JPH03103843A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形威方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形威方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光村料あるいは、画像形或方法が強く望ま
れている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光村料あるいは、画像形或方法が強く望ま
れている。
方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写真の拡
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インキ
が大きく細い点の撮影になる。従って網段調の再現性を
維持するためより一層広いラチヂュードを有する画像形
威方法が要求されている。
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インキ
が大きく細い点の撮影になる。従って網段調の再現性を
維持するためより一層広いラチヂュードを有する画像形
威方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から威る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作業
効率を低下させているのが現状であった。
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から威る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作業
効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形戒システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166,742号、同4,168,977号、同4
,221,857号、同4,224,401号、同4,
243,739号、同4,272,606号、同4,3
11,781号にみられるように、特定のアシルヒドラ
ジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光
利料を、pH11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.
15モル/l以上含み、良好な保存安定性を有する現像
液で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を形
成するシステムが提案された。この新しい画像形成シス
テムには、従来の超硬調画像形或では塩化銀含有率の高
い塩臭化銀した使用できなかったのに対して、沃臭化銀
や塩沃臭化銀でも使用できるとうす特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形戒システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166,742号、同4,168,977号、同4
,221,857号、同4,224,401号、同4,
243,739号、同4,272,606号、同4,3
11,781号にみられるように、特定のアシルヒドラ
ジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光
利料を、pH11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.
15モル/l以上含み、良好な保存安定性を有する現像
液で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を形
成するシステムが提案された。この新しい画像形成シス
テムには、従来の超硬調画像形或では塩化銀含有率の高
い塩臭化銀した使用できなかったのに対して、沃臭化銀
や塩沃臭化銀でも使用できるとうす特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
特開昭61213847号およびUS4,684,60
4に酸化により写真有用基を放出するレドンクス化合物
を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる試みが示
されている。しかしながら、ヒトラジン誘導体を用いた
超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物は硬
調化を阻害する弊害があり、その特性を活すことができ
なかった。
4に酸化により写真有用基を放出するレドンクス化合物
を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる試みが示
されている。しかしながら、ヒトラジン誘導体を用いた
超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物は硬
調化を阻害する弊害があり、その特性を活すことができ
なかった。
(発明の目的)
従って本発明の目的は、第1に安定性の高い現像液を用
いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
第2に網階調の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
(発明の構或)
本発明のこれらの目的は、ヒドラジン誘導体を含む少な
くとも1種の感光性ハロゲン化銀乳剤層と、酸化される
ことにより現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物を
含む前記感光性ハロゲン化銀層とは異なる親水性コロイ
ド層を有し、さらに現像主薬を前記ハロゲン化銀乳剤層
又はその他の親水性コロイド層の少なくとも一層に含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によっ
て達威された。
くとも1種の感光性ハロゲン化銀乳剤層と、酸化される
ことにより現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物を
含む前記感光性ハロゲン化銀層とは異なる親水性コロイ
ド層を有し、さらに現像主薬を前記ハロゲン化銀乳剤層
又はその他の親水性コロイド層の少なくとも一層に含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によっ
て達威された。
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物について説明する。
化合物について説明する。
本発明のレドックス化合物は、レドックス基としてハイ
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフエエノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフエエノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
好ましい前記レドックス化合物はレドックス基としてヒ
ドラジン類を有することを特徴とする。
ドラジン類を有することを特徴とする。
さらに好ましい前記レドックス化合物は下記一般式(1
)で表わされる。
)で表わされる。
一般式(H
AIA2
(式中、At 、A2はともに水素原子又は一方が水素
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは一i式(I)に
おいてA.,A.は水素原子、炭素数20以下のアルキ
ルスルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましく
はフエニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和
が−0. 5以上となるように置換されたフエニルス
ルホニル0 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lはlまたは2を表わす。)を表わす。T
imeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わ
す。PUGは現像抑制剤を表わす。
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは一i式(I)に
おいてA.,A.は水素原子、炭素数20以下のアルキ
ルスルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましく
はフエニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和
が−0. 5以上となるように置換されたフエニルス
ルホニル0 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lはlまたは2を表わす。)を表わす。T
imeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わ
す。PUGは現像抑制剤を表わす。
00
0
11
ルホキシ基、−p(R,はアルコキシ基またはアR,
リールオキシ基を表わす。)イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす。)以下一般式(1)について
説明する。
チオカルボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす。)以下一般式(1)について
説明する。
0
数30以下の直鎖、分岐状または環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基(好ましくはフエニル基、又は
ハメットの奪換基定数の和が一〇.5以上となるように
置換されたフエニル基)、アルコキシ基(例えばエトキ
シ基など)、アリールオヰシ基(好ましくは単環のもの
)なとであり、これらの基は置換基を有していてもよく
置換基としては、例えば以下のものがあげられる。これ
らの基は更に置換されていてもよい。
ルケニル基、アリール基(好ましくはフエニル基、又は
ハメットの奪換基定数の和が一〇.5以上となるように
置換されたフエニル基)、アルコキシ基(例えばエトキ
シ基など)、アリールオヰシ基(好ましくは単環のもの
)なとであり、これらの基は置換基を有していてもよく
置換基としては、例えば以下のものがあげられる。これ
らの基は更に置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアごノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルポンアミド基、スルホンアξド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、AI,A2で表わされるスルフィン酸
残基は具体的には米国特許第4,478,928号に記
載されているものを表わす。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアごノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルポンアミド基、スルホンアξド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、AI,A2で表わされるスルフィン酸
残基は具体的には米国特許第4,478,928号に記
載されているものを表わす。
又、A,は後述の+Time−}t−と連結して環を形
威してもよい。
威してもよい。
A+,Azとしては水素原子が最も好ましい。
T imeは二価の連結基を表わし、タイ藁ング調節機
能を有していても よい。tは0また1を表わし、1=
0の場合はPUGが直接Vに結合していることを意味す
る。
能を有していても よい。tは0また1を表わし、1=
0の場合はPUGが直接Vに結合していることを意味す
る。
T imeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の
酸化体から放出されるTime −PUGからー段階あ
るいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せし
める基を表わす。
酸化体から放出されるTime −PUGからー段階あ
るいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せし
める基を表わす。
T imeで表わされる二価の連結基としては、例えば
米国特許第4、248,962号(特開昭54−145
,135号)等に記載のp−にとるフエノキシ誘導体の
分子内閉環反応によって写真的有用基(PUQ)を放出
するもの;米国特許第4310.612号(特開昭55
−53,330号)および同4,358,252号等に
記載の環開裂後の分子内開環反応によってPUGを放出
するもの;米国特許第4,330,617号、同4,4
46,216号、同4,483.919号、特開昭59
−121,328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルポキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生戒を伴って、PUGを放出するもの;米
国特許第4,409,323号、同4,421,845
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135,944号)、特開昭58
11 12 −209,736号、同58−209,738号等に記
載のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役し
た二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、ま
たはその類縁体を生威してPUGを放出するもの;米国
特許第4,420,554号(特開昭57−136,6
40号)、特開昭57−135,945号、゛同57−
188,035号、同58−98,728号および同5
8−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナ
ミン構造を有する部分の電子移動によりエナ柔ンのT位
よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動にまり生威したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46,396号(特開昭5 2−9 0 9 3 2号
)、特開昭5993.442号、特開昭59−7547
5号等に記載のアルデヒド類の生或を伴ってPUGを放
出するもの;特開昭51−146,828号、同57−
179,842号、同59−104.641号に記載の
カルボキシル基の脱炭素を伴ってPU(1,を放出する
もの; −0−COOCIhR. − P IJ Gの
構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生威を伴
ってPUGを放出するもの;特開昭607,429号に
記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出する
もの;米国特許第4,438,193号等に記載のカラ
ー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを
放出するものなどを挙げることができる。
米国特許第4、248,962号(特開昭54−145
,135号)等に記載のp−にとるフエノキシ誘導体の
分子内閉環反応によって写真的有用基(PUQ)を放出
するもの;米国特許第4310.612号(特開昭55
−53,330号)および同4,358,252号等に
記載の環開裂後の分子内開環反応によってPUGを放出
するもの;米国特許第4,330,617号、同4,4
46,216号、同4,483.919号、特開昭59
−121,328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルポキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生戒を伴って、PUGを放出するもの;米
国特許第4,409,323号、同4,421,845
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135,944号)、特開昭58
11 12 −209,736号、同58−209,738号等に記
載のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役し
た二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、ま
たはその類縁体を生威してPUGを放出するもの;米国
特許第4,420,554号(特開昭57−136,6
40号)、特開昭57−135,945号、゛同57−
188,035号、同58−98,728号および同5
8−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナ
ミン構造を有する部分の電子移動によりエナ柔ンのT位
よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動にまり生威したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46,396号(特開昭5 2−9 0 9 3 2号
)、特開昭5993.442号、特開昭59−7547
5号等に記載のアルデヒド類の生或を伴ってPUGを放
出するもの;特開昭51−146,828号、同57−
179,842号、同59−104.641号に記載の
カルボキシル基の脱炭素を伴ってPU(1,を放出する
もの; −0−COOCIhR. − P IJ Gの
構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生威を伴
ってPUGを放出するもの;特開昭607,429号に
記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出する
もの;米国特許第4,438,193号等に記載のカラ
ー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを
放出するものなどを挙げることができる。
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例に
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されているが、好まし
い具体例は以下に示すものである。
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されているが、好まし
い具体例は以下に示すものである。
ここで(*)は一般式(r)において
+Time+T−PUGがVに結合する部位を表わし、
(ネ) (本)にPUGが結合する部位を表わす。
(ネ) (本)にPUGが結合する部位を表わす。
C 2 1! 5
Cool;Hユ
15
CHi
0
17
0
T
(5)
(ネ)
0
CH:1
Czlls
C2HS
16
T 一(10)
(*)
0−CH
CzHs
18
T
(l3)
し+zl125
21
O
C
Clh
20
T − (25)
22
C}13
T 一(28)
23
S(h
T
(38)
0
C.H,
25
T
(30)
T
(34)
(*)
0
CI
(−) (*)
COOC2HS
26
PUGは( T imeh− P U GまたはPUG
として現像抑制効果を有する基を表わす。
として現像抑制効果を有する基を表わす。
PUGまたは( T ime}r− P U Gで表わ
される現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介
して結合している公知の現像抑制剤であり、これら′は
たとえばシー・イー・ケー・ミース(C.E.K.Me
es)及びテー・エッチ・ジェームズ(T.H.Jam
es)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフイン
ク・プロセス(The Theory of Phot
ographicProcesses) 」第3版、1
966マクミラン(Macmi11an)社刊、344
頁〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカ
プトテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メル
カブトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メル
カプトベンズイξダゾール類、メルカプトペンズチアゾ
ール類、メルカブトヘンズオキサゾール類、メルカプト
チアジアゾール類、ヘンズトリアゾール類、ベンズイご
ダゾール類、インダゾーノl/j!!糺アデニン類、グ
アニン類、テトラゾール類、テトラアザインデン類、ト
リアザインデン類、メルカ27 プトアリール類等を挙げることができる。
される現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介
して結合している公知の現像抑制剤であり、これら′は
たとえばシー・イー・ケー・ミース(C.E.K.Me
es)及びテー・エッチ・ジェームズ(T.H.Jam
es)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフイン
ク・プロセス(The Theory of Phot
ographicProcesses) 」第3版、1
966マクミラン(Macmi11an)社刊、344
頁〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカ
プトテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メル
カブトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メル
カプトベンズイξダゾール類、メルカプトペンズチアゾ
ール類、メルカブトヘンズオキサゾール類、メルカプト
チアジアゾール類、ヘンズトリアゾール類、ベンズイご
ダゾール類、インダゾーノl/j!!糺アデニン類、グ
アニン類、テトラゾール類、テトラアザインデン類、ト
リアザインデン類、メルカ27 プトアリール類等を挙げることができる。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
了りールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボシアミド基、スル
ホンアミド基やカルポキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
了りールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボシアミド基、スル
ホンアミド基やカルポキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、28 ホスフィニコ基、スルホンアミド基である。
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、28 ホスフィニコ基、スルホンアミド基である。
主な現像抑制剤を以下に示す。
ル
(2)1−(4−ヒドロキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラジーTV (3)1−(4−ア稟ノフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルポキシフエニル)−5一メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2.4−ジヒドロキシフエニル)−5−メ
ルカブトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール (9)1−(3−カルポキシフエニル)−5−メルカブ
トテトラゾール 0011−(3.5−ジカルボキシフエニル)5−メル
カブトテトラゾール (I+)1−(4−メトキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラゾール 02)1−(2−メトキシフエニル)−5−メルカプト
テトラゾール θ31 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フエ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾール04)1−(2.
4−ジクロロフエニル)−5一メルカプトテトラゾール 05)1−(4−ジメチルアξノフエニル)−5−メル
カプトテトラゾール (16)1−(4−ニトロフエニル)−5−メルカブト
テトラゾール 0力 1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 08)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾ
ール 09)1−(4−スルホフエニル)−5一メルカプトテ
トラゾール Qω 1−(3−スルホフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロビル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (27) 1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (2B) 1−パルξチルー5−メルカプトテトラゾ
ーノレ (29) 1−カルポキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジエトキシエチル)−5メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32) ’1 − ( 2−ジエチルアミノエチル)
−5−メルカプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34) 1
= ( 3−フエノキシカルボニルフエニル)5−メル
カプトテトラゾール (35) 1 − .( 3−マレインイ果ドフエニ
ル)一6一メルカプトテトラゾール ノレ (2)4−フエニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフエニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルポキシフエニル)−3−メルカプ
トトリアゾール 32 (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフエニル)−3−メルカブトト
リアゾール ノレ (2)1.5−ジフエニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルポキシフエニル)−2一メルカプ
トイ兆ダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2メルカプ
トイミダゾール (5)1−(3−ニトロフエニル)−2−メルカブトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール 4 メノレカフ゜ ピ盲ミジンii% (+) チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4)プロビルチオウラシル (5)ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカプ ベンズイミ ゛−ル (1)2−メルカプトベンツイごダゾール(2)5−カ
ルポキシー2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノー2−メルカプトベンツイ2ダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシー2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2一メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカブト−5−スルホヘンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2一メルカプト
ベンツイξダゾール 0■ 5−カプロアごドー2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 01)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)2−メル
カプトベンズイもダゾール ルカプ ジ ・−ル廷 (1)5−メチルチオ−2−メルカブト−1.3,4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカブト−1.3.4−チアジアゾーノレ (4)5−(2−カルポキシプ口ピルチオ)−2メルカ
ブト−1.3.4−チアジアゾール(5)2−フエノキ
シ力ルポニルメチルチオ−5メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール7 メルカブトヘンズチアゾール沃 (1)2−メルカプトヘンズチアゾール(2)5−ニト
ロー2一メルカブトペンズチアゾーノレ (3)5−カルボキシ−2一メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホー2一メルカプトペンズチアゾーノレ 8 メルカプ ベンズオキサゾール沃 (I)2−メルカプトヘンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトペンズオキサゾ
ール (4)5−スルホー2−メルカプトベンズ牙キサシ゜ー
ノレ 9 ベンズ 1アゾール沃 35 5,6−ジメチルベンゾトリアゾール 5−プチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−プロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4,6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロー6−クロローペンゾトリアゾーノレ 0ω 4,5.6−}リクロロベンゾトリアゾーノレ (I+1 5−カルボキシベンゾトリアゾールaツ5
−スルホベンゾトリアゾール Na塩(13) 5−
メトキシ力ルポニルベンゾトリアゾーノレ 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 0団5−フエノキシカルボニルベンゾトリアゾーノレ (19) 5− (2.3−ジクロ口プロビルオキシ
力ルボニル)ペンゾトリアゾール 10 ヘンズイミ ゾール球 (1) ベンツイミダゾール (2) 5−クロロペンツイミダゾール(3) 5
−ニトロベンツイミタソール(4)5−n−プチルペン
ツィミダゾール(5) 5−メチルベンツイξダゾー
ル(6) 4−クロロペンツイミダゾール(7)5.
6−ジメチルベンツイミダゾール(8)5−ニトロ−2
−(トリフルオロメチル)ベンツイミダゾール イン゛ゾール銖 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインダゾール(8)
3−クロロ−5−二トロインダゾール(9)3−カ
ルポキシ−5−ニトロインダゾール12− −ゾール
i禾 (1)5−(4−ニトロフエニル)テトラゾール(2)
5−フエニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフエニル)一テトラゾール インー′ン (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−.1
,3,3a,7−テトラアザインデン(2)4−メルカ
プト−6−メチル−5−二トロ−1.3.3a,?−テ
トラアザインデンl メルカプ ア1−ル銖 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルポキシチオフェノール l3 0 1I スルホキシ基、−P−(R,はアルコキシ基またはRl
4 ・アリールオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、
チオカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が
好ましい。
トテトラジーTV (3)1−(4−ア稟ノフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルポキシフエニル)−5一メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2.4−ジヒドロキシフエニル)−5−メ
ルカブトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール (9)1−(3−カルポキシフエニル)−5−メルカブ
トテトラゾール 0011−(3.5−ジカルボキシフエニル)5−メル
カブトテトラゾール (I+)1−(4−メトキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラゾール 02)1−(2−メトキシフエニル)−5−メルカプト
テトラゾール θ31 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フエ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾール04)1−(2.
4−ジクロロフエニル)−5一メルカプトテトラゾール 05)1−(4−ジメチルアξノフエニル)−5−メル
カプトテトラゾール (16)1−(4−ニトロフエニル)−5−メルカブト
テトラゾール 0力 1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 08)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾ
ール 09)1−(4−スルホフエニル)−5一メルカプトテ
トラゾール Qω 1−(3−スルホフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロビル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (27) 1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (2B) 1−パルξチルー5−メルカプトテトラゾ
ーノレ (29) 1−カルポキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジエトキシエチル)−5メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32) ’1 − ( 2−ジエチルアミノエチル)
−5−メルカプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34) 1
= ( 3−フエノキシカルボニルフエニル)5−メル
カプトテトラゾール (35) 1 − .( 3−マレインイ果ドフエニ
ル)一6一メルカプトテトラゾール ノレ (2)4−フエニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフエニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルポキシフエニル)−3−メルカプ
トトリアゾール 32 (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフエニル)−3−メルカブトト
リアゾール ノレ (2)1.5−ジフエニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルポキシフエニル)−2一メルカプ
トイ兆ダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2メルカプ
トイミダゾール (5)1−(3−ニトロフエニル)−2−メルカブトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール 4 メノレカフ゜ ピ盲ミジンii% (+) チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4)プロビルチオウラシル (5)ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカプ ベンズイミ ゛−ル (1)2−メルカプトベンツイごダゾール(2)5−カ
ルポキシー2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノー2−メルカプトベンツイ2ダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシー2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2一メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカブト−5−スルホヘンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2一メルカプト
ベンツイξダゾール 0■ 5−カプロアごドー2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 01)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)2−メル
カプトベンズイもダゾール ルカプ ジ ・−ル廷 (1)5−メチルチオ−2−メルカブト−1.3,4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカブト−1.3.4−チアジアゾーノレ (4)5−(2−カルポキシプ口ピルチオ)−2メルカ
ブト−1.3.4−チアジアゾール(5)2−フエノキ
シ力ルポニルメチルチオ−5メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール7 メルカブトヘンズチアゾール沃 (1)2−メルカプトヘンズチアゾール(2)5−ニト
ロー2一メルカブトペンズチアゾーノレ (3)5−カルボキシ−2一メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホー2一メルカプトペンズチアゾーノレ 8 メルカプ ベンズオキサゾール沃 (I)2−メルカプトヘンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトペンズオキサゾ
ール (4)5−スルホー2−メルカプトベンズ牙キサシ゜ー
ノレ 9 ベンズ 1アゾール沃 35 5,6−ジメチルベンゾトリアゾール 5−プチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−プロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4,6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロー6−クロローペンゾトリアゾーノレ 0ω 4,5.6−}リクロロベンゾトリアゾーノレ (I+1 5−カルボキシベンゾトリアゾールaツ5
−スルホベンゾトリアゾール Na塩(13) 5−
メトキシ力ルポニルベンゾトリアゾーノレ 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 0団5−フエノキシカルボニルベンゾトリアゾーノレ (19) 5− (2.3−ジクロ口プロビルオキシ
力ルボニル)ペンゾトリアゾール 10 ヘンズイミ ゾール球 (1) ベンツイミダゾール (2) 5−クロロペンツイミダゾール(3) 5
−ニトロベンツイミタソール(4)5−n−プチルペン
ツィミダゾール(5) 5−メチルベンツイξダゾー
ル(6) 4−クロロペンツイミダゾール(7)5.
6−ジメチルベンツイミダゾール(8)5−ニトロ−2
−(トリフルオロメチル)ベンツイミダゾール イン゛ゾール銖 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインダゾール(8)
3−クロロ−5−二トロインダゾール(9)3−カ
ルポキシ−5−ニトロインダゾール12− −ゾール
i禾 (1)5−(4−ニトロフエニル)テトラゾール(2)
5−フエニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフエニル)一テトラゾール インー′ン (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−.1
,3,3a,7−テトラアザインデン(2)4−メルカ
プト−6−メチル−5−二トロ−1.3.3a,?−テ
トラアザインデンl メルカプ ア1−ル銖 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルポキシチオフェノール l3 0 1I スルホキシ基、−P−(R,はアルコキシ基またはRl
4 ・アリールオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、
チオカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が
好ましい。
Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数はl〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形威するように環化されていてもよい。
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数はl〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形威するように環化されていてもよい。
例えばメチル基、t−プチル基、n−オクチル基、t−
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
芳香族基は単環または2環のアリール基であり、例えば
フエニル基、ナフチル基などが挙げられる。
フエニル基、ナフチル基などが挙げられる。
ヘテロ環基は、N、0またはS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10=の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮金環を形威してもよい。ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ビリジン環、イ累ダゾリル基、キノリ
ニル基、ペンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、インキノリニル基、ペンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
とつを含む3〜10=の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮金環を形威してもよい。ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ビリジン環、イ累ダゾリル基、キノリ
ニル基、ペンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、インキノリニル基、ペンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
Rは置換基で置換されていてもよい。W換基としては、
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルア5ノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、
アリールオキシ力ルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルポンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸ア旦ド基などであ
る。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルア5ノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、
アリールオキシ力ルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルポンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸ア旦ド基などであ
る。
また一般式(1)において、R5または{−Time}
▼PUGは、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤
において常用されているバラスト基や一般式(1)で表
わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進す
る基が組み込まれていてもよい。
▼PUGは、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤
において常用されているバラスト基や一般式(1)で表
わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進す
る基が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(1)で表わされる化合物が実質的
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレ・イド基、ウレタン基、スルホンアξド基な
どの一以上の組合せからなるものである。バラスト基と
して好ましくは置換ヘンゼン環を有するハラストMであ
り、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有
するバラスト基が好ましい。
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレ・イド基、ウレタン基、スルホンアξド基な
どの一以上の組合せからなるものである。バラスト基と
して好ましくは置換ヘンゼン環を有するハラストMであ
り、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有
するバラスト基が好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリンー2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−}リ
アゾリンー3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2
−チオン、ベンズイ稟ダゾリン−2−チオン、ペンズオ
キサゾリン−2−チオン、ペンゾチアゾリン−2−チオ
ン、チオトリアジン、1.3−イミダゾリンー2チオン
のような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、胎肪族
メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプ
ト基(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場
合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアξド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である。)、ジスルフィド結合を有する基、ペンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアプー
ル、チアゾール、チアゾリン、ヘンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含
窒素へテロ環基、及びペンズイミダゾリニウムのような
複素環四級塩などが挙げられる。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリンー2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−}リ
アゾリンー3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2
−チオン、ベンズイ稟ダゾリン−2−チオン、ペンズオ
キサゾリン−2−チオン、ペンゾチアゾリン−2−チオ
ン、チオトリアジン、1.3−イミダゾリンー2チオン
のような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、胎肪族
メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプ
ト基(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場
合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアξド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である。)、ジスルフィド結合を有する基、ペンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアプー
ル、チアゾール、チアゾリン、ヘンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含
窒素へテロ環基、及びペンズイミダゾリニウムのような
複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばRの置換基として述べたものが
挙げられる。
挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
−318−
宜
−319
−321−
−32:
49.
50.
0
一326−
一5 5一
本発明のレドックス化合物は、1.OXIO−’〜1
. O X 1 0−’ mol/rrf、好ましくは
1.0×10−6〜l . O X I O−’ m
ol/rrfの範囲内で用いられる。
. O X 1 0−’ mol/rrf、好ましくは
1.0×10−6〜l . O X I O−’ m
ol/rrfの範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルヶトン)、ジメチルホルムア逅ド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに熔解して
用いることができる。
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルヶトン)、ジメチルホルムア逅ド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに熔解して
用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジェチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作威して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボ
ールごル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散
して用いることもできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジェチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作威して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボ
ールごル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散
して用いることもできる。
本発明のレドックス化合物を含む層は、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層の上層、または下層に設けられる。
剤を含む感光乳剤層の上層、または下層に設けられる。
本発明のレドックス化合物を含む層は、さらに感光性も
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい。
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい。
本発明のレドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
U)によって表わされる化合物が好ましい。
U)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(U)
A,A2
式中、R,は脂肪族基宗たは芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルポニ).L/基を表わし、G1はカ
ルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、 R2 イミノメチレン基を表わし、 A+ ,Axはともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルポニ).L/基を表わし、G1はカ
ルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、 R2 イミノメチレン基を表わし、 A+ ,Axはともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
58
−C式(II)において、R,で表される脂肪族基は好
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形威するように環化
されていてもよい.またこのアルキル基は、アリール基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルポンアミド基等の置換基を有していてもよい.一般式
(II)においてR1で表される芳香族基は単環または
2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。ここ
で不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基を形威してもよい。
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形威するように環化
されていてもよい.またこのアルキル基は、アリール基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルポンアミド基等の置換基を有していてもよい.一般式
(II)においてR1で表される芳香族基は単環または
2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。ここ
で不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基を形威してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリ5
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイξグゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイξグゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R. として特に好ましいものはアリール基であ59
R1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルポニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアξド基やカ
ルポキシル基、リン酸ア稟ド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、 R2 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換ア藁ノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基〉、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンア稟ド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである.一般式(If)においてR
2で表わされるアルキル基としては、好ましくは炭素数
1〜4のアルキル基であって、例えばハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、フェ
ニル基、アシル基、アルコキシ力ルポニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、、アルキルスル
ホ基、アリールスルホ基、スルフ7モイル基、二トロ基
、複素芳香環基、 でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよい。
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルポニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアξド基やカ
ルポキシル基、リン酸ア稟ド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、 R2 などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換ア藁ノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基〉、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンア稟ド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである.一般式(If)においてR
2で表わされるアルキル基としては、好ましくは炭素数
1〜4のアルキル基であって、例えばハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、フェ
ニル基、アシル基、アルコキシ力ルポニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、、アルキルスル
ホ基、アリールスルホ基、スルフ7モイル基、二トロ基
、複素芳香環基、 でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよい。
アリール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は置換されていてもよく、置換基の例としてはアル
キル基の場合と同様である。
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は置換されていてもよく、置換基の例としてはアル
キル基の場合と同様である。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ノ\ロゲン原子、アリーノレ基などで置
換されていてもよい。
のが好ましく、ノ\ロゲン原子、アリーノレ基などで置
換されていてもよい。
了りールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある.アミノ基とし
ては無置換アミノ基及び、炭素数1−10のアルキルア
2ノ基、アリールアξノ基が好ましく、アルキル基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルポキシ基などで
置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子などがある.アミノ基とし
ては無置換アミノ基及び、炭素数1−10のアルキルア
2ノ基、アリールアξノ基が好ましく、アルキル基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルポキシ基などで
置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモ否ル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルポキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のアルキルカルバモ否ル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルポキシ基などで置換されていてもよい。
62
ォキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシ力ルポニル基、アリールオキシカルボニル基が好空
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシ力ルポニル基、アリールオキシカルボニル基が好空
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、G,がカル
ポニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプ口
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロビル基、フェニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
O−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フエニル基、3.5−ジクロロフェニル基、0−メタ
ンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフ
ェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい. またG,がスルホニル基の場合には、Rtぱア基(例え
ば、0−ヒドロキシフエニルメチル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例
えば、ジメチルアミノ基な63 ど)などが好ましい。
ポニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプ口
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロビル基、フェニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
O−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フエニル基、3.5−ジクロロフェニル基、0−メタ
ンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフ
ェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい. またG,がスルホニル基の場合には、Rtぱア基(例え
ば、0−ヒドロキシフエニルメチル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例
えば、ジメチルアミノ基な63 ど)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などかあO 11 り、G.がーP一 基の場合には、R2としてI R2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基
、フエニル基が好空しく、特に、フエノキシ基が好適で
ある。
ジル基、メチルチオベンジル基などかあO 11 り、G.がーP一 基の場合には、R2としてI R2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基
、フエニル基が好空しく、特に、フエノキシ基が好適で
ある。
G.がN一置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフエニル基である. R2の置換基としては、R,に関して列挙した置換基が
通用できる. 一般式(II)のGとしてはカルポ÷ル基が最も好まし
い。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフエニル基である. R2の置換基としては、R,に関して列挙した置換基が
通用できる. 一般式(II)のGとしてはカルポ÷ル基が最も好まし
い。
又、R2はG.−Rtの部分を残余分子から分裂させ、
−G.−R.部分の原子を含む環式構造を生或させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
−G.−R.部分の原子を含む環式構造を生或させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
一般式(a)
一R.−Z,
式中、Z,はG1に対し求核的に攻撃し、GI R3
21部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R
aはR2から水素原子1個除いたもので、Z1がG1に
対し求核攻撃し、Gr 、Rs、ZIで環式構造が生或
可能なものである.さらに詳細には、ZIは一般式(n
)ヒドラジン化合物が酸化等により次の反応中間体を生
威したときに容易にG,と求核反応し Rr N=N G+ Rx LR.−N=N基
を01から分裂させうる基であり、具体的にはOH,S
HまたはNHRa(R=は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、−COR5、または−S O t R sであ
り、R,は水繁原子、・アルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基などを表す)、COOHなどのように01と直接
反応する官能基であってもよく(ここで、OH..SH
SNHR,、COOHはアルカリ等の加水分解によりこ
れらの基を生戒するように一時的に保護されていても(
Rb 、R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
lと反応することが可能になる官能基であってもよい. また、Gl,Rx 、Z+で形威される環どしては5員
または6員のものが好ましい. 一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
21部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R
aはR2から水素原子1個除いたもので、Z1がG1に
対し求核攻撃し、Gr 、Rs、ZIで環式構造が生或
可能なものである.さらに詳細には、ZIは一般式(n
)ヒドラジン化合物が酸化等により次の反応中間体を生
威したときに容易にG,と求核反応し Rr N=N G+ Rx LR.−N=N基
を01から分裂させうる基であり、具体的にはOH,S
HまたはNHRa(R=は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、−COR5、または−S O t R sであ
り、R,は水繁原子、・アルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基などを表す)、COOHなどのように01と直接
反応する官能基であってもよく(ここで、OH..SH
SNHR,、COOHはアルカリ等の加水分解によりこ
れらの基を生戒するように一時的に保護されていても(
Rb 、R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
lと反応することが可能になる官能基であってもよい. また、Gl,Rx 、Z+で形威される環どしては5員
または6員のものが好ましい. 一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式(ロ)
を表し、同じでも異なってもよい。Bは置換基を有して
もよい5員環または6員環を完戒するのに必要な原子で
あり、mSnはOまたは1であり、(n +m)は1ま
たは2である。
もよい5員環または6員環を完戒するのに必要な原子で
あり、mSnはOまたは1であり、(n +m)は1ま
たは2である。
Bで形威される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ビリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ビリジン環、キノリン環などである。
Z1は一般式(a)と同義である。
一般式(C)
Rc
−{−N−}7−{−CRc I Rc 2−}−,
Z,式中、Rt,〜R’bは水素原子、アルキル基(好
ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ま
しくは炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜l2のもの)なと66 式中、Re ’ 、Rc ”は水素原子、、アルキル基
、アルケニル基、了りール基またはハロゲン原子などを
表し、同じでも異なってもよい。
Z,式中、Rt,〜R’bは水素原子、アルキル基(好
ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ま
しくは炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜l2のもの)なと66 式中、Re ’ 、Rc ”は水素原子、、アルキル基
、アルケニル基、了りール基またはハロゲン原子などを
表し、同じでも異なってもよい。
Rc3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表す. pは0または1を表し、qは1〜4を表す.67 Rcl,Rc2およびR,ゴは2.がC1へ分子内求核
攻騒し得る構造の限りにおいて互いに結゛合して環を形
成してもよい。
アリール基を表す. pは0または1を表し、qは1〜4を表す.67 Rcl,Rc2およびR,ゴは2.がC1へ分子内求核
攻騒し得る構造の限りにおいて互いに結゛合して環を形
成してもよい。
Rc’sRczは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、
またはアルキル基であり、R%は好ましくはアルキル基
またはアリール基である.qは好ましくは1〜3を表し
、qが1のときPは0または1を、qが2のときPは0
またはlを、qが3のときpは0または1を表し、qが
2または3のときRcI ,Rc2は同一でも異なって
もよい。 z1は一般式(a)と同義である。
またはアルキル基であり、R%は好ましくはアルキル基
またはアリール基である.qは好ましくは1〜3を表し
、qが1のときPは0または1を、qが2のときPは0
またはlを、qが3のときpは0または1を表し、qが
2または3のときRcI ,Rc2は同一でも異なって
もよい。 z1は一般式(a)と同義である。
A+ 、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットのW換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
蟇)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又は八ノットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アよド基、カルポンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。))A, 、A.としては
水素原子が最も好ましい。
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットのW換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
蟇)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又は八ノットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アよド基、カルポンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。))A, 、A.としては
水素原子が最も好ましい。
一般式(I[)のR+またはR2はその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフエノキシ基などの中から選ぶことができる.ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる. 一般式(II)のR,またはR2はその中に2ハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.385,108号、同4、4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−2 0 0,231号、同59−201,045
号、同59201.046号、同59−201,047
号、同59−201,048号、同59−201,04
9号、特開昭61−170.73.3号、同6L−27
0,744号、同6 2−9 4 8号、特願昭62−
67,508号、同62−67,501号、同62−6
7,510号に記載された基があげられる。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフエノキシ基などの中から選ぶことができる.ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる. 一般式(II)のR,またはR2はその中に2ハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.385,108号、同4、4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−2 0 0,231号、同59−201,045
号、同59201.046号、同59−201,047
号、同59−201,048号、同59−201,04
9号、特開昭61−170.73.3号、同6L−27
0,744号、同6 2−9 4 8号、特願昭62−
67,508号、同62−67,501号、同62−6
7,510号に記載された基があげられる。
一般式(U)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し″木発明は以下の化合物に限定されるものではない
. ■−7) H ■−8) S ■−9) CHzGHzCI{zsH II−1 0) H n−11) ■−1) ■−2) ■−3) ■−4) C.H. ■−6) 12) n−14) I1−1 5) n−16) II−17) n − 1 .8 ) n−19) N=N n−20) SR N = N ■−27) It−28) II−30) O It−22) It−23) It−26) It−31) I+−32) If−33) ■ 34) ○ ○ CJs 75 0 0 0 II−35) I[−36) II−37) II−38) 78 II−43) II−44) II−4 5) n−46) ■ 40) ■ 41) I[−42) 79 l1 47) It−48) II−49) II−50) CN CE It−5 1) II−52) n−53) U−54) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISC:LOSUR
E ItelI123516(’1983年11月号、
P.346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4.0B0.207号、同4,269,929号、同
4,276,364号、同4,278,748号、同4
,385,108号、同4,459,347号、同4.
5’60,638号、同4,478,928号、英国特
許2,011,391.B、特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、同61−170,733号、同61−270,74
4号、同62一948号、EP217,310号、また
はUS.4,686,167号、特開昭62−178,
246号、同63−・32,538号、同63−104
,047号、同63−121,838号、同63一12
9.33’7号、同63−223,744号、同63−
234,244号、同63−234,245号、同6.
3−234,246号、同63−294,552号、同
63−306,438号、特開平1−100,530号
、同1−105,941号、同1−105,943号、
特開昭64−10,233号、特開平1−’90,43
9号、特願昭63−105.682号、同63−414
,118号、同63−110,051号、同63−11
4 119号、同63−116,239号、同63−
447,339号、同63−179, 760号、同6
3−229,163号、特願平1−18,377号、同
1−18,378号、同1−18,379号、同1−1
5,”755号、同1−16,814号、同1−40.
79.2号、同1−42,615号、同1−42’,6
16号、同1−123,693号、同1−126,28
4号に記載されたものを用いることができる。
. ■−7) H ■−8) S ■−9) CHzGHzCI{zsH II−1 0) H n−11) ■−1) ■−2) ■−3) ■−4) C.H. ■−6) 12) n−14) I1−1 5) n−16) II−17) n − 1 .8 ) n−19) N=N n−20) SR N = N ■−27) It−28) II−30) O It−22) It−23) It−26) It−31) I+−32) If−33) ■ 34) ○ ○ CJs 75 0 0 0 II−35) I[−36) II−37) II−38) 78 II−43) II−44) II−4 5) n−46) ■ 40) ■ 41) I[−42) 79 l1 47) It−48) II−49) II−50) CN CE It−5 1) II−52) n−53) U−54) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISC:LOSUR
E ItelI123516(’1983年11月号、
P.346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4.0B0.207号、同4,269,929号、同
4,276,364号、同4,278,748号、同4
,385,108号、同4,459,347号、同4.
5’60,638号、同4,478,928号、英国特
許2,011,391.B、特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、同61−170,733号、同61−270,74
4号、同62一948号、EP217,310号、また
はUS.4,686,167号、特開昭62−178,
246号、同63−・32,538号、同63−104
,047号、同63−121,838号、同63一12
9.33’7号、同63−223,744号、同63−
234,244号、同63−234,245号、同6.
3−234,246号、同63−294,552号、同
63−306,438号、特開平1−100,530号
、同1−105,941号、同1−105,943号、
特開昭64−10,233号、特開平1−’90,43
9号、特願昭63−105.682号、同63−414
,118号、同63−110,051号、同63−11
4 119号、同63−116,239号、同63−
447,339号、同63−179, 760号、同6
3−229,163号、特願平1−18,377号、同
1−18,378号、同1−18,379号、同1−1
5,”755号、同1−16,814号、同1−40.
79.2号、同1−42,615号、同1−42’,6
16号、同1−123,693号、同1−126,28
4号に記載されたものを用いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モルあたりI X 1 0−bモルないし5
X I O.−”モル含有されるのが好ましく、特に
IXIO−’モルないし2X10−”モルの範囲が好ま
しい添加量である。
ゲン化銀1モルあたりI X 1 0−bモルないし5
X I O.−”モル含有されるのが好ましく、特に
IXIO−’モルないし2X10−”モルの範囲が好ま
しい添加量である。
本発明において用いられる現像主薬は、ハロゲン化銀乳
剤層又はその他の親水性コロイド層の少なくとも一方に
含有される。現像主薬としては、ハイドロキノン、クロ
ルハイドロキノン、プロモハイドロキノン、イソプロピ
ルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2.3ジク
ロロハイドロキノン、2,5ジメチルハイドロキノン、
t−ブチルハイドロキノンなどのジヒドロキシベンゼン
類、l−フエニルー3−ピラゾリドンの如き、3ピラゾ
リドン類、N−メチルーp−アξノフェノールの如きア
ξノフェノール類などを単独又は組合せて用いることが
できる。このうちでハイドロキノン類が実用上好ましく
、さらにハイドロキノンが実用上最も好ましい。
剤層又はその他の親水性コロイド層の少なくとも一方に
含有される。現像主薬としては、ハイドロキノン、クロ
ルハイドロキノン、プロモハイドロキノン、イソプロピ
ルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2.3ジク
ロロハイドロキノン、2,5ジメチルハイドロキノン、
t−ブチルハイドロキノンなどのジヒドロキシベンゼン
類、l−フエニルー3−ピラゾリドンの如き、3ピラゾ
リドン類、N−メチルーp−アξノフェノールの如きア
ξノフェノール類などを単独又は組合せて用いることが
できる。このうちでハイドロキノン類が実用上好ましく
、さらにハイドロキノンが実用上最も好ましい。
上記現像主薬をハロゲン化銀感光材料中に含有させるに
は、従来から知られている方法を用いることができる。
は、従来から知られている方法を用いることができる。
たとえば、現像主薬を水と混和しうる適当な有機溶媒、
たとえばアルコール類、グリコール類、ケトン類、エス
テル類、ア果ド類などのうちで写真特性に悪い影響を与
えない溶媒に溶解し、溶液とし、ハロゲン化銀乳剤また
はその他の層となる塗布液の少なくとも一方に添加し、
塗布することができる。また特開昭5 0 − 3 9
928号に記載されているように現像主薬をオイル分
散物にして乳剤中に添加する方法を用いることもできる
。又現像主薬をゼラチン溶液に溶解して、現像主薬のゼ
ラチン溶液として添加し塗布することもできる。さらに
特公昭45−1.5461にある様に、現像主薬を、ア
ルキルアクリレートI、アルキルメタアクリレート類、
又はセルコーズエステル類などのポリマーに分散せしめ
た分散物を添加し塗布することができる。
たとえばアルコール類、グリコール類、ケトン類、エス
テル類、ア果ド類などのうちで写真特性に悪い影響を与
えない溶媒に溶解し、溶液とし、ハロゲン化銀乳剤また
はその他の層となる塗布液の少なくとも一方に添加し、
塗布することができる。また特開昭5 0 − 3 9
928号に記載されているように現像主薬をオイル分
散物にして乳剤中に添加する方法を用いることもできる
。又現像主薬をゼラチン溶液に溶解して、現像主薬のゼ
ラチン溶液として添加し塗布することもできる。さらに
特公昭45−1.5461にある様に、現像主薬を、ア
ルキルアクリレートI、アルキルメタアクリレート類、
又はセルコーズエステル類などのポリマーに分散せしめ
た分散物を添加し塗布することができる。
ハロゲン化銀感光材料中に含有される現像主薬の量は、
ハロゲン化銀1モル当り0.05〜5モル、好ましくは
0.2〜3モルである。
ハロゲン化銀1モル当り0.05〜5モル、好ましくは
0.2〜3モルである。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
恨、沃臭化銀、沃塩臭化銀等との組或でもかまわない。
恨、沃臭化銀、沃塩臭化銀等との組或でもかまわない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは徽
粒子(例えcio.tμ以下)の方が好ましく、特に0
.5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制
限はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が
平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構威されていることをいう。
粒子(例えcio.tμ以下)の方が好ましく、特に0
.5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制
限はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が
平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構威されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular,)な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶
形の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular,)な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶
形の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部とiNが均一な和から戒ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形威した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化鑵乳剤にはハ0ゲン8 6一
化恨粒子の形或または物理熟威の過程においてカドミウ
ム塩、亜硫酸塩、鉛塩、クリウム塩、ロジウム塩もしく
はその錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存
させてもよい。
ム塩、亜硫酸塩、鉛塩、クリウム塩、ロジウム塩もしく
はその錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存
させてもよい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジエーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度城に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
シ扱われる,際のセーフライト光に対する安全性を高め
るための、主として3!θn m’ − 1 00nm
の領域に笑質的な党吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジエーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度城に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
シ扱われる,際のセーフライト光に対する安全性を高め
るための、主として3!θn m’ − 1 00nm
の領域に笑質的な党吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層よシ遠〈の非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層よシ遠〈の非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
染料のモル吸光係数によシ異なるが、通常/0−22/
m2〜/ ? / m 2の範囲で添加される。好まし
くは!Oク〜JOO〃ダ/7n2である。
m2〜/ ? / m 2の範囲で添加される。好まし
くは!Oク〜JOO〃ダ/7n2である。
染料の具体例は特願昭t/−201/tタ号K88
89
詳しく記載でれているが、いくつかを次にあげる。
SOK
3
803K
S Q a N a
803K
So3K
S(J a N a
90
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセト
ン、メテルセロンルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される? これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。
メタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセト
ン、メテルセロンルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される? これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。
本発明の染料は、明室取扱しを可能にするに必要な量用
いられる。
いられる。
具体的な染料の使用量は、一般にt o−3 ,P 7
m2−/?/m2、特にlo−32/m2〜o.j t
/ m 2の範囲に好ましい量を見い出すことができ
る。
m2−/?/m2、特にlo−32/m2〜o.j t
/ m 2の範囲に好ましい量を見い出すことができ
る。
写真乳剤の結合剤オたぱ保護コロイドとしては、ゼラテ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、力ぞイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルC−ス、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリーN−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、力ぞイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルC−ス、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリーN−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増愚の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られて釦リ、これらのいずれ
七も単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増愚の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られて釦リ、これらのいずれ
七も単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貝金属壇感法のうち会増感法はその代表的なもので金化
合物、二として金錯塩t用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム\イリジウム等の錯塩七含有して
も差支えない。その具体例は米国特許1,φグr,ot
o蛛 英国特許67♂,Oll号などに記載されている
・ 硫黄増感剤としては、ゼラテン中に含すれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、テオ
尿素類、テアゾール類、ロータ”二7.類等金用いるこ
とができる。
合物、二として金錯塩t用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム\イリジウム等の錯塩七含有して
も差支えない。その具体例は米国特許1,φグr,ot
o蛛 英国特許67♂,Oll号などに記載されている
・ 硫黄増感剤としては、ゼラテン中に含すれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、テオ
尿素類、テアゾール類、ロータ”二7.類等金用いるこ
とができる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明で用いられるノ・ロゲン化銀乳剤層には、公知の
分光増感色素を添加してもよい。
分光増感色素を添加してもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばペンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインタ゜ゾール類、クロロペンズイミダソ
ーノレL i口モベンズイミグゾール類、メルカブト
テアソ゜−ル類、メルカブトベンゾチアゾール類、メル
カブトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベン
ンチアゾール類、ニトロペンゾトリアゾール類、など:
メルカブトピリミジ7類;メルカブトトリアジン類;た
とえばオキサゾリンチオン,のようなテオケト化合物;
アザインデン類、たとえばトリアザインデ/類、テトラ
アザインデン類(特にグーヒドロキシ置換(/,3,J
a,7)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類
など;ベンゼンテオスルフオン酸、ヘンゼンスルフイン
酸、ヘンゼンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止
剤筐たぱ安定剤として知られた多くの化合物を加えるこ
とができる。これらのものの中で、好ましいのはペンゾ
トリアゾール類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾ
ール)及びニトロインダゾール類(例えばよ一二トロイ
ンタ゜ゾール)である。筐た\これらの化合物を処理液
に含有させてもよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばペンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインタ゜ゾール類、クロロペンズイミダソ
ーノレL i口モベンズイミグゾール類、メルカブト
テアソ゜−ル類、メルカブトベンゾチアゾール類、メル
カブトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベン
ンチアゾール類、ニトロペンゾトリアゾール類、など:
メルカブトピリミジ7類;メルカブトトリアジン類;た
とえばオキサゾリンチオン,のようなテオケト化合物;
アザインデン類、たとえばトリアザインデ/類、テトラ
アザインデン類(特にグーヒドロキシ置換(/,3,J
a,7)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類
など;ベンゼンテオスルフオン酸、ヘンゼンスルフイン
酸、ヘンゼンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止
剤筐たぱ安定剤として知られた多くの化合物を加えるこ
とができる。これらのものの中で、好ましいのはペンゾ
トリアゾール類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾ
ール)及びニトロインダゾール類(例えばよ一二トロイ
ンタ゜ゾール)である。筐た\これらの化合物を処理液
に含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層にgIF.械または有機の硬膜剤金含有して
よい。例えばクロム塩(クロムミ,ヨウバン)94 など)、アルデヒド類、グルタールアルデヒドなど)、
N−メチO−ル化合物(ジメテロール尿素、など)、ジ
オキサン誘導体、活性ビニル化合物(t,3,t−トリ
アクリロイルーへキサヒドロ−l−トリアジン、/,3
−ビニルスルホニル=2−プロパノールなど)、活性ノ
・ロゲン化合物(.,z,<z−ジクロルーt−ヒドロ
キシ−s−}リアジンなど)、ムコハロゲン酸類、など
を単独1たは組み合わせて用いることができる。
コロイド層にgIF.械または有機の硬膜剤金含有して
よい。例えばクロム塩(クロムミ,ヨウバン)94 など)、アルデヒド類、グルタールアルデヒドなど)、
N−メチO−ル化合物(ジメテロール尿素、など)、ジ
オキサン誘導体、活性ビニル化合物(t,3,t−トリ
アクリロイルーへキサヒドロ−l−トリアジン、/,3
−ビニルスルホニル=2−プロパノールなど)、活性ノ
・ロゲン化合物(.,z,<z−ジクロルーt−ヒドロ
キシ−s−}リアジンなど)、ムコハロゲン酸類、など
を単独1たは組み合わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層咬たは他
の親水性コロイド層にFi塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば
、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界
面活性剤を含んでも゜よい。
の親水性コロイド層にFi塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば
、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界
面活性剤を含んでも゜よい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリ=+ −ル、ポリエ
テレングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテルC4 又hポ
リエチレングリコールアルキ95 ルアリールエーテル類、ポリエチレングリコーノレエス
テル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル類
、ポリアルキレングリコールアノレキノレアミン又はア
ミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加物類
)、グリシドール誘導体(例えばアルケニルコノ・ク酸
ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリド)
、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキルエ
ステル類などの非イオン性界面活性剤;アルキノレカル
ボン酸塩、アルキルスルフオンQl、アノレキルベンゼ
ンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスル7オン酸塩
、ア−ルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル
類、N−アシルーN−アルキルタウリン類、スルホコノ
リ酸エステル類、スルホアルキルホリオキシエテレンア
ルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエテレンアルキ
ルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル碁、リン酸エステル基等
の酸性基t含むアニオン界向活住剤;アミノ酸類、アミ
ノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又はリ?
酸エステル類、アルキルベタイ7類、アミンオキシド類
などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪族あ
るいは芳香族■ψ級アンモニウム塩類、゜ピリジニウム
、イミダゾリウムなどの複素環第ψ級アンモニウム塩類
、及び脂肪族又は複累it含むホスホニウム又はスルホ
ニウム塩類などのカテオン界面活性剤を用いることがで
きる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリ=+ −ル、ポリエ
テレングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテルC4 又hポ
リエチレングリコールアルキ95 ルアリールエーテル類、ポリエチレングリコーノレエス
テル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル類
、ポリアルキレングリコールアノレキノレアミン又はア
ミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加物類
)、グリシドール誘導体(例えばアルケニルコノ・ク酸
ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリド)
、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキルエ
ステル類などの非イオン性界面活性剤;アルキノレカル
ボン酸塩、アルキルスルフオンQl、アノレキルベンゼ
ンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスル7オン酸塩
、ア−ルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル
類、N−アシルーN−アルキルタウリン類、スルホコノ
リ酸エステル類、スルホアルキルホリオキシエテレンア
ルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエテレンアルキ
ルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル碁、リン酸エステル基等
の酸性基t含むアニオン界向活住剤;アミノ酸類、アミ
ノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又はリ?
酸エステル類、アルキルベタイ7類、アミンオキシド類
などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪族あ
るいは芳香族■ψ級アンモニウム塩類、゜ピリジニウム
、イミダゾリウムなどの複素環第ψ級アンモニウム塩類
、及び脂肪族又は複累it含むホスホニウム又はスルホ
ニウム塩類などのカテオン界面活性剤を用いることがで
きる。
特に本発明に釦いて好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭まr−7ψ/.2号公報に記載された分子it o
o以上のポリアルキレどオキサイド類である。又、寸
度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマ
ーラテックスを含有せしめることができる。
公昭まr−7ψ/.2号公報に記載された分子it o
o以上のポリアルキレどオキサイド類である。又、寸
度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマ
ーラテックスを含有せしめることができる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤ちるいぱ造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭!3−7777J,同!
ψ−J77Ju,同33−/37,/JJ、同tO−/
ψ0,jグθ、同10−/≠7!タ、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
現像の促進剤としては、特開昭!3−7777J,同!
ψ−J77Ju,同33−/37,/JJ、同tO−/
ψ0,jグθ、同10−/≠7!タ、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
次に具体例七列挙する。
これらの停進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが/.OxlO −0.3?/m2、好寸し
ぐはj . OX / 0−3〜0 . / S’/m
2の範囲で用いるのが望1しい。これらの促進剤は適当
な溶媒(H20)メタノールやエタノール,などのアル
コール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセ
ルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
異なるが/.OxlO −0.3?/m2、好寸し
ぐはj . OX / 0−3〜0 . / S’/m
2の範囲で用いるのが望1しい。これらの促進剤は適当
な溶媒(H20)メタノールやエタノール,などのアル
コール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセ
ルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもヨイ。
本発明の・・ロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真
特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第r,a
ly,!73号に記載されたpH/3に近い高アルカリ
現像液を用いる必要はなぐ、安定な現像液を用いること
ができる。
特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第r,a
ly,!73号に記載されたpH/3に近い高アルカリ
現像液を用いる必要はなぐ、安定な現像液を用いること
ができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料ぱ\保恒剤と
しての亜硫酸イオンfO./ jモル/l以上含み、p
H/0.j〜/l.3、特にp H /7.0−/2.
0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ること
ができる。
しての亜硫酸イオンfO./ jモル/l以上含み、p
H/0.j〜/l.3、特にp H /7.0−/2.
0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ること
ができる。
本発明の方法にシいて用いうる現像主薬にぱ特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばノ・イ
ドロキノン)、3−ピラゾリドン類( 例1tf /
− 7エニルー3−ピラゾリドン、ψ,←−ジメチル−
/−フエニルー3−ピラゾリドン)、アミノフェノール
類(例えばN−メチルーp−アミノフェノール)などを
単独あるいは組み合わせてもちいることができる。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばノ・イ
ドロキノン)、3−ピラゾリドン類( 例1tf /
− 7エニルー3−ピラゾリドン、ψ,←−ジメチル−
/−フエニルー3−ピラゾリドン)、アミノフェノール
類(例えばN−メチルーp−アミノフェノール)などを
単独あるいは組み合わせてもちいることができる。
本発明のノ・ロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬と
してジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類寸たはアミノフェノール類を含む現像
液で処理されるのに適している。好1しぐはこの現偉液
にふ・いてジヒドロキシベンゼン類は0,OJ70.J
モル/l,3−ピラゾリドン類1たはアミノフェノール
類は0.0ぶモル/l以下の範囲で併用される。
してジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類寸たはアミノフェノール類を含む現像
液で処理されるのに適している。好1しぐはこの現偉液
にふ・いてジヒドロキシベンゼン類は0,OJ70.J
モル/l,3−ピラゾリドン類1たはアミノフェノール
類は0.0ぶモル/l以下の範囲で併用される。
1た米国特許ttlA992P号に記載されているよう
に、アミン類を現像液に添加することによって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実咬することもできる。
に、アミン類を現像液に添加することによって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実咬することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機力ブリ防止剤(特に好咬し〈はニトロイ
ンダゾール類咬たはペンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機力ブリ防止剤(特に好咬し〈はニトロイ
ンダゾール類咬たはペンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フイルムの銀
汚れ防止剤(例えば1−メルカブトベンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フイルムの銀
汚れ防止剤(例えば1−メルカブトベンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のもの金用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物金用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物金用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法に訃ける処理温度は普通/l 0cからj
O0Cの間に選ばれる。
O0Cの間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好1しいが、本発
明の方法によシ、感光材料を自動現像機102 に入れてから出てくるまでのトータルの処理時間をタO
秒〜/.2(7秒に設足しても、充分に超硬調のネガ階
調の写真特性が得られる。
明の方法によシ、感光材料を自動現像機102 に入れてから出てくるまでのトータルの処理時間をタO
秒〜/.2(7秒に設足しても、充分に超硬調のネガ階
調の写真特性が得られる。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭J A−
211−, JF7号に記載の化合物を用いることがで
きる。現像液中に添加する溶解助剤として特願昭tO−
/0タ,7ψ3号に記載の化合物を用いることができる
。さらに現像液に用いるpH緩衝剤として轡開昭AO−
51’J,ψ33号に記載の化合物あるいは″#t原亘
昭c(−yqtiJに記載の化合物を用いること力゛;
できる。
211−, JF7号に記載の化合物を用いることがで
きる。現像液中に添加する溶解助剤として特願昭tO−
/0タ,7ψ3号に記載の化合物を用いることができる
。さらに現像液に用いるpH緩衝剤として轡開昭AO−
51’J,ψ33号に記載の化合物あるいは″#t原亘
昭c(−yqtiJに記載の化合物を用いること力゛;
できる。
以下実施例により、本発明を詳しく説明する。
103
比較例1
(感光性乳剤の調整)
50゜Cに保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X1
0−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびア
ンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のP
Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.2
8μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分
散乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法に
より、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活
性ゼラチンを加えた後50゜Cに保ち増感色素として5
,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−
スルフォプロピル)オキサカルポシアニンと、銀1モル
当りio−′3モルのKl溶液に加え、15分間経時さ
せた後降温した。
0−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびア
ンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のP
Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.2
8μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分
散乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法に
より、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活
性ゼラチンを加えた後50゜Cに保ち増感色素として5
,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−
スルフォプロピル)オキサカルポシアニンと、銀1モル
当りio−′3モルのKl溶液に加え、15分間経時さ
せた後降温した。
(感光乳剤層の塗布)
この乳剤を再溶解し、40゜Cにて、次のヒドラジン誘
導体を添加し、 1′ε 7.IXIO−’モル/ボ 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1.3.3a,7−テトラザインデン、下記化合物(イ
)、(口)及びゼラチンに対して30wt%のボリエヂ
ルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合物(
ハ)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層
(0.5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(150μ)上に銀量3.4g/rdとなるように
塗布した。
導体を添加し、 1′ε 7.IXIO−’モル/ボ 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1.3.3a,7−テトラザインデン、下記化合物(イ
)、(口)及びゼラチンに対して30wt%のボリエヂ
ルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合物(
ハ)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層
(0.5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(150μ)上に銀量3.4g/rdとなるように
塗布した。
(イ)
3.5■/ボ
1 0 6
−107−
?ハ)
OH
CIl■=CIISO.CII■C II C II■
SO。CIl=CI+2ゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rd、ポリ
メチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3
g/mを次の界面活性剤を用いて塗布した。
SO。CIl=CI+2ゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rd、ポリ
メチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3
g/mを次の界面活性剤を用いて塗布した。
CHzCOOC6H+3
CHCOOC6Hl3
SO3Na
37■/rI′f
比較例2,
3
比較例1の感光乳剤層にレドックス化合物17、34を
各々2. O X 1 0−’ mol/rrf添加
し、その他は比較例1と同様であった。
各々2. O X 1 0−’ mol/rrf添加
し、その他は比較例1と同様であった。
比較例4,5.6
比較例1の感光乳剤層を、支持体の間にゼラチン1.5
g/ryf、感光性ハロゲン化銀乳剤(比較例1の感光
乳剤)Ag量で0.3g/if及びレドックス化合物1
7,34.38を各々2.OX10−’mol/nT含
むゼラチンU層を設けた。
g/ryf、感光性ハロゲン化銀乳剤(比較例1の感光
乳剤)Ag量で0.3g/if及びレドックス化合物1
7,34.38を各々2.OX10−’mol/nT含
むゼラチンU層を設けた。
実施例1
比較例4,5.6のゼラチンU層にハイドロキノン、1
−フェニル−3−ピラゾリドンを各々単独で100■/
ボ、10■/Mを添加した。
−フェニル−3−ピラゾリドンを各々単独で100■/
ボ、10■/Mを添加した。
これらの試料を、3200゜Kのタングステン光で光学
クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フイルム、1
50Lチェーンドット型)を通して露光後、次の現像液
で34゜C30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フイルム、1
50Lチェーンドット型)を通して露光後、次の現像液
で34゜C30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
得られたサンプルの網階調の測定結果を表1に示した。
網階調は次式で表わした。
*網階調−95%の網点面積率を与える露光量(j2o
gE95%)−5%の網点面積率を与える露光量(j2
ogE5%) 本発明のサンプルは比較例に比べて、網階調が著しく広
くなった。比較例2.3はGが10以下と著しく硬調性
が損なわれるのに対して、本発明のサンプルは高い硬調
性を維持している。
gE95%)−5%の網点面積率を与える露光量(j2
ogE5%) 本発明のサンプルは比較例に比べて、網階調が著しく広
くなった。比較例2.3はGが10以下と著しく硬調性
が損なわれるのに対して、本発明のサンプルは高い硬調
性を維持している。
また、綱点の形状は、比較例1のサンプルでは凹凸が目
立つ不規則な形状をし、また比較例2.3のサンプルで
は光学濃度が低く、ぼやけた状態である。そして比較例
4,5.6は網点のスムーズさが不十分である。ところ
が、本発明の実施例サンプルはスムーズな形状をし、か
つ光学濃度の高い網点であった。
立つ不規則な形状をし、また比較例2.3のサンプルで
は光学濃度が低く、ぼやけた状態である。そして比較例
4,5.6は網点のスムーズさが不十分である。ところ
が、本発明の実施例サンプルはスムーズな形状をし、か
つ光学濃度の高い網点であった。
現像液
実施例2
ポリエステルフィルム(150μ)支持体の上に、順次
、次の層を塗布した。
、次の層を塗布した。
(1)感光乳剤層一八
比較例−1に示した感光乳剤処方を用いて、銀量が0.
48g/nf及び現像主薬を塗布した。
48g/nf及び現像主薬を塗布した。
(2)中間層
ゼラチン 0.5g/ボボリエチ
ルアクリレートラテックス 0.1 5 本発明のレドックス化合物(表2に示す)(3)中間層 ゼラチン 0.5g/ボ(4)感
光乳剤層一B 比較例−1の感光乳剤層を銀量が3.4g/ボになるよ
うに塗布した。
ルアクリレートラテックス 0.1 5 本発明のレドックス化合物(表2に示す)(3)中間層 ゼラチン 0.5g/ボ(4)感
光乳剤層一B 比較例−1の感光乳剤層を銀量が3.4g/ボになるよ
うに塗布した。
結果を表2に示した。
1 1 3
綱点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1」は
実用不可能な品質である。
「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1」は
実用不可能な品質である。
表2に示した様に、本発明のサンプルは、高い網点品質
をもち、また網階調の広い網点画像を与える。
をもち、また網階調の広い網点画像を与える。
実施例3
50゜Cに保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り5.O
XIO−6モルの(Ntl4) 3RhC l bの存
在下で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混
合したのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩
を除去したのちにゼラチンを加え、化学熟戒せずに安定
化剤として2−メチル−4−ヒドロキシ−1.3.3a
,7−テトラザインデンを添加した。この乳剤は平均サ
イズが0,15μの立方品形をした単分散乳剤であった
。(乳剤B)この乳剤に次のヒドラジン化合物を添加し
15mg/ボ さらに表3に示した本発明の化合物及び現像主薬を添加
し、硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−プ
ロパノールを加え、ポリエステル支持体上に0.4g/
ifのAg量になる様に塗布した。ゼラチンは0.3g
/rdであった。この上に、ゼラチ0.5g/rrfの
中間層を塗布したのち、次の感光層を銀量が3.4g/
ボになるように塗布した。
XIO−6モルの(Ntl4) 3RhC l bの存
在下で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混
合したのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩
を除去したのちにゼラチンを加え、化学熟戒せずに安定
化剤として2−メチル−4−ヒドロキシ−1.3.3a
,7−テトラザインデンを添加した。この乳剤は平均サ
イズが0,15μの立方品形をした単分散乳剤であった
。(乳剤B)この乳剤に次のヒドラジン化合物を添加し
15mg/ボ さらに表3に示した本発明の化合物及び現像主薬を添加
し、硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−プ
ロパノールを加え、ポリエステル支持体上に0.4g/
ifのAg量になる様に塗布した。ゼラチンは0.3g
/rdであった。この上に、ゼラチ0.5g/rrfの
中間層を塗布したのち、次の感光層を銀量が3.4g/
ボになるように塗布した。
乳剤Bに、次のヒドラジン化合物を添加し、ポリエチル
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt
%添加し、硬膜剤として1,3ジビニルスルホニル−2
−プロパノールヲ2. 0wt%対ゼラチン添加した
。
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt
%添加し、硬膜剤として1,3ジビニルスルホニル−2
−プロパノールヲ2. 0wt%対ゼラチン添加した
。
この上に保護層としてゼラチン1.5g/mと、マット
剤として、ポリメチルメタクリレ−1・粒子(平均粒径
2.5μ)0.3g/ボ、さらに塗布助剤として次の界
面活性剤、安定剤、および紫外線吸収染料を含む保護層
を塗布し、乾燥した。
剤として、ポリメチルメタクリレ−1・粒子(平均粒径
2.5μ)0.3g/ボ、さらに塗布助剤として次の界
面活性剤、安定剤、および紫外線吸収染料を含む保護層
を塗布し、乾燥した。
界面活性剤
CHzCOOC6H+3
1
CHCOOC6Hl3
SO.Na
37■/ボ
安定剤
チオクト酸
紫外線吸収染料
2.1■/ボ
〉
このサンプルに大日本スクリーン■製明室プリンターP
−607で、第1図に示すような原稿を通して画像露光
し38゜C20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したの
ち、抜き文字画質の評価を行った。
−607で、第1図に示すような原稿を通して画像露光
し38゜C20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したの
ち、抜き文字画質の評価を行った。
抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用いて50%の網
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画質1
とは同様な適正露光を与える時l50IIm中以上の文
字しか再現することのできない画質を言い良くない抜文
字品質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランク
を設けた。3以上が実用し得るレベルである。
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画質1
とは同様な適正露光を与える時l50IIm中以上の文
字しか再現することのできない画質を言い良くない抜文
字品質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランク
を設けた。3以上が実用し得るレベルである。
結果を表3に示した。本発明のサンプルは抜文字画質が
優れる。
優れる。
?O■N(C4119)!
100■/ポ
第1図は、重ね返しによる抜文字画像形或を行なう場合
の、露光時構戒を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)透明もしくは
半透明の貼りこみベース(二)網点原稿(なお黒色部分
は網点を示す)(ホ)返し用感光材料(なお、斜線部は
感光層を示す)
の、露光時構戒を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)透明もしくは
半透明の貼りこみベース(二)網点原稿(なお黒色部分
は網点を示す)(ホ)返し用感光材料(なお、斜線部は
感光層を示す)
Claims (4)
- (1)ヒドラジン誘導体を含む少なくとも1種の感光性
ハロゲン化銀乳剤層と、酸化されることにより現像抑制
剤を放出しうるレドックス化合物を含む前記感光性ハロ
ゲン化銀層とは異なる親水性コロイド層を有し、さらに
現像主薬を前記ハロゲン化銀乳剤層又はその他の親水性
コロイド層の少なくとも一層に含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)レドックス化合物がレドックス基としてハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 - (3)レドックス化合物がレドックス基としてヒドラジ
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (4)レドックス化合物が下記一般式( I )で表わさ
れることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A_1、A_2はともに水素原子又は一方が水
素原子で他方はスルフィン酸残基もしくは▲数式、化学
式、表等があります▼(式中、R_0はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアリール
オキシ基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わ
す。Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1
を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。 Vはカルボニル基、▲数式、化学式、表等があります▼
、スルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、表等
があります▼(R_1はアルコキシ基またはアリールオ
キシ基を表わす。)イミノメチレン基、またはチオカル
ボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基またはヘテ
ロ環基を表わす。
Priority Applications (2)
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| US07/584,668 US5155006A (en) | 1989-09-19 | 1990-09-19 | Silver halide photographic material |
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|---|---|---|---|
| JP1242442A JP2881221B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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| JP2881221B2 JP2881221B2 (ja) | 1999-04-12 |
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1989
- 1989-09-19 JP JP1242442A patent/JP2881221B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1990
- 1990-09-19 US US07/584,668 patent/US5155006A/en not_active Expired - Lifetime
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