JPH03103251U - - Google Patents

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JPH03103251U
JPH03103251U JP1243090U JP1243090U JPH03103251U JP H03103251 U JPH03103251 U JP H03103251U JP 1243090 U JP1243090 U JP 1243090U JP 1243090 U JP1243090 U JP 1243090U JP H03103251 U JPH03103251 U JP H03103251U
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JP
Japan
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gas
sample chamber
reaction vessel
reaction
chamber
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JP1243090U
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  • Glanulating (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、本考案の装置における反
応容器の垂直断面図、第3図〜第10図は、本考
案の装置における反応容器内に備わるガス方向変
更板の断面図である。 第1図及び第2図中の、1……反応容器、2…
…ガス導入口、3……ガス方向変更板、4……試
料室、5……第1ガスガス流出口、6……第2ガ
ス流出口、7……ガス排出口、8……ガス反応室
、9……防止板、10……振動機構。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ガス導入手段と加熱手段と減圧手段とガス
    導入口及び排出口付の反応容器とを少なくとも備
    えた気相反応装置において、該反応容器は、試料
    が設置される試料室と、該試料室へガスを流入さ
    せ、かつ該ガス導入口から流入したガスの流れ方
    向を変更させるガス方向変更板とを具備している
    ことを特徴とする高効率気相反応装置。 (2) ガス導入手段と加熱手段と減圧手段とガス
    導入口及び排出口付の反応容器とを少なくとも備
    えた気相反応装置において、該反応容器は、試料
    が設置される試料室と、該試料室へガスを流入さ
    せ、かつ該ガス導入口から流入したガスの流れ方
    向を変更させるガス方向変更板と、該ガス方向変
    更板で変更される前にガスを相互反応させる反応
    室とを具備していることを特徴とする高効率気相
    反応装置。 (3) 上記反応容器は、上記ガス反応室と上記試
    料室とが一体物となつていることを特徴とする実
    用新案登録請求の範囲第2項記載の高効率気相反
    応装置。 (4) 上記反応容器は、上記ガス反応室と上記試
    料室とが一体物となり、かつ該一体物を振動及び
    /又は回転させて振動機構が設けられていること
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第2項記載
    の高効率気相反応装置。 (5) 上記試料室は、該試料室を覆つてなる防止
    板が設けられていることを特徴とする実用新案登
    録請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の高
    効率気相反応装置。
JP1243090U 1990-02-09 1990-02-09 Pending JPH03103251U (ja)

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