JPH0310078A - 基板加工装置、その組合体および基板加工方法 - Google Patents

基板加工装置、その組合体および基板加工方法

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JPH0310078A
JPH0310078A JP2131116A JP13111690A JPH0310078A JP H0310078 A JPH0310078 A JP H0310078A JP 2131116 A JP2131116 A JP 2131116A JP 13111690 A JP13111690 A JP 13111690A JP H0310078 A JPH0310078 A JP H0310078A
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tube
paddle
elephant
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stainless steel
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JP2131116A
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Cleon R Yates
クレオン アール.イェイツ
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Tosoh Quartz Inc
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Cryco Twenty Two Inc
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3311Horizontal transfer of a batch of workpieces
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0431Apparatus for thermal treatment
    • H10P72/0436Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は基板加工装置、その組合体および基板加工方法
に関し、さらに詳細には、基板加工用ファーネスに対す
るウェハ・ロード位置、ウェハ・パージ位置およびウェ
ハ加工位置間で使用するのに適した、パドルを備えた可
動式石英エレファント管を有する可動カンチレバー式パ
ージ・システムからなる基板加工装置、その組合体およ
び基板加工方法に関する。
[従来の技術] 従来の装置は、ウェハ・ロード位置かまたはウェハ加工
位置のどちらかを設けているが、他の二つの位置間には
パージ位置は適切に設けられていない。
「カンチレバー式拡散管装置右よび方法」と題したWo
l1mann出願の米国特許第4.459.104号お
よび「カンチレバー式拡散管装置および方法」と題した
同人出願の米国特許第4.526.534号の各々は、
加工管の底部にスロットを有している。
「スロット付カンチレバー式拡散管システムおよびロー
ディングのだめの方法とその装置」と題したWhang
等出願の米国特許第4.543.059号には、拡散管
装置が記載されている。本引例は、底部にスロットを備
えた大型の石英管が記載されている。加工管内部には一
個のガラス・スリーブがある。パドルを支えるベローズ
は設けられていない。このガラス・スリーブは単一のラ
ンナウェー上に支えられると共に加工管に極めて接近し
ている。
[発明が解決しようとする課題] 本発明はウエノいロードパージ位置およびウェハ加工位
置に用いて好適な可動式エレファント管を配設すること
によって従来技術の欠点を克胤すると共にエレファント
管にパージ・インジェクタおよびリターン排気管を備え
ることが可能である。可動式エレファント管は、ウェハ
・ロードに接近できると共に加速クー−リング・サイク
ルを有する加工間のパージングを提供している。他の実
施例には低圧CVD法が挙げられる。
「課題を解決するための手段] 前記の課題を解決するために、本発明は可動式石英エレ
ファント管をウェハ加工用ファーネス中の可動式石英エ
レファント管およびそのファーネスのスキャベンジャ面
の回りをシールするシール・リング・アセンブリを備え
た可動式石英エレファント管を利用する可動カンチレバ
ー式パージ・システムを提供することにある。
本発明の一実施例には、ステンレス・スチール製シャフ
ト上のベアリング・ブロックに位置決めされた可動式石
英エレファント管を備えた可動カンチレバー式パージ・
システムが示されている。炭化珪素またはセラミック製
パドルはカンチレバー式パドル・クランプ移動体に支承
されると共にステンレス・スチール製シャフト上に設け
られている。ステンレス・スチール製シャフト・アセン
ブリは加工用ファーネスに隣接して配置されると共に石
英加工管とアラインしている。可動式石英エレファント
管は、ウェハ・ロード位置と、ウェハ・パージ位置とウ
ェハ加工位置との間で移動する。石英リングを加工管に
対しておよびステンレス・スチール製リングをスキャベ
ンジャ作用面に対して夫々シールする特殊なシール装置
は、これらリングが三次元運動および可動式石英エレフ
ァント管と、加工管とドア付ファーネスとの間の同心性
を与えるという点で一つのシステムを提供する。
本発明の他の実施例には、ウェハ加工用ファーネス内の
加工管に係合し且つそれに対して密封を行うためにステ
ンレス・スチール製可動式エレファント管の一端部と配
置に応じてアラインするベローズ方式のクロージヤー・
ドアを備えた可動カンチレバー式パージ・システムが示
されている。低圧CVD法に基づいてエレファント室内
の環境を圧力気密状態または真空状態にもたらすエレフ
ァント間の端部においてパドルをシールするための別な
ベローズ型ドアが設けである。
本発明の主たる構成の要点は、ウェハ加工管に対してシ
ールを行う石英ドアと、石英ドアと金属ドアとが可動式
石英エレファント管およびウェハ加工管に対して同心円
的にシーリング作用を行う場合においてスキャベンジャ
面に対してシーリング作用を行う金属ドアとを有する可
動式石英エレファント管を備えた可動カンチレバー式パ
ージ・システムが設けられていることを特徴としている
。また、スキャベンジャ面と全てのガスを排気させるリ
ターン排気装置との間にシールが行われるシール装置が
ある。さらにまた、これはガスの逆流を防止する実用可
能なシステムも提供される。
本発明の他の構成の要点は、ウェハ・ロード位置と、ウ
ェハ・パージ位置とウェハ加工位置との間でスライドす
るエレファント管が配設されていることを特徴としてい
る。エレファント管および支持構造体はまたリターン・
スキャベンジャ排気管を介してガスの排気および急送り
−リング右よび/またはパージングを提供する。
シーリング装置により、ルームからエレファント管への
大気ガスの逆流はほとんどないか、あるいはごく僅かで
ある。
本発明のまた他の別な構成の要点は、蒸着法等の大気環
境を制御することが可能な可動カンチレバー式パージ・
システムが設けられていることを特徴としている。また
、大気は不活性ガス等によってパージ可能である。
本発明の他の実施例によるさらに他の構成の要点は、複
数のホールを有する少なくとも一個の内部インジェクタ
を使用する可動カンチレバー式パージ・システムが設け
られていることを特徴としている。
本発明の他の実施例によるなおさらに別の構成の要点は
、セルフ・アラインメント・ベローズ式クロージヤー・
ドアが設けられていることを特徴としている。
本発明のなふさらに別の構成の要点は、低圧CVD法に
より圧力シールまたは真空シールを設定するためにエレ
ファント管およびカンチレバー式パドルを中心としたベ
ローズ型ドアを利用している点を特徴としている。
このように本発明の主要な実施例について説明してきた
が、本発明の主たる目的は、トラックまたはレール装置
に載せる少なくとも一個、好ましくは二個のインジェク
タ・ノズルを備えたエレファント管を利用する可動カン
チレバー式パージ・システムを提供することにある。
本発明の一つの目的は、異なった各位置間で且つツート
ン・パドル等のパドルハンドルのシャフトに沿って可動
なエレファント管を提供することにある。
本発明の他の目的は、ガスが逃れるのを防止し、且つガ
スの逆流を防止するために周囲構造体の回りをシールす
る気密シール装置を構成するエレファント管アセンブリ
を提供することにある。作動パラメータ、作動温度およ
び作動圧に応じて、ガスの逃げまたはガスの逆流はごく
微小になり得るが、そのような場合は、量的には極めて
少ない。
本発明のさらに他の目的は、圧力シールまたは真空シー
ル環境条件を設定するためにベローズ型ドアを用いた低
圧式CVDシステムを提供することにある。
[好適な実施例] 第1図は、可動式石英エレファント管12を備えた可動
カンチレバー式パージ・システムの側面図を示す。この
エレファント管12は特定の荷重要求$よびウェハ・サ
イズに応じて直径および長さを可変可能である。エレフ
ァント管12は、−開放端部14と、炭化珪素またはセ
ラミック製パドル支持軸若しくはハンドル18が1イン
チの約70/1000および1インチの10−100/
1000の範囲の最小クリアランスを通過するように十
分なサイズと形状を持つ部分閉端部16の開口部を残し
て部分的に閉じ得る対向端部16とを有する。また、可
動式石英エレファント管12は、例えば、大気から酸素
を除去するために窒素または他のガスがウニへ面を横切
るように重要な個所に設けられた可動式石英エレファン
ト管12の内壁に配置・固定された複数の窒素パージ・
インジェクタ20a乃至2Onを備えることが可能であ
る。
また、可動式石英エレファント管12は、ガス通過式装
置構造体を取り付けるために複数の結合用ニップルを備
えることも可能である。サイズおよび心間スペーシング
を可変させる複数のホール22a乃至22nは、第2図
に示すように、窒素または他のガスがシリコン・ウェハ
の表面を通過するようにさせるために窒素パージ・イン
ジェクタ20a乃至20T1に形成されている。石英排
気ニップル24は、ガス源が取り付けできる可動式石英
エレファント管12の前記端部16に配置される。石英
排気ニップル24は、窒素パージ・インジェクタ20a
乃至20nに結合している。石英排気ニップル26は、
気密用0’Jング圧縮コネクタおよびフランジ・アセン
ブリ28を取り付けるために可動式石英エレファント管
12の内部に直に配管およびシールされる石英から構成
される。ステンレス・スチール製コネクタ・エルボ30
は、気密用0リング圧縮コネクタ28の他端および気密
用0リング圧縮コネクタ32に結合している。ステンレ
ス・スチール製コネクタ・エルボ30は、ステンレス・
スチールまたは他の同様の材料からなり、且つ石英排気
ニップル26を介する可動式石英エレファント管12、
気密用0リング圧縮コネクタ28.32也ステンレス・
スチール製リターン・スキャベンジャ排気管34の直線
区域との管で空密結合を提供する。さらに、これはファ
ーネス・スキャベンジャ・エリアより排出し得る排気ガ
スをルート化するための配管を提供している。ブラケッ
ト49.51は、エレファント管12をエレファント・
キャリヤ移動体38に固定している。リターン・スキャ
ベンジャ排気管34用のクロージヤー・ドア36は、ス
テンレス・スチールまたは他の同様な材料から構成され
、ステンレス・スチール製シール・ドア58と共働して
ステンレス・スチール製フレキシブル・ジヨイント36
aを結合させると共にステンレス・スチール製リターン
・スキャベンジャ排気管34に取り付けられている。ク
ロージヤー・ドア36は、パージ位置若しくはウェハ加
工位置にあるとき、スキャベンジャ面121とステンレ
ス・スチール製リターン・スキャベンジャ排気管34と
の間で実質的に気密シールを行う。第6図に示されるよ
うに、圧縮型気密Oリング37は、クロージヤー・ドア
36の端部に隣接して配置され、以後スキャベンジャ面
121のリターン・スキャベンジャ排気ホール132に
対してシールを行う。十分な内/外径および厚さを持っ
た石英シール・ドア52は、可動式石英エレファント管
12に対しておよびそれを中心として同心円的に配置さ
れている。石英シール・ドア52は、水平にアラインさ
れた二個またはそれ以上の石英スライド・ロッドによっ
てエレファント・キャリヤ移動体38の側対向側に支持
されており、また可動式石英エレファント管12がパー
ジ位置若しくはウェハ加工位置にあるとき可動式石英エ
レファント管I2と加工管との間で気密作用を行う。十
分な内/外径および厚さをもったステンレス・スチール
若しくは他の同様な材料からなるステンレス・スチール
製シール・ドア58は、可動式石英エレファント管12
に対しておよびそれを中心にして同心円的に配置され、
水平にアラインされた二個またはそれ以上の円筒管60
.62によって支承され、さらに可動式石英エレファン
ト管12がパージ位置若しくはウェハ加工位置にあると
き可動式石英エレファント管12とスキャベンジャ排気
エリアの外側部との間でシール作用を行う。ステンレス
・スチール若しくは他の同様な材料からなる取付フラン
ジ64.66は、ステンレス・スチール製シール・ドア
58を確実に取り付けるために円筒管60.62上に同
心円的に配置されている。ステンレス・スチール若しく
は他の同様な材料からなるピボット式調整ブロック68
.70は、エレファント・キャリヤ移動体380両対向
側に配置され且つ取り付けられ、さらに石英シール・ド
ア52およびステンレス・スチール製シール・ドア58
に対して上下ピボット調整と回転角度的なピボット調整
の両方を供与しながら石英スライドロッド54.56お
よび円筒管60.62を支承する手段を提供している。
ステンレス・スチール若しくは他の同様な材料からなる
円筒管60.62は、ピボット式調整ブロック68.7
0に配置されるとともに取り付けられ、一端がオーブン
し他端がクローズするステンレス・スチール製スプリン
グを備えた密封ハウジングを有し、さらに−個以上の同
心円筒型テフロン・スペーサをも備えている。テフロン
・スペーサは、夫々石英スライドロッド54.56およ
び円筒管60.62との間の同心性を保持するとともに
石英シール・ドア52がパージ・サイクル若しくはウェ
ハ加工サイクル中、加工管と同心円的に接触する。ステ
ンレス・スチール製スプリングは石英スライドロッド5
4.56の柔軟性を可能にし、パージ・サイクル若しく
はウェハ加工サイクル中、石英シール・ドア52の係合
と引張作用を確実に適切に行う。
ピボット式ビン72.74は、石英シール・ドア52と
可動式石英エレファント管12およびステンレス働スチ
ール製シール亭ドア58と可動式石英エレファント管1
2との間で同心性が達成されるように調整がなされたと
き、エレファント・キャリヤ移動体38の両射向側にお
よび可動式石英エレファント管12の両対向面上に配置
されたピボット式調整ブロック68.70に対して軸を
なす。石英シール・ドア、石英スライドロッド、円筒管
、テフロン・スペーサ右よびピボット式調整ブロックに
関する引例が、同一発明者および同一譲受人に譲渡され
た出願「大気用ドア・クロージャ」に示されている。
パドル・ホール78が可動式石英エレファント管12の
前記端部16に形成され且つ炭化珪素製パドル支持軸1
8が通過する通路を形成する。
部分的に閉じる端部16のサイズおよび形状は、特定の
炭化珪素製パドルのサイズに応じて変化する。カンチレ
バー式パドル・クランプ移動体80は、硬ステンレス・
スチールとなり得るアルミニウムまたは他の同様な材料
から構成されるとともに平行なステンレス・スチール製
シャフト48.50に対してスムーズな移動を提供する
複数のベアリング・ブロック82a乃至82nによって
支えられている。カンチレバー式パドル・クランプ移動
体80は、確実に炭化珪素製パドル支持軸18を支承す
る。またカンチレバー式パドル・クランプ移動体80は
、加工管および他の構成要素に対してパドルのアライン
メントを行う。さらに、カンチレバー式パドル・クラン
プ移動体80は、先の同時継続出願で引用したように炭
化珪素製パドル支持軸18と、可動式石英エレファント
管12と加工管との間のアラインメントを確実に行う炭
化珪素製パドル支持軸18に対して上下・横方向の調整
を行う。可動式石英エレファント管12用のクロージヤ
ー・ドア84は、ステンレス・スチールまたは他の同様
な材料から構成され、適当な材料からなる圧縮式気密0
リング型シール91を介して炭化珪素製パドル支持軸1
8に取り付けられている。クロージヤー・ドア84は、
適当な材料からなる任意の圧縮式気密0リング89を備
え得ることが可能で、可動式石英エレファント管12の
前記端部16と係合し且つパージ位置若しくはウェハ加
工位置にあるとき炭化珪素製パドル支持軸18と可動式
石英エレファント管12との間で実質的に確実な気密シ
ール作用を行うシール・プレート88に取り付けられた
ステンレス・スチール製フレキシブル・ベローズ86か
らなっている。ステンレス・スチールまたは他の同様な
材料からなるシャフト支持体90.92は、ステンレス
・スチール製シャフト48.50を確実に支承する構造
体を提供するので、ベアリング・ブロック40a乃至4
0nおよび82a乃至8211がシャフト支持体90.
92に沿ってスムーズに載置可能となる。0リング89
はシール・プレート88およびエレファント管12の端
部をシールする。もう一つの0リング型シール91は炭
化珪素製パドル支持軸18を中心として設けられたクロ
ージヤー・ドア84をシールする。
第2図は、第1図の2−2線による可動カンチレバー式
パージ・システム10の断面端面図を示す。但し、全符
号は、上記構成要素のものに対応している。特に同図に
おいて示されているものは、可動式石英エレファント管
12に対しておよびそれを中心にして同心円的に設けら
れたステンレス・スチール製シール・ドア58である。
複数の窒素パージ・インジェクタ20a乃至20nは、
可動式石英エレファント管12の内部側壁の、例えば、
支持体前部にわたって所望のパージングを行うように配
置されている。さらに、別符号の窒素パージ・インジェ
クタ20a乃至2Onを前記システムに組み込むことが
可能である。窒素パージ・インジェクタ20a乃至2O
nは、上記位置以外の内部側壁上の位置に配置すること
が可能であり、また第5図に示されるように、マニホー
ルド化可能である。
第3図は、第1図の3−3線による可動カンチレバー式
パージ・システム10の断面で示した端面図である。但
し、全符号は上記構成要素のものに対応している。縦支
持部材94.96はエレファント・キャリヤ移動体38
の取付板42から垂直に延在して、可動式石英エレファ
ント管120両サイドを支持する。可動式石英エレファ
ントiF12ヲ含むエレファント・キャリヤ移動体38
は、複数のベアリング・ブロック40a乃至40n上で
且つシャフト48.50に沿ってトラバースする。シャ
フト48.50は、シャフト支持体90.92の最上部
に沿って支承されている。
ピボット式ピン72.74は、ピボット式調整ブロック
68.70の中に示されている。また、部分的に第1図
に示されているように、ピボット式調整ブロック68中
の調整ねじ95.97およびピボット式調整ブロック7
0中の調整ねじ98.、00は、ピボット式ピン72.
74を中心にピボット式調整ブロック68.70を枢動
可能に調整して円筒管60.62、石英スライドロッド
54、56およびステンレス・スチール製石英シール・
ドア58.52を水平にアラインさせる。シール・ドア
52.58は加工管とスキャベンジャ面に対して同心ド
アとして作用する。
第4図は、可動式石英エレファント管12の縦断面図を
示す。但し、全符号は、上記構成要素のものに対応して
いる。特に図示されているものは、可動式石英エレファ
ント管I2の内壁に固定されたパージ・インジェクタの
一つ20aである。さらに、第5図に示されているよう
に、マニホールド102は、各インジェクタ間のホール
22nに隣接したパージ・インジェクタ20a乃至2O
nの各端部を接合させる。
第5図は、第4図の5−5線による可動式石英エレファ
ント管12の端面図を示す。但し、全符号は上記構成要
素のものに対応している。
マニホールド102は、窒素パージ・インジェクタ20
a乃至2Onを結合させる可動式石英エレファント管1
2の内部を横切るように図示されている。
[動作モード] 第6図乃至第8図は、ウェハ加工用ファーネスに関連し
て可動カンチレバー式パージ・システムの動作のモード
を最もよく表している。
第6図は、ウェハ・ロード位置においてウェハ加工用フ
ァーネス120に隣接した、部分断面で示された可動カ
ンチレバー式パージ・システム10を示している。同図
の全符号は、先に説明した構成要素のものと対応してい
る。パドルのウェハ・ロードゾーン18aはパドルの中
間点から炭化珪素製パドル支持軸18の一端部まで延在
している。加工準備中のウェハ・ボート122は、ロー
ド・ゾーン18a上にある複数のウェハ124a乃至1
24nを有し加工前の状態を示している。ウェハ加工用
ファーネス120は、スキャベンジャ面121、その面
121に形成されたスキャベンジャ・ホール126、石
英加工管128および加工管オリフィス130を備えて
いる。ウェハ加工用ファーネス120内に形成されたス
キャベンジャ壁127は、ウェハ加工用ファーネス12
0内の加工エリア136とスキャベンジャ・エリア13
4とを分離する。以後、加工管オリフィス130に対し
てシールを行うべく、スキャベンジャ・ホール126の
直径は、石英シール・ドア52がスキャベンジャ・ホー
ル126を通過するように加工管オリフィス130の直
径より大き(取っである。スキャベンジャ・ホール12
6は、ステンレス・スチール製シール・ドア58とM方
向にアラインし、続いてシール・ドア58に対してシー
ルを行う。同様に、加工管オリフィス130は、石英シ
ール・ドア52と同軸方向にアラインし、続いてシール
・ドア52に対してシールを行う。ウェハ加工用ファー
ネス120のスキャベンジャ面121に形成されたリタ
ーン・スキャベンジャ排気ホール132は、リターン・
スキャベンジャ排気管34、クロージヤー・ドア36お
よびフレキシブル・ジヨイント36aとアラインする。
リターン・スキャベンジャ排気ホール132は、任意に
スキャベンジャ・ホール126に付加することが可能で
ある。スキャベンジャ排気ホール138はスキャベンジ
ャ・エリア134に隣接したウェハ加工用ファーネス1
20上に設けられている。
第7図は、ウェハ・パージ位置を示している。
但し、同図における全符号は上記した構成要素のものと
同一である。可動式石英エレファント管12およびこれ
に対応する部材がウェハ加工用ファーネス120および
パージ用の石英加工管128内で部分的に位置決めされ
るとともに同ウェハ加工用ファーネス120および間管
128に対してシールを行うような配位状態で、第1図
に示したエレファント・キャリヤ移動体38およびカン
チレバー式パドル・クランプ移動体80は、ステンレス
・スチール製シャフト48.50に沿ってスライドして
位置を定める。
上記に述べたように、ウェハ加工用ファーネス120は
、ステンレス・スチール製シール・ドア58をファーネ
ス・スキャベンジャ面121と嵌め合わせ係合させるこ
とによってシールされる。石英加工管128は、石英シ
ール・ドア52を加工管オリフィス130と嵌め合わせ
係合させることによってシールされる。フレキシブル・
ジヨイント36aを含むクロージヤー・ドア36は、リ
ターン・スキャベンジャ排気ホール132を突出するリ
ターン・スキャベンジャ排気管34をウェハ加工用ファ
ーネス120のファーネス・スキャベンジャ・エリア1
34で密閉する。石英シール・ドア52およびステンレ
ス・スチール製シール・ドア58は、スキャベンジャ面
121および石英加工管128に対して可動式石英エレ
ファント管12を密閉するために連続状態でシールを行
う。最初、スプリング・クツション式石英シール・ドア
52は、石英加工管128の加工管オリフィス130と
嵌合しビボッ、ト式調整ブロック68.70内の内部ス
プリングを圧縮する。その後、第1図に示されたエレフ
ァント・キャリヤ移動体38がさらに左側に移動すると
、ウェハ加工用ファーネス120のスキャベンジャ面1
21に対してステンレス・スチール製シール・ドア58
の位置が定まる。加圧窒素力°ス若しくは他のガスは石
英排気ニップル24に導入され、第1図、第2図、第4
図および第5図に示されたパージ・インジェクタ20a
乃至2Onを介して密閉された可動式石英エレファント
管12の内部に入る。使用済みガスは、密閉された可動
式石英エレファント管12から石英排気ニップル26を
介して気密用0リング圧縮コネクタ28、ステンレス・
スチール製コネクターエルボ30、気密用Oリング圧縮
コネクタ32を介して且つすターン・スキャベンジャ排
気管34を介してパージされウェハ加工用ファーネス1
20のファーネス加工エリア136に入る。
第8図は、ウェハ加工位置を示している。但し、同図の
全符号は、先に述べた構成要素のものに相当する。可動
式石英エレファント管12のパージング後、カンチレバ
ー型パドル・クランプ移動体80が、さらに左方向に且
つエレファント・キャリヤ移動体38方向に位置調整さ
れて全ウェハ124a乃至124nを含むウェハ・ロー
ドゾーン18aを位置決めしウェハ加工用の石英加工管
128の内部に完全に入る。
炭化珪素製パドル支持軸18が左へ移動して第1図に示
したパドル・ホール78を通過するとエレファント・キ
ャリヤ移動体38およびこれに対応した構成要素は固定
状態を維持する。
石英加工管128内でウェハ124a乃至124nを加
工処理後、ウェハ・ロードゾーン18aおよび可動式石
英エレファント管12は、平行配列されたステンレス・
スチール製シャフト48.50に沿うエレファント・キ
ャリヤ移動体38およびカンチレバー式パドル・クラン
プ移動体80のシーケンス的移動によって石英加工管1
28およびウェハ加工用ファーネス120から逆の順に
引き抜かれる。
第9図は、カンチレバー式パドル・クランプ移動体80
の斜視図を示す。但し、同図の全符号は、先に述べた構
成要素のものと対応している。矩形型ベース板150は
複数の切り込みされた調整ホール152a乃至152n
を有し前記調整ホール152a乃至152nを介して適
当な小ねじファスナーによって第1図のベアリング・ブ
ロック82a乃至82rlに固定している。平行な垂直
壁部材154.156はベース板150より垂直に延在
し、第10図に示されるように、ファスナー158a乃
至158nによってベース板150に固定される。上部
取付板160は複数のファスナー162a乃至162n
に4って垂直壁部材154.156に固定される。ピボ
ット式クランプ・アセンブリ164はチャネル化された
上部クランプ部材166とチャネル化された下部クラン
プ部材168を備えている。前記上部クランプ部材16
6および下部クランプ部材168はアラインし、これら
のチャネル化壁は互いに対向し、且つ第10図に示され
るように、複数のファスナー170a乃至170nによ
って炭化珪素製パドル支持軸18に対してともに固定さ
れる。ピボット軸172は、前記上部クランプ部材16
6の浮きだし矩形型固定部材174のホール175を介
して固定しており、第10図に示された薄ナツト176
.178によって調整されるとともに前記固定部材17
4に固着される。ピボット軸172は、垂直壁部材15
4.156内に形成されたホール180.182にアラ
インするとともに同ホール内で枢動する。薄ナツト18
6.188を備えた垂直方向にアラインされるねじ込み
調整ロッド184は、前記上部クランプ部材166の一
端部において切り込みされた開きホール190にアライ
ンし、さらに第11図に示されるように、上部取付板1
60に形成されたホール192にアラインする。工具が
ファスナー170a乃至170nに接近できるように、
複数の工作ホール194a乃至194nは、第11図に
示されるように、ファスナー170a乃至170nとア
ラインし、その結果、上部、下部クランプ部材166.
168が炭化珪素製パドル支持軸18に対しておよびそ
の回りを固く締めつけることが可能となる。止めねじ1
96は、上部取付板160に形成されたホール192に
水平方向にアラインしてホール192内の調整ロッド1
84の上端部を固定する。前記上部、下部クランプ部材
166.168内に固定された前記炭化珪素製パドル支
持軸18と前記上部、下部クランプ部材166.168
との横方向の調整は、ピボット軸172に沿っておよび
前記固形部材174の両壁に対して水平方向に薄ナツト
176.178を調整することによってなされる。炭化
珪素製パドル支持軸18の垂直方向の高度調整は、調整
ロッド184に沿って垂直に薄ナツ)186.188を
調整することによってなされ、これにより前記上部、下
部クランプ部材166.168および炭化珪素製パドル
支持軸18を含むピボット式クランプ・アセンブリ16
4がピボット軸172を中心にして枢動する。炭化珪素
製パドル支持軸18の横方向のアラインメントおよび縦
方向の高度アラインメントが正しく行われると、止めね
じ196は調整ロッド184の上部に対して締めつけを
行い、ピボット軸172は、垂直壁部材154.156
内で水平方向にアラインする止めねじ198.200に
よって所定位置に固定される。止めねじ198.200
は、ホール180.182内のピボット軸172の端部
に対して垂直に締めつけを行う。
第10図は、炭化珪素製パドル支持軸18に対してクラ
ンプを行うカンチレバー式パドル・クランプ移動体80
の端面図を示す。同図における全符号は、先に述べた構
成要素のものに対応している。ここで特に説明されてい
るものは、ピボット式クランプ・アセンブリ164を横
方向に位置決めを行う薄ナツト176.178である。
第11図は、カンチレバー式パドル・クランプ移動体の
断面側面図を示す。特に同図において示されているもの
は、ピボット式クランプ・アセンブリ164およびこれ
に係合する炭化珪素製パドル支持軸18を上、下方に位
置決めを行う薄ナツト186.188である。
第12図は、ステンレス・スチール製可動式エレファン
ト管202を有する可動カンチレバー式パージ・システ
ム201の分解側面図を示している。ステンレス・スチ
ール製可動式エレファント管202は、特定の加重要求
量およびウェハ・サイズに応じて径および長さを可変可
能である。前記エレファント管202は、−開放端部2
04と、炭化珪素またはセラミック製パドル支持軸若し
くはハンドル208が1インチの約70/l 000お
よび1インチの10−100/1000の範囲の最小ク
リアランスを通過するように十分なサイズと形状を持つ
、部分閉端部206の開口部207とともに部分的に閉
じ得る対向端部206とを有する。また、ステンレス・
スチール製可動式エレファント管202は、例えば、大
気から酸素を除去するために窒素または他のガスがウェ
ハ面または基板面を横切るように重要な個所に設けられ
たステンレス・スチール製画a式エレファント管202
の内壁に配置・固定された複数の窒素パージ・インジェ
クタ201a乃至201nを備えることが可能である。
また、ステンレス・スチール製可動式エレファント管2
02は、ガス通過式装置構造体を取り付けるために複数
の結合用ニップルを備えることも可能である。サイズお
よび心間スペーシングを可変させる複数のホール212
a乃至212nは、第13図に示すように、窒素または
他のガスがシリコン・ウェハの表面を通過するようにさ
せるために窒素パージ・インジェクタ管210a乃至2
10nに形成されている。ニップル214は、ガス源が
取り付は可能なステンレス・スチール製可動式エレファ
ント管202の前記部分閉端部206に配置される。ニ
ップル214は、窒素パージ・インジェクタ管210a
乃至210nに結合している。ニップル215は、酸素
または他の全てのガスをモニタ・プローブでモニタする
ためにステンレスΦスチール製可動式エレファント管2
02の排気用の管の端部206に設けられている。パド
ル・ホール218を有する端板216はステンレス・ス
チール製可動式エレファント管202の前記端部206
に隣接して配置されている。炭化珪素、セラミック等の
他の物質含有のパドル支持軸208はパドル・ホール2
18を貫通する。前記端部206に形成されたパドル・
ホール218のサイズおよび形状は、各々のパドル・サ
イズに応じて変化する。第1図のカンチレバー式パドル
・クランプ移動体80に類似した可動カンチレバー式パ
ドル・クランプ移動体220は、硬ステンレス・スチー
ルにもなり得るアルミニウム若しくは他の同様な物質か
ら構成され、可動カンチレバー式パドル・クランプ移動
体220および平行配列されたステンレス・スチール製
シャフト224.226の円滑な移動を提供する複数の
ベアリング・ブロック222a乃至222nによって支
持されている。可動カンチレバー式パドル・クランプ移
動体220は、炭化珪素製パドル支持軸208を固定す
るとともに支承する。可動カンチレバー式パドル・クラ
ンプ移動体220はまた加工管228および他の構成要
素に対してパドル支持軸208のアラインメントを行う
。さらに可動カンチレバー式パドル・クランプ移動体2
20はまた炭化珪素製パドル支持軸208に対して上下
および横方向の調整を提供し、これにより炭化珪素製パ
ドル支持軸208と、ステンレス・スチール製可動式エ
レファント管202と加工管228との間のアラインメ
ントが確保される。ステンレス・スチール製可動式エレ
ファント管202に対するパドル支持軸208のシール
を行うためのクロージヤー・ドア230は、ステンレス
・スチールまたは他の同様な物質から構成されるととも
に炭化珪素製パドル支持軸208に対しておよびそれを
中心にして同軸的に固定している。前記ベローズの対向
両端部における環状フランジ23、232は、リング・
プレート233.235によって且つリング・プレート
233.235および環状フランジ23、232に対し
て固定された複数のクランプ238a乃至238nによ
ってシール・プレート237.236に固定される。別
な管290はシール・プレート237に溶接されるとと
もにスライド面であるシール・プレート236に及ぶ。
前記管290は好ましくは任意に選択できる。0リング
227は、リング・プレート233とシール・プレート
237との間に配設され、他の0リング229は、リン
グ・プレー)235とシール・プレート236との間に
配設されている。勾配付内面を持つ円形フランジ239
.240は複数の小ねじ241a乃至241nによって
シール・プレート237に対して固定される。複数のO
IJソング43a乃至243nは、環状フランジ239
.240の勾配付内面によって圧縮されドア・クロージ
ヤー・アセンブリ230をパドル支持軸208に固着し
、マウントし且つシールする。ベローズは実質的に環状
フランジ239.240および0リング243a乃至2
43nによってパドル支持軸208に据え付けられる。
ベローズ234は、この据え付はエリアから屈曲し且つ
それがエレファント管202の端板216に対してシー
ルを行い得るようにパドル支持軸208に対して同心関
係にあるシール・プレート236ふよび0リング247
をパドル支持軸208に沿ってスライドさせる。調整可
能なベローズ・ストップ249はシール・プレート23
7に固定しており且つベローズ運動を調整するためにシ
ール・プレート237とシール・プレート236との間
に配設されている。ステンレス・スチール若しくは他の
同様な物質から構成されるシャフト支持体240.24
2は、ベアリング・ブロック244a乃至244nおよ
び222a乃至222nがシャフト支持体224.22
6に沿って円滑に支えられて移動可能となるよ、うにス
テンレス・スチール製シャフト224.226を確実に
支承するための構造体を提供する。エレファント管キャ
リヤ245は、ステンレス・スチール製可動式エレファ
ント管202を取付板246およびベアリング・ブロッ
ク244a乃至244nに固定するブラケット248.
250を備えたベアリング・ブロック244a乃至24
4n上に固定された取付板246を有する。
他のクロージヤー・ドア251は、クロージヤー・ドア
230に類似しており、ステンレス・スチール製可動式
エレファント管202と加工管228との間でシールが
行われるようにステンレス・スチール製可動式エレファ
ント管202上にその回りに且つそこに固定されたステ
ンレス・スチール製フレキシブル・ベローズ252を有
する。垂直にアラインしフラットでド−ナッツ状の取付
板254は溶接または他の手段によってステンレス・ス
チール製可動式エレファント管202に固定される。ス
テンレス・スチール製フレキシブル・ベローズ252の
一端部における環状フランジ256および0リング・シ
ール260は、取付板254およびリング取付板255
の外面の回りとその上に固定された複数のブラケッ)2
58a乃至258nによってリング取付板255の真下
に固定されている。フレキシブル・ベローズ2520対
向端邪において、他の環状フランジ266および0リン
グ268が、取付板266およびリング取付板269の
外面の回りとその上に固定された複数のブラケッ)27
0a乃至270nによってリング取付板269の真下に
固定されている。
リング取付板255.269はベローズの一部であり、
且つベローズの当該部に溶接される。
フレキシブル・ベローズ252は固定された取付板25
4に対してばね作用を行う。環状フランジ266は、エ
レファント管202に固定されておらず、エレファント
管202に対してベローズとともに自由に移動する。0
リング272は、環状フランジ266と複数の小ねじ2
76a乃至276nによって加工管228に固定された
他のフランジ274との間のシールを行うために環状フ
ランジ266の環状溝に配置されている。小ねじ276
a乃至276nは、加工管228の端部から延在する環
状フランジ280に対してフランジ274および円形プ
レート278を吸引移動させるために円形プレート27
8にねじ込まれる。ガスリング274内の0リング28
2および円形プレート278内の0リング284は、環
状フランジ280に対してシール作用を行う。水平方向
に向けられた調整可能なベローズ・ストップ286は、
ステンレス・スチール製フレキシブル・ベローズ252
の圧縮調整を行うために取付板254の上部に固定され
る。
第13図は、第12図の13−13線による可動カンチ
レバー式パージ・システム201の断面を示した端面図
である。但し、全符号は、先に述べた構成要素のものに
対応している。同図において特に示されているものは、
ステンレス・スチール製可動式エレファント管202に
わたって且つそれを中心にして同心円関係にあるクロー
ジヤー・ドア251である。複数のパージ・インジェク
タ管210a乃至210nは、例エバ、ステンレス・ス
チール製可動式エレファント管202の内部側壁の基板
前部にわたって所望のパージを行うように配置されてい
る。
さらに、他の全ての番号のパージ・インジェクタ管21
0a乃至210nも同システムに組み込むことも可能で
ある。パージ・インジェクタ管210a乃至210nは
、上記説明した位置以外の内部側壁上の位置に配設可能
であり、またともにマニホールド化が可能である。
第14図は第12図の14−14線による可動カンチレ
バー式バー、ジ・システム201の断面端面図である。
但し、同図の全符号は上記した構成要素のものに対応し
ている。長さ方向のシャフト支持体240.242はエ
レファント管キャリヤ245の取付板254から垂直に
延びてステンレス・スチール製可動式エレファント管2
02を支承する。ステンレス・スチール製可動式エレフ
ァント管202を有するエレファント管キャリヤ245
は複数のベアリング・ブロック244a乃至244n上
をトラバースするとともにステンレス・スチール製シャ
フト224.226に沿ってトラバースする。ステンレ
ス・スチール製シャフト224.226はシャフト支持
体240.242の最上部に沿って支承される。
第15図乃至第18図には、ウェハ加工用ファーネスに
関連した可動カンチレバー式パージ・システムの動作モ
ードが最もよく示されている。
第15図はウェハ加工用ファーネス288に隣接し且つ
ウェハ・ローディング位置における一部断面で示された
可動カンチレバー式パージ・システム201を示してい
る。同図の全符号は、先に述べた構成要素のものと対応
している。
パドルのウェハ・ロードゾーン208al;!、パドル
の中間点からパドル支持軸208の一端部に延在する加
工準備中のウェハ・ボート290a乃至290nは、ウ
ェハ・ロードゾーン208a上にある複数の基板若しく
はウェハ292a乃至292nを有し加工前の状態を示
している。エレファント管キャリヤ245上のステンレ
ス・スチール可動式エレファント管202および可動カ
ンチレバー式パドル・クランプ移動体220は、ステン
レス・スチール製シャフト224.226上の右側に配
置されている。ウェハ加工用ファーネス288は、スキ
ャベンジャ面294、前記スキャベンジャ面294に形
成されたスキャベンジャ・ホール296、加工管228
およびフランジ274の中心におかれた加工管オリフィ
ス298を備えている。ウェハ加工用ファーネス288
内に形成されたスキャベンジャ壁300は、ウェハ加工
用ファーネス288内の加工エリア304とスキャベン
ジャ・エリア302とを分離する。以後、フランジ27
4における加工管228に対してシールを行うべく、ス
キャベンジャ・ホール296のi!径ハ、ステンレス・
スチール製フレキシブル・ベローズ252およびこれに
対応した周辺構成要素がスキャベンジャ・ホール296
を通過するように加工管298の直径より大きく取っで
ある。
第16図は、ウェハ・パージ位置rAJを示しており、
同図中の全符号は先に述べた構成要素のものと対応して
いる。エレファント管キャリヤ245上にあるステンレ
ス・スチール製可動式エレファント管202に加えて当
該エレファント管キャリヤ245は、ステンレス・スチ
ール製シャフト224.226に沿って且つウェハ・ボ
ート290a乃至290nおよび複数のウェハ292a
乃至292nを含むウニ/’i・ロードゾーン208a
にわたって左方向にスライドして位置決めされ、またウ
ェハ・ボート290a乃至290nおよびウェハ292
a乃至292nがウェハ加工用ファーネス288内に入
るための姿勢に保たれる。
第17図は、ウェハ・パージ位置「B」を示しており、
同図の全符号は、先に述べた構成要素のものと対応して
いる。ウェハ・ボート290a乃至290nの回りのス
テンレス・スチール製可動式エレファント管202を含
むエレファント管キャリヤ245、ウェハ292a乃至
292nおよび可動カンチレバー式パドル・クランプ移
動体220は、ステンレス・、スチール製フレキシブル
・ベローズ252の環状フランジ266が加工管228
の端部においてフランジ274に係合し且つ前記フラン
ジ274に対してシールヲ行ウマで、ステンレス・スチ
ール製シャフト224.226に沿って左にスライドす
ると同時に位置決めされる。炭化珪素製パドル支持軸2
08が第12図に示されるように左方向に移動してパド
ル・ホール218を通過すると、エレファント管キャリ
ヤ245およびこれに関連した構成要素は静止状態とな
る。クロージヤー・ドア230と複数のウェハ292a
乃至292nを載せたウェハ・ボート290a乃至29
0nを含むパドル支持軸208とを備えた可動カンチレ
バー式パドル・クランプ移動体220は、左方向に位置
決め動作を継続して行いステンレス・スチール製可動式
エレファント管202の内部の相対位置からウェハ・ボ
ート290a乃至290nおよびウェハ292a乃至2
92nを位置決めし、第18図に示されるように加工管
228のフラットゾーン若しくはホットゾーンに入る。
第18図の加工位置に到達するとガスバージが終わる。
第18図は管の端部206と係合し前記端部で圧力気密
シール若しくは真空気密シールを行い、これによりパド
ル・ホール218のエリアにおける周囲大気からステン
レス・スチール製可動式エレファント管202の内部を
シールするクロージヤー・ドア230およびクロージヤ
ー・ドア251による同様なシール装置を示している。
第18図は、ウェハ加工位置を示しており、同図の全符
号は、先に述べた構成要素のものに対応している。図の
ように可動カンチレバー式パドル・クランプ移動体22
0は左に完全に移動して位置決めされ、クロージヤー・
ドア230がステンレス番スチール製可動式エレファン
ト管202に対してシールを行うとともにパドル支持軸
208が左に完全に移動して位置決めされ、これにより
ウェハ加工用ファーネス288の中間部においてパドル
支持軸208上のウェハ・ボート290a乃至290n
および複数のウェハ292a乃至292nが位置決めさ
れることになる。
加工管228内においてウェハ292a乃至292nの
加工処理後、ウェハ・ロードゾーン208aおよびステ
ンレス・スチール製可動式エレファント管202は、平
行に配置されたステンレス・スチール製シャフト224
.226に沿うエレファント管キャリヤ245および可
動カンチレバー式パドル・クランプ移動体220のシー
ケンス運動によって加工管228およびウェハ加工用フ
ァーネス288から逆の順で取り出される。
第19図は、支持フレームに関するLP−CVD法用の
カンチレバー式基板/ウェハ・パージ・ローディングシ
ステムの斜視図を示しており、同図で使用する全符号は
先に述べた構成要素のものと対応している。対向する二
つのフレーム部材およびこれに関連する構造体は対向す
る両レールを支承する。外側で対向する任意の二本のレ
ールはエレファント管キャリヤ用の別の移動支持体をな
す。電子マイクロプロセッサに基づく制御部が前記フレ
ームに固定されたハウジング内に収容されている。
本発明の範囲を逸脱することなしに本発明に対して種々
変更態様が可能であることは明らかである。
本発明の装置は、基板若しくは半導体を加工するための
考えられる全ての方法にも適用することが可能であると
ともに必ずしもLP・CVD法に限定されない。このL
P−CVD法は、単に説明する上で使用されているだけ
で、本発明の装置によって実行し得る方法としてだけと
解釈されるべきではない。構成要素(部品)の配列の典
型的なものが教示されているが、この構成要素は本発明
の教示に従って、組立可能であり、特にエレファント管
およびドア・ベローズ構造体に関して言えるものである
。ドア・ベローズ構造体は、他種のパドル若しくは他種
のパドル・クランプ移動体を使用可能であり、各図にお
いて示されたタイプのパドルおよびパドル・クランプ移
動体に限定されるものではない。
エレファント管は、開示されているようにステンレス・
スチールより寧ろ石英材で構成可能である。材料の加工
および状態によって、例えば、高度の科学技術による新
素材で求め得るところによる石英若しくはステンレス・
スチールの外に他の材料もまた利用可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の可動カンチレバー式パージ・システム
の側面図、 第2図は第1図の2−2線による前記パージ・システム
の断面端面図、 第3図は第1図の3−3線による前記パージ・システム
の断面端面図、 第4図は可動式エレファント管の縦断面図、第5図は可
動式エレファント管の端面図、第6図は部分断面で示し
た可動カンチレバー式パージ・システムのウェハ・ロー
ド位置の動作モードを説明する図、 第7図はウェハ・パージ位置の動作モードの説明図、 第8図はウェハ加工位置の動作モードの説明図、 第9図は可動カンチレバー式パドル・クランプ移動体の
斜視図、 第10図は可動カンチレバー式パドル・クランプ移動体
の端面図、 第11図は可動カンチレバー式パドル・クランブ移動体
の断面図、 第12図は他の実施例による斜視図が第19図に示され
た可動カンチレバー式パージ・システムの側面図、 第13図は第12図の13−13線による可動カンチレ
バー式パージ・システムの断面端面図、 第14図は第12図の14−14線による可動カンチレ
バー式パージ・システムの断面端面図、 第15図は前記他の実施例による部分断面で示した可動
カンチレバー式パージ・システムのウェハ・ロード位置
の動作モードを説明する図、第16図は前記他の実施例
によるウェハ・パージ位置「A」における動作モードの
説明図、第17図は前記他の実施例によるウェハ・パー
ジ位置「B」における動作モードの説明図、第18図は
前記他の実施例によるウェハ加工位置における動作モー
ドの説明図、 第19図は第12図の他の実施例の斜視図である。 0・・・可動カンチレバー式パージ・ 2!・・可動式石英エレファント管 訃・・炭化珪素製パドル支持軸 0・・・コネクタ・エルボ 8・・・シール・ドア 0・・・パドル・クランプ移動体 20・・・ウェハ加工用ファーネス システム

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レール手段上を移動するための手段と、移動手段
    に固定され且つパドルのハンドルを収容するために後端
    部にホールを形成したステンレス・スチール製エレファ
    ント管とを備えたエレファント管用移動体と、前記エレ
    ファント管の中間部に一端において固定されたドア・ベ
    ローズ手段とからなることを特徴とする基板加工装置。
  2. (2)フレーム手段および前記フレーム手段上に支持さ
    れた対向レール手段と、前記レール手段上を移動するた
    めの手段および少なくとも基板キャリヤを支えるための
    カンチレバー型パドルを有するパドル移動体と、前記パ
    ドル移動体の前端に固定されたドア・ベローズ手段と、
    前記レール手段上を移動するための手段と、前記移動手
    段に固定され且つ前記パドルのハンドルを収容するため
    に後端部にホールを形成したステンレス・スチール製エ
    レファント管とを有するエレファント管用移動体と、前
    記エレファント管の中間部に一端において固定されたド
    ア・ベローズ手段とからなることを特徴とする基板加工
    装置。
  3. (3)請求項1記載の装置において、前記パドル移動体
    用の前記ドア・ベローズ手段は、Oリングを備えた前部
    シールプレートを有していることを特徴とする基板加工
    装置。
  4. (4)請求項2記載の装置において、前記パドル移動体
    用の前記ドア・ベローズ手段は、少なくとも一個の調整
    可能なベローズ・ストップを有していることを特徴とす
    る基板加工装置。
  5. (5)請求項3記載の装置において、前記パドル移動体
    用の前記ドア・ベローズ手段は、後部シールプレートを
    有していることを特徴とする基板加工装置。
  6. (6)請求項1記載の装置において、前記エレファント
    管用の前記ドア・ベローズ手段は前記プレートを備えて
    いることを特徴とする基板加工装置。
  7. (7)請求項4記載の装置において、前記パドル移動体
    用の前記ドア・ベローズ手段は、前記後部シールプレー
    トから前記前部シールプレートの前方へ僅かに移動した
    位置に結合された管を備えていることを特徴とする基板
    加工装置。
  8. (8)請求項6記載の装置において、少なくとも一個の
    調整可能なベローズ・ストップを備えていることを特徴
    とする基板加工装置。
  9. (9)請求項1記載の装置において、ガス導入用リング
    を備えていることを特徴とする基板加工装置。
  10. (10)請求項1記載の装置において、パージ・ニップ
    ルを備えていることを特徴とする基板加工装置。
  11. (11)請求項1記載の装置において、前記パージ・ニ
    ップルに結合された前記エレファント管に対し内部に設
    けられた少なくとも一個のインジェクタ管を備えている
    ことを特徴とする基板加工装置。
  12. (12)請求項1記載の装置において、モニタ用ボート
    ・ニップルを備えていることを特徴とする基板加工装置
  13. (13)請求項2記載の装置において、前記装置はLP
    ・CVD法に好適であることを特徴とする基板加工装置
  14. (14)半導体加工管および基板加工装置の組合体であ
    って、気体雰囲気において複数の基板またはウェハを加
    工するための半導体加工管手段と、フレーム手段および
    前記フレーム手段上に支持された対向レール手段と、前
    記レール手段上を移動するための手段および少なくとも
    基板キャリヤを支えるためのカンチレバー型パドルを有
    するパドル移動体と、前記パドル移動体の前端に固定さ
    れたドア・ベローズ手段と、前記レール手段上を移動す
    るための手段と、前記移動手段に固定され且つ前記パド
    ルのハンドルを収容するために後端部にホールを形成し
    たステンレス・スチール製エレファント管とを有するエ
    レファント管用移動体および前記エレファント間の中間
    部に一端において固定されたドア・ベローズ手段とを備
    えている基板加工装置とからなることを特徴とする組合
    体。
  15. (15)請求項14記載の組合体において、前記装置は
    LP・CVD法に好適であることを特徴とする組合体。
  16. (16)基板ローディング位置においてパドル手段上の
    複数の基板をローディングする工程と、基板ローディン
    グ位置から基板パージング位置へ前記基板を位置決めす
    る工程と、エレファント管の中間部においてドア・ベロ
    ーズ手段を備えた前記エレファント管で前記パドル手段
    および前記基板を包囲する工程と、加工管と圧力気密シ
    ール若しくは真空気密シールを提供する前記加工管の一
    端部に係合する前記ドア・ベローズ手段とに達する前記
    エレファント管の一部で加工用ファーネス中の前記加工
    管内における前記基板を加工する工程と、逆の順序で前
    記各工程を繰り返す工程とからなることを特徴とする半
    導体用ファーネス中のCVD加工管内における基板加工
    方法。
  17. (17)請求項16記載の方法において、前記パドル手
    段は前記エレファント間の端部を通って移動することを
    特徴とする基板加工方法。
  18. (18)請求項17記載の方法において、前記パドル手
    段を中心とした第2のドア・ベローズ手段は、前記エレ
    ファント管の前記端部に係合することを特徴とする基板
    加工方法。
  19. (19)請求項16記載の方法において、前記エレファ
    ント管はステンレス・スチールであることを特徴とする
    基板加工方法。
  20. (20)請求項16記載の方法において、前記エレファ
    ント管は石英であることを特徴とする基板加工方法。
  21. (21)請求項16記載の方法において、LP・CVD
    法に好適であることを特徴とする基板加工方法。
JP2131116A 1989-05-22 1990-05-21 基板加工装置、その組合体および基板加工方法 Pending JPH0310078A (ja)

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