JPH03100882A - 外観検査による欠陥検査方法 - Google Patents
外観検査による欠陥検査方法Info
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- JPH03100882A JPH03100882A JP1239080A JP23908089A JPH03100882A JP H03100882 A JPH03100882 A JP H03100882A JP 1239080 A JP1239080 A JP 1239080A JP 23908089 A JP23908089 A JP 23908089A JP H03100882 A JPH03100882 A JP H03100882A
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- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 title claims description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
ｒ産業上の利用分野】
本発明は、被検査領域を含む領域を撮像した画像に基づ
いて被検査領域の面積を求め、この面積が所定範囲内で
あるときに良品と判定する外観検査による欠陥検査方法
に関するものである。
いて被検査領域の面積を求め、この面積が所定範囲内で
あるときに良品と判定する外観検査による欠陥検査方法
に関するものである。
従来より、被検査領域の面積を求める方法として、被検
査領域を含む空間領域をＴＶカメラ等の画像入力手段で
撮像し、画像入力手段の出力である原画像内に被検査領
域を囲むような適宜形状の判定領域を設定し、この判定
領域内について設定された固定または浮動のしきい値を
用いて判定領域内の画素の濃度を２値化することにより
、検査領域内を被検査領域内と被検査領域外に区分した
後、被検査領域の面積を求める方法が知られている（た
とえば、特開昭６３−４４２８２号公報参照）。
査領域を含む空間領域をＴＶカメラ等の画像入力手段で
撮像し、画像入力手段の出力である原画像内に被検査領
域を囲むような適宜形状の判定領域を設定し、この判定
領域内について設定された固定または浮動のしきい値を
用いて判定領域内の画素の濃度を２値化することにより
、検査領域内を被検査領域内と被検査領域外に区分した
後、被検査領域の面積を求める方法が知られている（た
とえば、特開昭６３−４４２８２号公報参照）。
上記従来方法では、上記しきい値に対して被検査領域と
同じ範囲に属する濃度を有した部位が被検査領域に近接
して存在しているような場合に、上記判定領域がそれら
の部位にかかると、被検査領域の面積を正確に求めるこ
とができなくなる。 したがって、判定領域の位置が十分に正確に設定されて
いないと欠陥の検出精度が低下するという問題があった
。 本発明は上記問題点の解決を目的とするものであり、被
検査領域に対して判定領域を設定する必要がないにもか
かわらず面積を正確に求めることができ、欠陥の検出精
度が高い外観検査による欠陥検査方法を提供しようとす
るものである。
同じ範囲に属する濃度を有した部位が被検査領域に近接
して存在しているような場合に、上記判定領域がそれら
の部位にかかると、被検査領域の面積を正確に求めるこ
とができなくなる。 したがって、判定領域の位置が十分に正確に設定されて
いないと欠陥の検出精度が低下するという問題があった
。 本発明は上記問題点の解決を目的とするものであり、被
検査領域に対して判定領域を設定する必要がないにもか
かわらず面積を正確に求めることができ、欠陥の検出精
度が高い外観検査による欠陥検査方法を提供しようとす
るものである。
本発明では、上記目的を達成するために、画像入力手段
により被検査領域を含む空間領域を撮像した後、画像入
力手段により得られた原画像の各画素の濃度に基づいて
被検査領域の面積を求め、求めた面積が所定範囲内であ
るときに良品と判定する外観検査による欠陥検査方法に
おいて、被検査領域の内側とみなせる部位に複数個の探
索開始点を設定し、各探索開始点に隣接した各画素の濃
度と所定のしきい値との大小関係に基づいて被検査領域
内の画素と被検査領域外の画素とを識別して被検査領域
内と判定された画素にフラグを設定した後、フラグが設
定された画素を次の探索開始点とし、探索開始点に隣接
した画素についてフラグが設定されていないすべての画
素が被検査領域外と判定され、かつ、他に探索開始点が
残っていなければ、フラグが設定された画素の総数を被
検査領域の面積とするのである。
により被検査領域を含む空間領域を撮像した後、画像入
力手段により得られた原画像の各画素の濃度に基づいて
被検査領域の面積を求め、求めた面積が所定範囲内であ
るときに良品と判定する外観検査による欠陥検査方法に
おいて、被検査領域の内側とみなせる部位に複数個の探
索開始点を設定し、各探索開始点に隣接した各画素の濃
度と所定のしきい値との大小関係に基づいて被検査領域
内の画素と被検査領域外の画素とを識別して被検査領域
内と判定された画素にフラグを設定した後、フラグが設
定された画素を次の探索開始点とし、探索開始点に隣接
した画素についてフラグが設定されていないすべての画
素が被検査領域外と判定され、かつ、他に探索開始点が
残っていなければ、フラグが設定された画素の総数を被
検査領域の面積とするのである。
上記方法によれば、被検査領域の内側とみなせる部位に
複数個の探索開始点を設定し、各探索開始点に隣接した
各画素の濃度と所定のしきい値との大小関係に基づいて
被検査領域内の画素と被検査領域外の画素とを識別して
被検査領域内と判定された画素にフラグを設定した後、
フラグが設定された画素を次の探索開始点とし、探索開
始点に隣接した画素についてフラグが設定されていない
すべての画素が被検査領域外と判定され、かつ、他に探
索開始点が残っていなければ、フラグが設定された画素
の総数を被検査領域の面積とするので、被検査領域にほ
ぼ近似した領域内に設定された複数個の探索開始点を種
にして探索開始点の周囲にフラグが設定された画素の集
団を形成し、フラグが設定された画素が被検査領域を埋
め尽くした後に、その画素数により被検査領域の面積を
求めるのであって、被検査領域の外側に判定領域を設定
することなく、正確な面積測定が行えるのである。その
結果、被検査領域の良否判定が精度よく行えることにな
る。
複数個の探索開始点を設定し、各探索開始点に隣接した
各画素の濃度と所定のしきい値との大小関係に基づいて
被検査領域内の画素と被検査領域外の画素とを識別して
被検査領域内と判定された画素にフラグを設定した後、
フラグが設定された画素を次の探索開始点とし、探索開
始点に隣接した画素についてフラグが設定されていない
すべての画素が被検査領域外と判定され、かつ、他に探
索開始点が残っていなければ、フラグが設定された画素
の総数を被検査領域の面積とするので、被検査領域にほ
ぼ近似した領域内に設定された複数個の探索開始点を種
にして探索開始点の周囲にフラグが設定された画素の集
団を形成し、フラグが設定された画素が被検査領域を埋
め尽くした後に、その画素数により被検査領域の面積を
求めるのであって、被検査領域の外側に判定領域を設定
することなく、正確な面積測定が行えるのである。その
結果、被検査領域の良否判定が精度よく行えることにな
る。
本発明では、第１図に示すように、被検査物をＴＶカメ
ラ等の画像入力装置１により撮像し、各画素の濃度をア
ナログ−ディジタル変換部２においてディジタル信号に
変換した後、アナログ−ディジタル変換部２の出力とし
て得られる原画像に基づいて被検査物の輪郭線を抽出す
る。原画像は原画像メモリ３に記憶され、演算処理部４
により以下に説明する所定の処理が行われる。 すなわち、第２図に示すように、所定の位置に配置した
光源りにより被検査物Ｏを照射し、画像入力袋Ｗ１１に
より被検査物０を含む空間領域を撮像する１画像入力装
置１の出力として得られた原画像は、第３図に示すよう
な濃淡画像であって、異なる濃度を有する領域が形成さ
れている。第３図におけるもっとも外側の四角は、被検
査物０の輪郭であって、被検査物Ｏの中に示した丸、三
角、四角は、それぞれ濃度の異なる部位を示している。 ここに、被検査物Ｏの外形や寸法は既知であり、また、
被検査物０の画面上でのおおよその位置も既知であると
する。三角形の領域は、着目している被検査領域Ｍであ
り、おおよその位置や形状は既知であって、第４図に示
すように、はぼ被検査領域Ｍの中であると考えられる部
位に、複数個の探索開始点Ｐ ＋ 、 Ｐ ２ 、・・
・・・・、Ｐｏが設定される。各探索開始点Ｐ＋、Ｐ２
．・・・・・・、Ｐｈに対して以下の処理が順次行われ
る。ここでは、被検査領域Ｍは、周囲に比較して画素の
濃度が高い（すなわち、明るい）ものとする、まず、探
索開始点ｐ＋（座標を（Ｘ、。 ｙＪ）とする）について、第５図に示すように、各探索
開始点Ｐ、の近傍の画素の濃度ｆｌ（Ｘ１＋ｈ＋３／Ｊ
０．）が所定のしきい値ＳＬと比較される。ここに、ｎ
、ｍ＝−１，０，１であり、ｎ＝ｏかつｍ＝ｏの場合を
除く、シきい値ＳＬに対して、 ｆ ＋（Ｘ ｔ＋ａ＋３’ Ｊ＋ｊ＞ Ｓ Ｌ 、
−（１）が成立する画素は、被検査領域Ｍの画素であ
るとみなしてフラグを設定し、探索開始点Ｐ２に優先す
る新たな探索開始点とする。すなわち、しきい値ＳＬは
、被検査領域Ｍとそれ以外の領域とを識別するような値
に設定されているのである。また、上述のように、探索
開始点Ｐ１について、近傍（隣接する８個）の画素の濃
度をしきい値ＳＬと比較した後、フラグが設定された画
素について近傍の画素の濃度をしきい値ＳＬと比較する
のである。 ここにおいて、すでにフラグが設定されている画素につ
いては、しきい値ＳＬとの比較はしない。 以上のようにして、フラグが設定された画素を次の探索
開始点として、次々にしきい値ＳＬとの比較を行うよう
にすれば、被検査領域Ｍの中の画素であるとみなされる
画素の集団が形成されることになる。このようにして、
被検査領域Ｍの中の画素の集団が形成される過程で、通
常は、初めに設定した探索開始点Ｐ、、Ｐ！、・・・・
・・ｐｌのいくつかにもフラグが設定される。探索開始
点の近傍の画素の濃度をしきい値ＳＬと比較して、被検
査領域Ｍの中の画素かどうかを識別する処理は、次の２
つの停止条件が成立するまで続けられる。 ■探索開始点の近傍の画素について、（１）の条件が成
立する画素が１つもない。 ■初めに設定されたすべての探索開始点ＰＩ。 Ｐ２＋・・・・・・、Ｐｈに対してフラグが設定されて
いる。 上記処理を行えば、たとえば、第６図に示すように、被
検査領域ＭにごみＤが存在していて、ごみＤに対応する
部位の濃度が周囲よりも小さくなっているものとする。 この場合、被検査領域Ｍにおいて斜線部について上記処
理が行われ、斜線部のすべての画素にフラグが設定され
ると、上述した■の条件が成立する。しかしながら、被
検査領域Ｍのうち、斜線を施していない部位には、初め
に設定された探索開始点が残っており、■の条件が満た
されていないので、上記処理が継続され、その結果、斜
線を施していない部位についてもすべての画素にフラグ
が設定される０以上のようにして、ごみＤに相当する領
域を除いて被検査領域Ｍの中のすべての画素にフラグが
設定されることになる。 以上のようにして、停止条件■■が成立して上記処理が
終了した後、フラグが設定されている画素の総数を求め
れば、ごみＤなどの欠陥を除く被検査領域Ｍの面８ＩＡ
を求めることができるのである。したがって、被検査領
域Ｍの面積Ａについて良品とみなせる範囲（下限値ＳＬ
Ｌ、上限値ＳＬ、）を設定しておき、 ＳＬＬ＜Ａ＜ＳＬエ ・・・（Ｉｔ）が成立す
るときに、良品と判定すればよいのである。また、■の
条件が成立しないときには被検査領域外内に欠陥が存在
すると判定する。 上記実施例では、被検査領域Ｍが周囲よりも明るく、欠
陥は被検査領域Ｍよりも暗いものとしているが、明暗が
逆の場合には被検査領域Ｍや欠陥を判定する際の大小関
係を逆にすればよいのである。また、しきい値ＳＬ、良
品の下限値ＳＬＬ、上限値ＳＬ、は、被検査領域Ｍと周
囲とのコントラストや被検査領域Ｍと欠陥とのコントラ
ストにより適切な値に設定される。
ラ等の画像入力装置１により撮像し、各画素の濃度をア
ナログ−ディジタル変換部２においてディジタル信号に
変換した後、アナログ−ディジタル変換部２の出力とし
て得られる原画像に基づいて被検査物の輪郭線を抽出す
る。原画像は原画像メモリ３に記憶され、演算処理部４
により以下に説明する所定の処理が行われる。 すなわち、第２図に示すように、所定の位置に配置した
光源りにより被検査物Ｏを照射し、画像入力袋Ｗ１１に
より被検査物０を含む空間領域を撮像する１画像入力装
置１の出力として得られた原画像は、第３図に示すよう
な濃淡画像であって、異なる濃度を有する領域が形成さ
れている。第３図におけるもっとも外側の四角は、被検
査物０の輪郭であって、被検査物Ｏの中に示した丸、三
角、四角は、それぞれ濃度の異なる部位を示している。 ここに、被検査物Ｏの外形や寸法は既知であり、また、
被検査物０の画面上でのおおよその位置も既知であると
する。三角形の領域は、着目している被検査領域Ｍであ
り、おおよその位置や形状は既知であって、第４図に示
すように、はぼ被検査領域Ｍの中であると考えられる部
位に、複数個の探索開始点Ｐ ＋ 、 Ｐ ２ 、・・
・・・・、Ｐｏが設定される。各探索開始点Ｐ＋、Ｐ２
．・・・・・・、Ｐｈに対して以下の処理が順次行われ
る。ここでは、被検査領域Ｍは、周囲に比較して画素の
濃度が高い（すなわち、明るい）ものとする、まず、探
索開始点ｐ＋（座標を（Ｘ、。 ｙＪ）とする）について、第５図に示すように、各探索
開始点Ｐ、の近傍の画素の濃度ｆｌ（Ｘ１＋ｈ＋３／Ｊ
０．）が所定のしきい値ＳＬと比較される。ここに、ｎ
、ｍ＝−１，０，１であり、ｎ＝ｏかつｍ＝ｏの場合を
除く、シきい値ＳＬに対して、 ｆ ＋（Ｘ ｔ＋ａ＋３’ Ｊ＋ｊ＞ Ｓ Ｌ 、
−（１）が成立する画素は、被検査領域Ｍの画素であ
るとみなしてフラグを設定し、探索開始点Ｐ２に優先す
る新たな探索開始点とする。すなわち、しきい値ＳＬは
、被検査領域Ｍとそれ以外の領域とを識別するような値
に設定されているのである。また、上述のように、探索
開始点Ｐ１について、近傍（隣接する８個）の画素の濃
度をしきい値ＳＬと比較した後、フラグが設定された画
素について近傍の画素の濃度をしきい値ＳＬと比較する
のである。 ここにおいて、すでにフラグが設定されている画素につ
いては、しきい値ＳＬとの比較はしない。 以上のようにして、フラグが設定された画素を次の探索
開始点として、次々にしきい値ＳＬとの比較を行うよう
にすれば、被検査領域Ｍの中の画素であるとみなされる
画素の集団が形成されることになる。このようにして、
被検査領域Ｍの中の画素の集団が形成される過程で、通
常は、初めに設定した探索開始点Ｐ、、Ｐ！、・・・・
・・ｐｌのいくつかにもフラグが設定される。探索開始
点の近傍の画素の濃度をしきい値ＳＬと比較して、被検
査領域Ｍの中の画素かどうかを識別する処理は、次の２
つの停止条件が成立するまで続けられる。 ■探索開始点の近傍の画素について、（１）の条件が成
立する画素が１つもない。 ■初めに設定されたすべての探索開始点ＰＩ。 Ｐ２＋・・・・・・、Ｐｈに対してフラグが設定されて
いる。 上記処理を行えば、たとえば、第６図に示すように、被
検査領域ＭにごみＤが存在していて、ごみＤに対応する
部位の濃度が周囲よりも小さくなっているものとする。 この場合、被検査領域Ｍにおいて斜線部について上記処
理が行われ、斜線部のすべての画素にフラグが設定され
ると、上述した■の条件が成立する。しかしながら、被
検査領域Ｍのうち、斜線を施していない部位には、初め
に設定された探索開始点が残っており、■の条件が満た
されていないので、上記処理が継続され、その結果、斜
線を施していない部位についてもすべての画素にフラグ
が設定される０以上のようにして、ごみＤに相当する領
域を除いて被検査領域Ｍの中のすべての画素にフラグが
設定されることになる。 以上のようにして、停止条件■■が成立して上記処理が
終了した後、フラグが設定されている画素の総数を求め
れば、ごみＤなどの欠陥を除く被検査領域Ｍの面８ＩＡ
を求めることができるのである。したがって、被検査領
域Ｍの面積Ａについて良品とみなせる範囲（下限値ＳＬ
Ｌ、上限値ＳＬ、）を設定しておき、 ＳＬＬ＜Ａ＜ＳＬエ ・・・（Ｉｔ）が成立す
るときに、良品と判定すればよいのである。また、■の
条件が成立しないときには被検査領域外内に欠陥が存在
すると判定する。 上記実施例では、被検査領域Ｍが周囲よりも明るく、欠
陥は被検査領域Ｍよりも暗いものとしているが、明暗が
逆の場合には被検査領域Ｍや欠陥を判定する際の大小関
係を逆にすればよいのである。また、しきい値ＳＬ、良
品の下限値ＳＬＬ、上限値ＳＬ、は、被検査領域Ｍと周
囲とのコントラストや被検査領域Ｍと欠陥とのコントラ
ストにより適切な値に設定される。
本発明は上述のように、被検査領域の内側とみなせる部
位に複数個の探索開始点を設定し、各探索開始点に隣接
した各画素の濃度と所定のしきい値との大小関係に基づ
いて被検査領域内の画素と被検査領域外の画素とを識別
して被検査領域内と判定された画素にフラグを設定した
後、フラグが設定された画素を次の探索開始点とし、探
索開始点に隣接した画素についてフラグが設定されてい
ないすべての画素が被検査領域外と判定され、かつ、他
に探索開始点が残っていなければ、フラグが設定された
画素の総数を被検査領域の面積とするので、被検査領域
にほぼ近似した領域内に設定された複数個の探索開始点
を種にして探索開始点の周囲にフラグが設定された画素
の集団を形成し、フラグが設定された画素が被検査領域
を埋め尽くした後に、その画素数により被検査領域の面
積を求めるのであって、被検査領域の外側に判定領域を
設定することなく、正確な面積測定が行えるのである。 その結果、被検査領域の良否判定が精度よく行えるとい
う利点を有するのである。
位に複数個の探索開始点を設定し、各探索開始点に隣接
した各画素の濃度と所定のしきい値との大小関係に基づ
いて被検査領域内の画素と被検査領域外の画素とを識別
して被検査領域内と判定された画素にフラグを設定した
後、フラグが設定された画素を次の探索開始点とし、探
索開始点に隣接した画素についてフラグが設定されてい
ないすべての画素が被検査領域外と判定され、かつ、他
に探索開始点が残っていなければ、フラグが設定された
画素の総数を被検査領域の面積とするので、被検査領域
にほぼ近似した領域内に設定された複数個の探索開始点
を種にして探索開始点の周囲にフラグが設定された画素
の集団を形成し、フラグが設定された画素が被検査領域
を埋め尽くした後に、その画素数により被検査領域の面
積を求めるのであって、被検査領域の外側に判定領域を
設定することなく、正確な面積測定が行えるのである。 その結果、被検査領域の良否判定が精度よく行えるとい
う利点を有するのである。
第１図は本発明の実施例の方法に対応する処理回路のブ
ロック図、第２図は同上における被検査物と画像入力装
置との配置関係を示す斜視図、第３図は同上における原
画像の一例を示す動作説明図、第４図は同上における被
検査領域と探索開始点との関係を示す動作説明図、第５
図は同上における探索開始点の近傍を示す動作説明図、
第６図は同上において被検査領域内にごみが存在する場
合の動作説明図である。 １は画像入力装置、Ｍは被検査領域、０は被検査物１ 、Ｐ２．・・・・・・、Ｐｏは探索開始点。
ロック図、第２図は同上における被検査物と画像入力装
置との配置関係を示す斜視図、第３図は同上における原
画像の一例を示す動作説明図、第４図は同上における被
検査領域と探索開始点との関係を示す動作説明図、第５
図は同上における探索開始点の近傍を示す動作説明図、
第６図は同上において被検査領域内にごみが存在する場
合の動作説明図である。 １は画像入力装置、Ｍは被検査領域、０は被検査物１ 、Ｐ２．・・・・・・、Ｐｏは探索開始点。
Claims (1)
- （１）画像入力手段により被検査領域を含む空間領域を
撮像した後、画像入力手段により得られた原画像の各画
素の濃度に基づいて被検査領域の面積を求め、求めた面
積が所定範囲内であるときに良品と判定する外観検査に
よる欠陥検査方法において、被検査領域の内側とみなせ
る部位に複数個の探索開始点を設定し、各探索開始点に
隣接した各画素の濃度と所定のしきい値との大小関係に
基づいて被検査領域内の画素と被検査領域外の画素とを
識別して被検査領域内と判定された画素にフラグを設定
した後、フラグが設定された画素を次の探索開始点とし
、探索開始点に隣接した画素についてフラグが設定され
ていないすべての画素が被検査領域外と判定され、かつ
、他に探索開始点が残っていなければ、フラグが設定さ
れた画素の総数を被検査領域の面積とすることを特徴と
する外観検査による欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1239080A JPH0727569B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 外観検査による欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1239080A JPH0727569B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 外観検査による欠陥検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100882A true JPH03100882A (ja) | 1991-04-25 |
| JPH0727569B2 JPH0727569B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=17039536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1239080A Expired - Lifetime JPH0727569B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 外観検査による欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727569B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007318564A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Canon Inc | 画像処理方法および画像処理装置 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1239080A patent/JPH0727569B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007318564A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Canon Inc | 画像処理方法および画像処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0727569B2 (ja) | 1995-03-29 |
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