JPH048833B2 - - Google Patents
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- JPH048833B2 JPH048833B2 JP59248908A JP24890884A JPH048833B2 JP H048833 B2 JPH048833 B2 JP H048833B2 JP 59248908 A JP59248908 A JP 59248908A JP 24890884 A JP24890884 A JP 24890884A JP H048833 B2 JPH048833 B2 JP H048833B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、被検査物体の表面の色欠陥および表
面に発生する凹凸、異物混入、傷またはひび割れ
などの形状欠陥を検査する画像処理方法に関す
る。
面に発生する凹凸、異物混入、傷またはひび割れ
などの形状欠陥を検査する画像処理方法に関す
る。
背景技術
従来からの画像処理装置では、被検査物体をテ
レビカメラで撮像し、テレビカメラからの画像信
号を２値化処理する。そして２値化された画像デ
ータを画像メモリにストアし、その画像データを
演算処理して被検査物体の色欠陥や形状欠陥を検
出している。
レビカメラで撮像し、テレビカメラからの画像信
号を２値化処理する。そして２値化された画像デ
ータを画像メモリにストアし、その画像データを
演算処理して被検査物体の色欠陥や形状欠陥を検
出している。
前述のような２値化処理では、画像データの情
報量が少ないため、処理過程において混入した電
気的ノイズの影響を受けたり、テレビカメラが受
光する光量の変動によつて、正確なデータを得る
ことができない問題があつた。
報量が少ないため、処理過程において混入した電
気的ノイズの影響を受けたり、テレビカメラが受
光する光量の変動によつて、正確なデータを得る
ことができない問題があつた。
目 的
本発明の目的は、ノイズに強く高精度で被検査
物体の表面の欠陥を検出することができる画像処
理方法を提供することである。
物体の表面の欠陥を検出することができる画像処
理方法を提供することである。
実施例
第１図は、本発明の一実施例の画像処理装置１
のブロツク図であり、第２図は画像処理装置１の
動作を説明するための図である。画像処理装置１
は、被検査物体２の表面の色むらなどによる色欠
陥やその表面に発生する凹凸、異物混入、傷また
はひび割れなどの形状欠陥を検査する装置であ
る。光源３は、被検査物体２の表面が正反射しな
い角度で配置され、ななめ方向から被検査物体２
を照明する。工業用テレビカメラ４は、被検査物
体２からの光を撮像する。工業用テレビカメラ４
からのアナログの画像データは、映像処理回路５
内のアナログ／デジタル変換器６に与えられてデ
ジタルの画像データに変換され、フレームメモリ
Ｆ２にストアされる。フレームメモリＦ２は、１
画素につき８ビツトの容量を有しているため第２
図１で示す被検査物体２の画像が、たとえば256
段階の濃淡画像としてストアされる。
のブロツク図であり、第２図は画像処理装置１の
動作を説明するための図である。画像処理装置１
は、被検査物体２の表面の色むらなどによる色欠
陥やその表面に発生する凹凸、異物混入、傷また
はひび割れなどの形状欠陥を検査する装置であ
る。光源３は、被検査物体２の表面が正反射しな
い角度で配置され、ななめ方向から被検査物体２
を照明する。工業用テレビカメラ４は、被検査物
体２からの光を撮像する。工業用テレビカメラ４
からのアナログの画像データは、映像処理回路５
内のアナログ／デジタル変換器６に与えられてデ
ジタルの画像データに変換され、フレームメモリ
Ｆ２にストアされる。フレームメモリＦ２は、１
画素につき８ビツトの容量を有しているため第２
図１で示す被検査物体２の画像が、たとえば256
段階の濃淡画像としてストアされる。
アナログ／デジタル変換器６から出力されたデ
ジタルの画像データは、また微分回路７に与えら
れる。微分回路７では入力された被検査物体２の
濃淡画像の方向微分により画像中のエツジを抽出
する。濃淡画像からエツジを抽出するには画像中
の濃度の変化を取り出せばよいので一般に微分法
が用いられ、この微分回路７によつて画像のエツ
ジの濃淡差に対応したエツジ値とそのエツジの延
びる方向が求められる。微分回路７から出力され
るエツジ方向を示すデータはコード化され、方向
コードメモリ８にストアされる。微分回路７から
出力されるエツジが連続したエツジ線は、第２図
２のように幅広いため細線化処理回路９で第２図
３のように幅１画素の線に細められる。さらに細
線化されたエツジ線は、しきい値処理回路１０で
そのエツジ値と予め定められたしきい値と比較し
て、しきい値以下のエツジ値を有する画素の消去
が行なわれる。この処理によつて、画素処理過程
で混入する電気的ノイズによる画像データの除去
が行なわれる。
ジタルの画像データは、また微分回路７に与えら
れる。微分回路７では入力された被検査物体２の
濃淡画像の方向微分により画像中のエツジを抽出
する。濃淡画像からエツジを抽出するには画像中
の濃度の変化を取り出せばよいので一般に微分法
が用いられ、この微分回路７によつて画像のエツ
ジの濃淡差に対応したエツジ値とそのエツジの延
びる方向が求められる。微分回路７から出力され
るエツジ方向を示すデータはコード化され、方向
コードメモリ８にストアされる。微分回路７から
出力されるエツジが連続したエツジ線は、第２図
２のように幅広いため細線化処理回路９で第２図
３のように幅１画素の線に細められる。さらに細
線化されたエツジ線は、しきい値処理回路１０で
そのエツジ値と予め定められたしきい値と比較し
て、しきい値以下のエツジ値を有する画素の消去
が行なわれる。この処理によつて、画素処理過程
で混入する電気的ノイズによる画像データの除去
が行なわれる。
しきい値処理回路１０のしきい値が高かつた
り、原画像のコントラストが不十分であつたり、
あるいは電気的ノイズが多いときには、しきい値
処理されたエツジ線は、第２図４のように不連続
となる。これを完全な線画にするために細線延長
化処理回路１１では、不連続となるエツジ線の端
点より始めて、着目する画素とその周囲点との間
で評価関数を計算し、その値の最も大きい周囲点
へとエツジ線を延長して行く。この評価関数は例
えば第１式のように表わせる。
り、原画像のコントラストが不十分であつたり、
あるいは電気的ノイズが多いときには、しきい値
処理されたエツジ線は、第２図４のように不連続
となる。これを完全な線画にするために細線延長
化処理回路１１では、不連続となるエツジ線の端
点より始めて、着目する画素とその周囲点との間
で評価関数を計算し、その値の最も大きい周囲点
へとエツジ線を延長して行く。この評価関数は例
えば第１式のように表わせる。
Hi＝｜ei｜2×cos（∠e0−∠ei） …(1)
但しｉ＝１，２，…，８
ここで｜ei｜は着目する画素の任意の周囲点の
微分値の大きさであり、∠eiはその画素の微分方
向値であり、∠e0は着目する画素の微分方向値で
ある。このように他のエツジ線に交れるまで延長
化処理を行なつたエツジ線は第２図５のように連
続となり、完全な線画としてフレームメモリＦ１
にストアされる。
微分値の大きさであり、∠eiはその画素の微分方
向値であり、∠e0は着目する画素の微分方向値で
ある。このように他のエツジ線に交れるまで延長
化処理を行なつたエツジ線は第２図５のように連
続となり、完全な線画としてフレームメモリＦ１
にストアされる。
フレームメモリＦ１，Ｆ２および方向コードメ
モリ８はデータバス１２に接続されている。処理
回路１３は、データバス１２を介して被検査物体
２の色欠陥および形状欠陥を検出するための処理
を行なう。
モリ８はデータバス１２に接続されている。処理
回路１３は、データバス１２を介して被検査物体
２の色欠陥および形状欠陥を検出するための処理
を行なう。
第３図は前述の方向微分および細線化処理を説
明するための図である。第３図１で示される参照
符Ａ〜Ｉは、任意に抽出された９個の画素の濃度
にそれぞれ対応している。参照符Ｅの水平方向お
よび垂直方向の差分値は、第２式および第３式に
よつて表される。
明するための図である。第３図１で示される参照
符Ａ〜Ｉは、任意に抽出された９個の画素の濃度
にそれぞれ対応している。参照符Ｅの水平方向お
よび垂直方向の差分値は、第２式および第３式に
よつて表される。
△Ｖ＝（Ｇ＋Ｈ＋Ｉ）−（Ａ＋Ｂ＋Ｃ） …(2)
△Ｖ＝（Ａ＋Ｄ＋Ｃ）−（Ｃ＋Ｆ＋Ｉ） …(3)
画素Ｅでの微分値｜ｅ｜Eは第４式で表される。
｜ｅ｜E＝√（△）2＋（△）2 …(4)
また画素Ｅでの方向値∠eEは第５式で表され
る。
る。
∠eE＝tan-1（△Ｖ／△Ｈ）＋π／２ …(5)
このようにして各画素について方向微分を行な
い、微分値によつて示されるエツジが連続したエ
ツジ線は、幅広いため細線化処理を行ない幅１画
素の線に細められる。
い、微分値によつて示されるエツジが連続したエ
ツジ線は、幅広いため細線化処理を行ない幅１画
素の線に細められる。
第３図２は、画素Ａ〜Ｉに対応する分値｜ｅ｜
Ａ〜｜ｅ｜Iを示す図である。｜ｅ｜A〜｜ｅ｜Iは、
各画素の微分値の画素Ｅに着目し、∠eEの方向と
直角方向にある２つの画素の微分値と画素Ｅの微
分値｜ｅ｜Eとを比較し、｜ｅ｜Eがこの両隣の２
つの微分値よりも大きいとき、たとえばπ／４≦
∠eE≦3π／４のとき、｜ｅ｜E＞｜ｅ｜Dかつ｜ｅ
｜E≧｜ｅ｜Fであれば、細線化画像上に対応する
アドレスにフラグを立てる。このようにアナロ
グ／デジタル変換器５からの画像データを逐次的
に走査し、フラグを立ててゆく。これをすべての
画素について行なうことによつて第２図３に示す
細線化画像を得ることができる。
Ａ〜｜ｅ｜Iを示す図である。｜ｅ｜A〜｜ｅ｜Iは、
各画素の微分値の画素Ｅに着目し、∠eEの方向と
直角方向にある２つの画素の微分値と画素Ｅの微
分値｜ｅ｜Eとを比較し、｜ｅ｜Eがこの両隣の２
つの微分値よりも大きいとき、たとえばπ／４≦
∠eE≦3π／４のとき、｜ｅ｜E＞｜ｅ｜Dかつ｜ｅ
｜E≧｜ｅ｜Fであれば、細線化画像上に対応する
アドレスにフラグを立てる。このようにアナロ
グ／デジタル変換器５からの画像データを逐次的
に走査し、フラグを立ててゆく。これをすべての
画素について行なうことによつて第２図３に示す
細線化画像を得ることができる。
第４図および第５図は、エツジフラグのある画
素Ｅのエツジ方向に交差するマスク領域Ｍ，Ｎを
説明するための図である。処理回路１３は、フレ
ームメモリＦ１をラスタスキヤンしてエツジフラ
グの有無を検出し、エツジフラグが検出されると
その画素Ｅのエツジ方向が方向コードメモリ９か
ら読み出され、その方向に対して交差する方向に
左右対称なマスク領域Ｍ，Ｎが設定される。マス
ク領域Ｍは、複数（本実施例では３個）の領域部
分m1〜m3を有し、マスク領域Ｎは領域部分m1〜
m3と同じ数の領域部分n1〜n3を有する。これら
領域部分m1〜m3，n1〜n3は、たとえば３画素×
３画素の大きさであり、画素Ｅを中心として前記
交差する方向にそれぞれ一列に配置される。この
マスク領域Ｍ，Ｎ内のアドレスに対応する各画素
の濃度をフレームメモリＦ２より読み出し、マス
ク領域Ｍ，Ｎ内のそれぞれの平均濃度を算出す
る。ここで平均濃度を用いるのは、平滑化により
画像ノイズを除去するためである。
素Ｅのエツジ方向に交差するマスク領域Ｍ，Ｎを
説明するための図である。処理回路１３は、フレ
ームメモリＦ１をラスタスキヤンしてエツジフラ
グの有無を検出し、エツジフラグが検出されると
その画素Ｅのエツジ方向が方向コードメモリ９か
ら読み出され、その方向に対して交差する方向に
左右対称なマスク領域Ｍ，Ｎが設定される。マス
ク領域Ｍは、複数（本実施例では３個）の領域部
分m1〜m3を有し、マスク領域Ｎは領域部分m1〜
m3と同じ数の領域部分n1〜n3を有する。これら
領域部分m1〜m3，n1〜n3は、たとえば３画素×
３画素の大きさであり、画素Ｅを中心として前記
交差する方向にそれぞれ一列に配置される。この
マスク領域Ｍ，Ｎ内のアドレスに対応する各画素
の濃度をフレームメモリＦ２より読み出し、マス
ク領域Ｍ，Ｎ内のそれぞれの平均濃度を算出す
る。ここで平均濃度を用いるのは、平滑化により
画像ノイズを除去するためである。
次に領域部分m1，n1と領域部分m2，n2と、領
域部分m3，n3の各平均濃度の差または比（≧１）
をそれぞれ算出し、この３組の中の最大値を求め
て予め定められた弁別レベルと比較演算する。た
とえば着目する画素Ｅの平均濃度の差I1および比
I2は、第６式、第７式で示される。
域部分m3，n3の各平均濃度の差または比（≧１）
をそれぞれ算出し、この３組の中の最大値を求め
て予め定められた弁別レベルと比較演算する。た
とえば着目する画素Ｅの平均濃度の差I1および比
I2は、第６式、第７式で示される。
I1＝MAX（｜1−1｜，
｜2−2｜，
3−3｜） …(6)
I2＝MAX（1／1，
2／2，3／3） …(7)
ここで1，2，3，1，2，3はマスク
領域部分m1〜m3，n1〜n3のそれぞれの平均濃度
であり、1≧1，2≧2，3≧3の関係に
ある。いま予め定められた弁別レベルの値をS1、
比をS2とすると、I1≦S1またはI2≦S2のときフレ
ームメモリF1上でそのフラグを消去し、I1＞S1ま
たはI2＞S2のときフレームメモリF1上でそのフラ
グを残す。以下同様の方法でフレームメモリF1
のすべての画素についてフラグ処理を行なうと、
欠陥部の強いエツジのみが最終的に残り、ノイズ
および欠陥部の弱いエツジは消去することができ
る。
領域部分m1〜m3，n1〜n3のそれぞれの平均濃度
であり、1≧1，2≧2，3≧3の関係に
ある。いま予め定められた弁別レベルの値をS1、
比をS2とすると、I1≦S1またはI2≦S2のときフレ
ームメモリF1上でそのフラグを消去し、I1＞S1ま
たはI2＞S2のときフレームメモリF1上でそのフラ
グを残す。以下同様の方法でフレームメモリF1
のすべての画素についてフラグ処理を行なうと、
欠陥部の強いエツジのみが最終的に残り、ノイズ
および欠陥部の弱いエツジは消去することができ
る。
このようにマスク領域Ｍ，Ｎを前記のように各
３組設定することにより、微分方式では第５図に
示すように従来困難であつた比較的なめらかな濃
度差のある欠陥も抽出することが可能である。マ
スク領域Ｍ，Ｎの組数および各マスク領域部分
m1〜m3，n1〜n3間の距離は、対象となる欠陥に
より適切な値を選ぶと良い。またフレームメモリ
Ｆ１上で弱いフラグを消去していくかわりに、別
の１ビツトデータがストア可能なフレームメモリ
に残すフラグのみをストアしていくような構成で
あつてもよい。
３組設定することにより、微分方式では第５図に
示すように従来困難であつた比較的なめらかな濃
度差のある欠陥も抽出することが可能である。マ
スク領域Ｍ，Ｎの組数および各マスク領域部分
m1〜m3，n1〜n3間の距離は、対象となる欠陥に
より適切な値を選ぶと良い。またフレームメモリ
Ｆ１上で弱いフラグを消去していくかわりに、別
の１ビツトデータがストア可能なフレームメモリ
に残すフラグのみをストアしていくような構成で
あつてもよい。
効 果
以上のように本発明によれば、被検査物体の欠
陥部を輪郭線として抽出でき、高精度で欠陥を検
出することができる。また、微分方式では従来困
難であつた比較的なめらかな濃度差のある欠陥も
検出することができる。
陥部を輪郭線として抽出でき、高精度で欠陥を検
出することができる。また、微分方式では従来困
難であつた比較的なめらかな濃度差のある欠陥も
検出することができる。
第１図は本発明の一実施例の画像処理装置１の
ブロツク図、第２図は画像処理装置１の動作を説
明するための図、第３図は方向微分および細線化
処理を示す図、第４図および第５図はエツジフラ
グのある画素のエツジ方向に交差する領域を説明
するための図である。 １……画像処理装置、２……被検査物体、６…
…アナログ／デジタル変換器、７……微分回路、
８……方向コードメモリ、９……細線化処理回
路、１０……しきい値処理回路、１１……細線延
長処理回路、Ｆ１，Ｆ２……フレームメモリ。
ブロツク図、第２図は画像処理装置１の動作を説
明するための図、第３図は方向微分および細線化
処理を示す図、第４図および第５図はエツジフラ
グのある画素のエツジ方向に交差する領域を説明
するための図である。 １……画像処理装置、２……被検査物体、６…
…アナログ／デジタル変換器、７……微分回路、
８……方向コードメモリ、９……細線化処理回
路、１０……しきい値処理回路、１１……細線延
長処理回路、Ｆ１，Ｆ２……フレームメモリ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検査物体を撮像する撮像手段と、前記撮像
手段からのアナログ信号出力をデジタル信号に変
換するアナログ／デジタル変換器と、 アナログ／デジタル変換器からの画像データを
２値化処理によつて撮像画面内の被検査物体の画
像のみを取り出す２値化処理ゲート回路と、 被検査物体の濃淡画像をストアする第１のフレ
ームメモリと、 被検査物体の画像を方向微分し、画像エツジの
濃淡差に対応したエツジ値とそのエツジの延びる
方向を示す値を求める微分回路と、 微分回路によつて求められた前記方向値をコー
ドデータとしてストアする方向コードメモリと、 微分された画像のエツジを細くする細線化処理
回路と、 細線化された画像のエツジ値を予め定められた
しきい値とレベル弁別し、 しきい値以下のエツジ値を有する画素を消去す
るしきい値処理回路と、 しきい値処理されたエツジを延長して連続した
細線にする細線延長化処理回路と、 細線延長化処理された画像をストアする第２の
フレームメモリと、 各メモリにストアされたデータを処理する処理
回路とを含み、 細線延長処理画像のエツジを検出し、エツジが
検出された複数の画素のエツジ方向を前記方向コ
ードメモリから読み出し、前記複数の画素のエツ
ジ方向と交差する方向に延びる左右両側の対称な
予め定めたビツト数を有する領域の濃度差または
濃度比を相互に比較演算し、この比較演算結果を
予め定められた弁別レベルと比較し、前記複数の
画素のうち、前記弁別レベル以上である画素また
は弁別レベル以下である画素を検出することを特
徴とする画像処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59248908A JPS61126437A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 画像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59248908A JPS61126437A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 画像処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61126437A JPS61126437A (ja) | 1986-06-13 |
| JPH048833B2 true JPH048833B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=17185212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59248908A Granted JPS61126437A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 画像処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61126437A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0827841B2 (ja) * | 1988-04-25 | 1996-03-21 | 松下電工株式会社 | 外観検査方法 |
| JPH09304292A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Komatsu Ltd | 欠陥検出装置および方法 |
-
1984
- 1984-11-26 JP JP59248908A patent/JPS61126437A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61126437A (ja) | 1986-06-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |