を用いて調
製されたレジスト配合物は条線を示す。ある種の
市販されるホトレジストはセロソルブアセテー
ト、キシレンおよび酢酸ｎ−ブチルの混合物を含
有する。キシレンおよび酢酸ｎ−ブチルは製品の
湿潤性および条線の状態を変えるために用いられ
ていると思われる。酢酸ｎ−ブチルは湿潤性を改
善するが、キシレンは条線を完全には除かない。
特定の配合物に添加される界面活性剤は湿潤性を
改善し、かつ条線を少なくする。界面活性剤がも
つ重大な制限は、これらが揮発性でなく、スピン
カステイング工程中または溶剤を除去するために
通常用いられる後続の90〜110℃でのオーブンベ
ーク中に溶剤と共に蒸発しないことである。たと
え0.1％以下のきわめて低水準であつても界面活
性剤が残存することは、レジストの性能に不利な
影響を与える。この残存する界面活性剤は解像性
に重大な影響を与え、寸法２ミクロン以下のパタ
ーンを消失させる可能性がある。 溶剤は、条線を与えずかつ良好な湿潤性および
展着性を与えるほか、樹脂および増感剤の双方に
対して良溶剤でなければならない。ジアゾナフト
キノン部分２個以上をもつ好ましいホトレジスト
化合物は一般に溶解性が低い。溶解性、湿潤性、
および低い条線性を含むすべての希望する特性を
備えた適切な溶剤を見出すことは困難である。要
求される感光性およびコントラストを得るために
は、露光されていないレジストが現像中に溶解す
るのを防ぐのに十分なほど高濃度の感光性化合物
がレジスト配合物中に含まれる必要がある。この
困難を克服するために、溶解性の低い型のものと
溶解性の高い型のものの混合物を用いるか、また
は溶解性は低いがより有効な増感剤成分について
過飽和な溶液を用いて操作することが一般に行わ
れている。これにより、保存寿命が短かくなり、
また製品の使用前または使用中に増感剤が沈殿す
る可能性がある。 従つて、集積回路の製造に用いられる各種支持
体上にスピンカステイングした場合に生じる条線
が少なく、かつ優れた湿潤性を与えるホトレジス
ト配合物が求められていることは明らかである。
本発明の重要な要素は、シクロペンタノン、また
はシクロペンタノンとシクロヘキサノン、ならび
に脂肪族アルコールからなる溶剤組成物である。
これらの溶剤成分は、特定の臨界比で用いられた
場合、スピン法により施される際に予想外に良好
な各種支持体の湿潤性および条線の少ないフイル
ムを与える。 本発明によれば、条線の少ないポジのホトレジ
スト配合物が得られる。この配合物はさらに優れ
た湿潤性および比較的優れた環境安全性により特
色づけられる。本発明に必須なものは、１、２ま
たは３個のジアゾナフトキノン部分を含む感光性
化合物に対する良好な溶解性を有する溶剤組成物
である。この溶剤組成物は認めうるほどの条線を
与えず、不揮発性の界面活性剤を添加しなくても
優れた湿潤性を与える。溶剤組成物はシクロペン
タノン（またはシクロペンタノンおよびシクロヘ
キサノン）と脂肪族アルコールの混合物からな
る。 低い条線性および良好な湿潤性は脂肪族アルコ
ールを(a)シクロペンタノンまたは(b)シクロペンタ
ノンとシクロヘキサノンに添加することにより得
られる。一般に、５〜12個の炭素原子を含む脂肪
族アルコールが、条線を制限しかつ湿潤性を改善
するのに有効である。好ましいものは６〜８個の
炭素原子を有する脂肪族アルコールである。最も
好ましいものはｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノ
ール、ｎ−オクタノール、２−オクタノール、２
−メチル−１−ペンタノールまたはそれらの混合
物である。 特に有効であるが溶解性の低い増感剤、たとえ
ば２，３，４−トリス（６−ジアゾ−５，６−ジ
ヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニル
オキシ）ベンゾフエノンをレジストの調整に用い
る場合、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノ
ンは溶剤混合物全体の少なくとも20％を構成すべ
きである。より好ましくは、溶剤混合物は環状ケ
トン約50％よりなるべきである。溶解性の低い感
光性化合物、たとえば約２〜７％の溶解性をもつ
ものを比較的高濃度用いる場合、最も好ましい溶
剤組成物は少なくとも50％のシクロペンタノンま
たは環状ケトン混合物を含有すべきである。有効
であるためには、アルコール成分は溶剤混合物の
２〜50％を構成すべきである。アルコールの量を
増すと、ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル
の溶解度は低下する。好ましい溶剤はアルコール
10〜30％および環状ケトン90〜70％を含有する。 各種溶剤中におけるポジのホトレジストの湿潤
性は、特別に用意されたウエフアーを被験ホトレ
ジストでスピン塗布し、湿潤性低下の程度を観察
することによつて推定できる。 優れた湿潤性および低い条線性を含む改良され
た特性により特色でけられる本発明の新規なホト
レジスト組成物を調製する際に、ホトレジスト組
成物の重要な成分は溶剤組成物である。溶剤は５
〜12個の炭素原子を有する脂肪族アルコールと組
合せたシクロペンタノンおよびシクロペンタノン
−シクロヘキサノンブレンドよりなる群から選ば
れる環状ケトンからなる。 本発明の増感剤−樹脂−溶剤組成物に含有させ
うる感光性化合物は、露光した場合水性アルカリ
性現像液により溶解しやすくなる化合物である。 この種のポジのホトレジスト中に用いられる適
切な増感剤は分子の隣接位にジアゾ基およびケト
基を有するジアゾケトン、たとえば米国特許第
3046118号、第3046121号、第3106465号、第
3148983号、第3201239号および第3666473号各明
細書に記載された１，２−ナフトキノン−ジアゾ
−５−スルホン酸エステルである。これらの明細
書を参考のためここに引用する。この種の感光性
化合物の具体例は下記のものである。 ２，３−ジヒドロキシ−４−（６−ジアゾ−５，
６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスル
ホニルオキシ）ベンゾフエノン(5)；２−ヒドロキ
シ−３，４−ビス（６−ジアゾ−５，６−ジヒド
ロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオキ
シ）ベンゾフエノン(1)；２，３，４−トリス（６
−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−
ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾフエノン
（11）；４，4′−ビス（６−ジアゾ−５，６−ジヒ
ドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオ
キシ）ベンゾフエノン（12）；２−ヒドロキシ−
４−（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキ
ソ−１−ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾフ
エノン(2)；２，４−ビス（６−ジアゾ−５，６−
ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニ
ルオキシ）ベンゾフエノン（15）；または２，３
−ジブロム−１−（６−ジアゾ−５，６−ジヒド
ロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオキ
シ）プロパン（17）。 増感剤は樹脂の溶解度を低下させる作用を示
す。露光すると増感剤は化学反応してカルボン酸
を形成し、これにより露光した領域のホトレジス
トの溶解度が増す。 一般に２個以上のジアゾナフトキノン基を含有
する増感剤がより高いコントラストのホトレジス
トを与えると思われるので好ましい。好ましいホ
トレジスト化合物の具体例は下記のものである。
２，３，４−トリス（６−ジアゾ−５，６−ジヒ
ドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオ
キシ）ベンゾフエノン；２−ヒドロキシ−３，４
−ビス（６−ジアゾ５，６−ジヒドロ−５−オキ
ソ−１−ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾフ
エノンおよび２，４−ビス（６−ジアゾ−５，６
−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホ
ニルオキシ）ベンゾフエノン。 本発明の意図するポジのホトレジスト中に用い
られる適切なアルカリ可溶性の非硬化性樹脂は予
備重合したフエノール類−アルデヒド樹脂、たと
えばフエノールホルムアルデヒドであり、これは
ノボラツクとして知られ、市販されている。この
種の樹脂はたとえば米国特許第3201239号および
第3868254号各明細書に示されており、これら両
明細書を参考のためここに引用する。これらのフ
エノール類−アルデヒド樹脂系化合物は有機溶剤
およびアルカリ溶液に溶解性でなければならな
い。 多種のフエノール系化合物およびアルデヒドも
しくはアルデヒド生成化合物が周知の合成法によ
りノボラツク樹脂を与えるであろう。使用できる
フエノール系化合物にはフエノール、クレゾー
ル、レゾルシノール、ナフトール、ハイドロキノ
ン、アルキルフエノール、およびハロゲン化フエ
ノールが含まれる。使用できるアルデヒドおよび
アルデヒド生成化合物の具体例はホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、パラホルムアルデヒド、
アクロレイン、クロトンアルデヒドおよびフルフ
ラールである。 本発明の新規なホトレジスト組成物の調製に用
いられる環状ケトンを含む溶剤は、１、２または
３個のジアゾナフトキノン部分を含む増感剤に対
して良好な溶解性をもつことにより特色づけられ
る。さらにこの溶剤組成物は与える条線がきわめ
て少なく、不揮発性の界面活性剤を添加しなくて
も優れた湿潤性を与える。この溶剤組成物はシク
ロペンタノン（またはシクロペンタノンとシクロ
ヘキサノンのブレンド）と脂肪族アルコールの混
合物からなる。 低い条線性および良好な湿潤性は、脂肪族アル
コールを環状ケトンであるシクロヘキサノン、ま
たはシクロペンタノンとシクロヘキサノンの混合
物を添加することによつて得られる。一般に５〜
12個の炭素原子を含む脂肪族アルコールが、条線
を制限しかつ湿潤性を改善するのに有効である。
好ましいものは６〜８個の炭素原子を有する脂肪
族アルコールである。最も好ましいものはｎ−ヘ
キサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノー
ル、２−オクタノール、２−メチル−１−ペンタ
ノールまたはそれらの混合物である。 特に有効であるが溶解性の低い増感剤、たとえ
ば２，３，４−トリス（６−ジアゾ−５，６−ジ
ヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニル
オキシ）ベンゾフエノンをレジストの調整に用い
る場合、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノ
ンは溶剤混合物全体の少なくとも20％を構成すべ
きである。より好ましくは、溶剤混合物は環状ケ
トン約50％よりなるべきである。溶解性の低い増
感剤（２〜７％）を比較的高濃度用いる場合、最
も好ましい溶剤組成物は少なくとも50％のシクロ
ペンタノンまたは環状ケトン混合物を含有すべき
であり、アルコール成分は溶剤混合物の２〜50％
を構成すべきである。アルコールの量を増すとジ
アゾナフトキノンスルホン酸エステルの溶解度は
低下する。好ましい溶剤はアルコール10〜30％お
よび環状ケトン90〜70％を含有する。 各種溶剤中におけるポジのホトレジストの湿潤
性は、特別に用意されたウエフアーを被験ホトレ
ジストでスピン塗布し、湿潤性低下の程度を観祭
することにより推定された。 新規なホトレジスト組成物を半導体装置の製造
に際して用いる場合、下記の方法を採用した。 シリコンウエフアー（直径76.2mm）を1100℃で
水蒸気、酸素雰囲気中で１時間、新たに酸化し
た。ウエフアーを冷却し、閉鎖したガラス容器中
で１時間または２時間、ヘキサメチルジシラザン
（HMDS）蒸気に暴露した。暴露時間が長いほど
ウエフアーはより湿潤しにくくなつた。ホトレジ
ストを約５〜6Krpmでヘツドウエイ・スピンナ
ーEC−101型を用いて約30秒間スピン塗布し、厚
さ約1μmのレジストフイルムを施した。塗布され
たウエフアーを回転式エアオーブン中で30分間、
100℃に加熱した。ウエフアーがHMDS蒸気に暴
露された時間数の関数として湿潤性低下が認めら
れた。 条線は直径12.5ミクロンの針を備えたスロー
ン・デツクタツク（Sloan Dektak）を用いて
測定した。針をウエフアーの未端から６〜10mmの
位置でウエフアーと接触させ、ウエフアー上を半
径に垂直方向へ１〜５mmの距離移動させた。本質
的に水平である距離を測定し、フイルム厚さの変
動を倍尺で測定した。 以下の具体例（結果を表にまとめる）におい
ては多数の異なる溶剤系中で調製されたポジのホ
トレジストにつき湿潤性および／または条線の深
さを測定した。 例 ノボラツク樹脂30部、シクロペンタノン70部、
および増感剤7.5部を完全な溶解が達成されるま
で室温で撹拌した（マスターバツチ）。光増感剤
は２，３，４−ジヒドロキシベンゾフエノンと
１，２−ナフトキノン−２−ジアゾ−５−スルホ
ニルクロリドの反応により誘導されたエステルの
混合物よりなつていた。ｎ−オクタノール8.3部
およびシクロペンタノン7.2部をこの溶液40部に
添加して、シクロペンタノンおよびｎ−オクタノ
ールを80：20の比率で含有し、固体25.2％を含有
するホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条
線性のデータを表に示す。 例 ノボラツク樹脂30部、シクロペンタノン70部、
および増感剤（15）3.33部を溶解がするまで室温
で撹拌した（マスターバツチ）。この混合物80部
をシクロペンタノン20部で希釈して、シクロペン
タノン溶剤中における固形分25.8％のホトレジス
ト配合物を得た。湿潤性および条線性のデータを
表に示す。 例 シクロペンタノン15.5部を例で調製したマス
ターバツチに添加した。これによりシクロペンタ
ノン溶剤中における固形分25.2％のホトレジスト
配合物を得た。湿潤性および条線性のデータを表
１に示す。 例 シクロヘキサノン7.2部およびｎ−ヘキサノー
ル8.3部を例で調製したマスターバツチ40部と
混合した。得られたホトレジスト配合物はシクロ
ペンタノン、シクロヘキサノンおよびｎ−ヘキサ
ノールを63：17：20の比率で含有し、固体25.5％
を含有していた。湿潤性および条線性のデータを
表１に示す。 例 ｎ−ヘキサノール8.3部およびシクロペンタノ
ン7.2部を例１で調製したマスターバツチ40部に
添加して、シクロペンタノンおよびｎ−ヘキサノ
ールを80：20の比率で含有し、固体25.2％を含有
するホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条
線性のデータを表１に示す。 例 ｎ−ヘキサノール14.8部およびシクロペンタノ
ン5.2部を例で調製したマスターバツチ80部と
混合して、シクロペンタノンおよびｎ−ヘキサノ
ールを80：20の比率で含有し、固形分25.8％を有
するホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条
線性のデータを表１に示す。 例 ｎ−デカノール14.8部およびシクロペンタノン
5.2部を例で調製したマスターバツチ80部と混
合して、シクロペンタノンおよびｎ−デカノール
を80：20の比率で含有し、固形分25.8％を有する
ホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条線性
のデータを表１に示す。 例 ｎ−ペンタノール14.8部およびシクロペンタノ
ン5.2部を例で調製したマスターバツチ80部と
混合して、シクロペンタノンおよびｎ−ペンタノ
ールを80：20の比率で含有し、固形分26.0％を有
するホトレジスト配合物14.8部を得た。湿潤性の
データを表１に示す。 例 ｎ−オクタノール14.8部およびシクロペンタノ
ン5.2部を例で調製したマスターバツチ80部と
混合して、シクロペンタノンおよびｎ−オクタノ
ールを80：20の比率で含有し、固体26.0％を含有
するホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条
線性のデータを表１に示す。 例 ノボラツク樹脂30部、シクロヘキサノン70部お
よび増感剤（15）3.33部を溶解するまで室温で撹
拌した（マスターバツチ）。シクロヘキサノン20
部をこのマスターバツチ80部に添加して、シクロ
ヘキサノン溶剤中における固形分26.0％のホトレ
ジスト配合物を得た。湿潤性および条線性のデー
タを表１に示す。 例 XI シクロヘキサノン12.6部およびｎ−ヘキサノー
ル7.4部を、例で調製したマスターバツチ25部
および例で調製したマスターバツチ55部からな
るあらかじめ調製された混合物と混合した。これ
により、シクロペンタノン、シクロヘキサノンお
よびｎ−ヘキサノールを50：40：10の比率で含有
し、固形分26.0％を有するホトレジスト配合物を
得た。湿潤性および条線性のデータを表１に示
す。 例 XII シクロヘキサノン5.2部および酢酸ｎ−ブチル
14.8部を例で調製したマスターバツチ80部と混
合して、シクロヘキサノンおよび酢酸ｎ−ブチル
を80：20の比率で含有し、固体26.0％を含有する
ホトレジスト配合物を得た。湿潤性および条線性
のデータを表１に示す。 例 ジアセトンアルコール14.8部およびシクロペン
タノン5.2部を例で調製したマスターバツチ80
部と混合して、シクロペンタノンおよびジアセト
ンアルコールを80：20の比率で含有し、固体26.0
％を含有するホトレジスト配合物を得た。湿潤性
のデータを表１に示す。 例 ノボラツク樹脂512部、シクロペンタノン1075
部、シクロヘキサノン359部、ｎ−ヘキサノール
359部および増感剤(15)64部を溶解が完了するまで
室温で撹拌した。これによりシクロペンタノン、
シクロヘキサノンおよびｎ−ヘキサノールを60：
20：20の比率で含有する固形分24.3％のホトレジ
スト配合物を得た。湿潤性のデータを表１に示
す。 例 樹脂512部、シクロペンタノン1434部、ｎ−ヘ
キサノール359部、および増感剤(15)64部を溶解が
完了するまで室温で撹拌した。この溶液50部を例
で調製した配合物50部と混合して、シクロペン
タノン、シクロヘキサノンおよびｎ−ヘキサノー
ルを70：10：20の比率で含有し、固形分24.3％を
有するホトレジスト配合物を得た。湿潤性および
条線性のデータを表１に示す。 例 ｎ−デカノール8.5部およびシクロペンタノン
７部を例で調製したマスターバツチ27部および
例で調製したマスターバツチ13部の混合物に添
加した。これにより、シクロペンタノン、シクロ
ヘキサノンおよびｎ−デカノールを60：20：20の
比率を含有し、固体24.3％を含有するホトレジス
トを得た。湿潤性および条線性のデータを表１に
示す。 例 ２−オクタノール8.5部およびシクロペンタノ
ン７部を例で調製したマスターバツチ40部に添
加した。これによりシクロペンタノンおよび２−
オクタノールを80：20の比率で含有し、固体24.3
％を含有するホトレジストを得た。湿潤性および
条線性のデータを表１に示す。 例 １−ヘプタノール8.5部およびシクロペンタノ
ン７部を例で調製したマスターバツチ40部に添
加した。これにより、シクロペンタノンおよびヘ
プタノールを80：20の比率で含有し、固体24.3％
を含有するホトレジストを得た。湿潤性および条
線性のデータを表１に示す。 例 XI 例で調製したマスターバツチ40部に２−メチ
ル−１−ペンタノール8.5部およびシクロペンタ
ノン７部を添加して、シクロペンタノンおよび２
−メチル−１−ペンタノールを80：20の比率で含
有し、固体24.3％を含有するホトレジストを得
た。湿潤性および条線性のデータを表１に示す。

【表】

【表】 当業者が本発明の範囲内で、本発明の精神から
逸脱することなく各種の変更をなしうることは明
らかであろう。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (a) ジアゾケトン系感光性化合物、 (b) アルカリ可溶性樹脂 (c) シクロペンタノン、およびシクロペンタノン
   とシクロヘキサノンとのブレンドよりなる群か
   ら選ばれる環状ケトン系溶剤、ならびに (d) ５〜12個の炭素原子を有する脂肪族アルコー
   ル系溶剤、 の溶液状態の混合物からなり、環状ケトンが溶剤
   全体の少なくとも20％を構成し、アルコールが溶
   剤全体の少なくとも10％を構成するポジのホトレ
   ジスト組成物。 ２ 環状ケトンがシクロペンタノンである、特許
   請求の範囲第１項記載の組成物。 ３ 脂肪族アルコール系溶剤がｎ−ヘキサノー
   ル、ｎ−オクタノール、２−オクタノール、１−
   ヘプタノール、２−メチル−１−ペンタノールお
   よびそれらの混合物から選ばれる、特許請求の範
   囲第２項記載の組成物。 ４ 感光性化合物が２，３，４−トリス（６−ジ
   アゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフ
   タリンスルホニルオキシ）ベンゾフエノン、２−
   ヒドロキシ−３，４−ビス（６−ジアゾ−５，６
   −ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホ
   ニルオキシ）ベンゾフエノン、２，４−ビス（６
   −ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−
   ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾフエノン、
   ２，３−ジヒドロキシ−４−（６−ジアゾ−５，
   ６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスル
   ホニルオキシ）ベンゾフエノン、２−ヒドロキシ
   −４−（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オ
   キソ−１−ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾ
   フエノン、２，３−ジブロム−１−（６−ジアゾ
   −５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリ
   ンスルホニルオキシ）プロパン、２，４−ビス
   （６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−
   １−ナフタリンスルホニルオキシ）ベンゾフエノ
   ンおよびそれらの混合物よりなる群から選ばれ
   る、特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ５ 感光性化合物が２−ヒドロキシ−４−（６−
   ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナ
   フタリンスルホニルオキシ）ベンゾフエノンおよ
   び２，４−ビス（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ
   −５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオキ
   シ）ベンゾフエノンの混合物である。特許請求の
   範囲第１項記載の組成物。 ６ 感光性化合物が２，３，４−トリス（６−ジ
   アゾ−５，６ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタ
   リンスルホニルオキシ）ベンゾフエノン、２−ヒ
   ドロキシ−３，４−ビス（６−ジアゾ−５，６−
   ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタリンスルホニ
   ルオキシ）ベンゾフエノンおよび２，３−ジヒド
   ロキシ−４−（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−
   ５−オキソ−１−ナフタリンスルホニルオキシ）
   ベンゾフエノンの混合物である、特許請求の範囲
   第１項記載の組成物。 ７ 脂肪族アルコールが２−オクタノール、１−
   ヘプタノール、２−メチル−１−ペンタノール、
   ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノールおよびｎ−
   ヘキサノールよりなる群から選ばれる、特許請求
   の範囲第２項記載の組成物。 ８ 環状ケトンがシクロペンタノンであり、脂肪
   族アルコールがｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノ
   ール、２−オクタノール、１−ヘプタノール、２
   −メチル−１−ペンタノールおよびこれら脂肪族
   アルコールの混合物のうちから選ばれるものであ
   る、特許請求の範囲第４項記載の組成物。